一种终点检测窗口和带窗口的化学机械抛光垫及制备方法技术

本发明专利技术涉及B24B，更具体地，本发明专利技术涉及一种终点检测窗口和带窗口的化学机械抛光垫及制备方法。所述窗口侧面设有若干个周向槽；本发明专利技术提供一种具有特殊设计侧面结构的柱形窗口，并与抛光垫一体浇注成型制造具有窗口/抛光垫高结合强度的化学机械抛光垫。柱形窗口的侧面有机器加工形成的多道槽结构，不仅增加了窗口与抛光垫的结合接触面积，而且浇注入槽内的抛光垫本体材料固化成型后形成凸状结构、与窗口材料的槽结构之间形成嵌扣式结合方式，极大地增大了抛光垫与窗口之间的结合强度。本发明专利技术提供的窗口和抛光垫避免了窗口与抛光垫传统结合方式带来的窗口裂隙、裂痕、脱落甚至抛光液渗漏等风险，提高了抛光垫的良品率和耐用性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
一种终点检测窗口和带窗口的化学机械抛光垫及制备方法


[0001]本专利技术涉及B24B，更具体地，本专利技术涉及一种终点检测窗口和带窗口的化学机械抛光垫及制备方法。

技术介绍

[0002]化学机械抛光垫是半导体芯片制造工艺中用到一种关键耗材，抛光终点检测窗口是化学机械抛光垫的一个重要组成结构。抛光垫窗口和抛光垫的结合方式一般有两种，一种是使用热敏胶或压敏胶粘合的方式，另一种是将窗口材料置于模具中与抛光垫材料一体浇注、窗口被抛光垫材料从四周内埋包裹而结合在一起的方式。
[0003]目前抛光垫和窗口的研究主要集中在其材料中，如CN108723983B提供一种用于抛光例如半导体衬底的化学机械(CMP)抛光垫，具有一个或多个在2mm厚度下将具有325nm或更低波长下的UV截断的终点检测窗口(窗口)，但很少有对窗口结构进行改进，其中使用的窗口一般与抛光垫接触面是光滑的设计，如图1所示。
[0004]但使用上述传统方法制造的含有光滑接触面窗口的化学机械抛光垫，在加工和使用过程中时常会发生窗口与抛光垫之间结合不紧固的情况，导致窗口结合处出现缝本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种终点检测窗口，其特征在于，所述窗口侧面设有若干个周向槽，所述槽的周向最大凹陷深度R为0.5～3mm。2.根据权利要求1所述的终点检测窗口，其特征在于，所述槽的径向最大宽度L大于等于R。3.根据权利要求1所述的终点检测窗口，其特征在于，所述槽的凹陷面积小于等于2R2。4.根据权利要求1所述的终点检测窗口，其特征在于，所述槽的径向最大宽度L小于等于5R。5.根据权利要求1所述的终点检测窗口，其特征在于，所述槽的形状选自弧形、多边形、波浪形中的一种或多种；所述多边形选自三角形、矩形、锯齿形中的一种或多种。6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：相红旗，施建国，陈凯，姚力军，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：