一种间歇式加热制备分离膜的方法技术

本发明专利技术公开了一种间歇式加热制备分离膜的方法，属于新材料制备技术领域。本方法将加热过程进行间歇式加热设计和控制，主要通过预先将多孔基质材料和合成液置于反应釜中，随后将反应釜密封后置于加热设备中，加热设备在某一温度加热一段时间后，突然停止设备加热，等待一段时间后，恢复设备加热一段时间，以此将停止设备加热一段时间和恢复设备加热一段时间这一间歇式加热过程执行单次或多次，整个间歇式加热过程中反应釜一直处于加热设备中，不对反应釜做额外处理，待反应结束后，从反应釜中取出基质材料，经洗涤、干燥得到分离膜。通过本发明专利技术制备的分离膜膜层致密，无缺陷，厚度薄，亦可通过本发明专利技术进一步缩短制备高质量分离膜的合成时间。的合成时间。的合成时间。

【技术实现步骤摘要】
一种间歇式加热制备分离膜的方法


[0001]本专利技术属于新材料制备
，涉及到一种分离膜的制备方法，特别是提供一种间歇式加热制备分离膜的方法。

技术介绍

[0002]分离膜是一种具有选择性透过能力的膜型材料，可广泛用于气体分离、液体分离、气液分离和膜催化。
[0003]分离膜可以分为自支撑分离膜和非自支撑分离膜。非自支撑分离膜主要利用多孔基质材料作为载体，首先将载体和合成液一起置于反应釜中，再在一定温度和压力下在载体表面制得分离膜层。目前制备分离膜的加热方式主要采用连续式加热。连续式加热过程中，合成液中一些较大晶体颗粒与非晶颗粒容易进入或嵌入膜层，易使得膜层厚度变厚和产生晶间缺陷，另一方面，合成液中不同时期产生的晶核进行着不同时间的晶体生长过程，形成不同尺寸大小的晶体颗粒，这些不同尺寸大小的晶体颗粒构成膜层时也容易产生晶间缺陷。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种间歇式加热制备分离膜的方法。利用该方法减少较大晶体颗粒与非晶颗粒进入或嵌入膜层，提高晶体颗粒大小均匀度，降低膜层厚度和避免晶间缺陷产生本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种间歇式加热制备分离膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：将多孔基质材料与合成液置于反应釜中，密封反应釜并将反应釜置于加热设备中；步骤二：执行间歇式加热过程单次或多次；其中，加热设备在某一温度加热一段时间后，突然停止设备加热，等待一段时间后，恢复设备加热一段时间，以此将停止设备加热一段时间和恢复设备加热一段时间称为间歇式加热过程；步骤三：待反应结束后，从反应釜中取出基质材料用清水冲洗至洁净，再经过干燥后得到分离膜。2.根据权利要求1所述的一种间歇式加热制备分离膜的方法，其特征在于，在步骤一之前，对所述多孔基质材料进行预涂晶核、功能化修饰、改性预处理。3.根据权利要求1所述的一种间歇式加热制备分离膜的方法，其特征在于，在步骤一之前，在多孔基质材料外表面制备丝光分子筛膜，并用热浸渍法预先在多孔基质材料表面引入丝光分子筛晶核。4.根据权利要求1所述的一种间歇式加热制备分离膜的方法，其特征在于，步骤一中所述多孔基质材料的材质为无机物、有机物或复合材料。5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：李良清，李良松，
申请(专利权)人：黄山学院，
类型：发明
国别省市：