【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种金属膜形成方法，其特征在于具有下列工序： （ａ１）在基板上设置由具有与金属离子或金属盐相互作用的官能团、且与该基板直接化学键合的聚合物构成的聚合物层的工序， （ａ２）在上述聚合物层上提供金属离子或金属盐的工序， （ａ３）还原上述金属离子或金属盐，形成表面电阻率为１０～１００ｋΩ／□的导电层的工序， （ａ４）通过电镀，形成表面电阻率为１×１０↑［－１］Ω／□以下的导电层的工序。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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