成像光学系统、相机模块及电子装置制造方法及图纸

一种成像光学系统、相机模块及电子装置，成像光学系统沿一中心光路依序包含一红外光吸收元件、一红外光减少膜层及一平板元件。红外光吸收元件为红外光吸收塑胶元件，且红外光吸收元件用以折射光线。红外光减少膜层较红外光吸收元件的一入光面靠近成像光学系统的一成像面。平板元件设置于红外光减少膜层与成像面之间且为一体成型，平板元件包含一透光部与一支架部，其中透光部与成像面对应设置，支架部环绕透光部，使透光部保持于中心光路上的一特定位置。借此，可改善光学品质。可改善光学品质。可改善光学品质。

【技术实现步骤摘要】
成像光学系统、相机模块及电子装置


[0001]本揭示内容是关于一种成像光学系统与相机模块，且特别是一种应用在可携式电子装置上的成像光学系统与相机模块。

技术介绍

[0002]近年来，可携式电子装置发展快速，例如智能电子装置、平板计算机等，已充斥在现代人的生活中，而装载在可携式电子装置上的相机模块与其成像光学系统也随之蓬勃发展。但随着科技愈来愈进步，使用者对于成像光学系统与相机模块的品质要求也愈来愈高。
[0003]具体而言，现有相机模块中，滤光片设置于成像镜头与感光元件之间，其中滤光片可用于过滤红外光、紫外光等，但不以此为限。滤光片通常亦可用于保护感光元件，避免微尘附着于感光元件的感光面。然而，滤光片在强光照射的情况下容易形成鬼影，且由于组装需求及对滤除光线的需求，故滤光片的尺寸受到限制，进而影响成像光学系统的后焦，导致设计高品质、小体积的成像光学系统变得困难。因此，发展一种可提升设计自由度的成像光学系统遂成为产业上重要且急欲解决的问题。

技术实现思路

[0004]本揭示内容提供一种成像光学系统、相机模块及电子装置，通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成像光学系统，其特征在于，沿一中心光路依序包含：一红外光吸收元件，为红外光吸收塑胶元件，且该红外光吸收元件用以折射光线；一红外光减少膜层，较该红外光吸收元件的一入光面靠近该成像光学系统的一成像面；以及一平板元件，设置于该红外光减少膜层与该成像面之间且为一体成型，该平板元件包含一透光部与一支架部，其中该透光部与该成像面对应设置，该支架部环绕该透光部，使该透光部保持于该中心光路上的一特定位置；其中，该平板元件还包含一疏密结构层，该疏密结构层设置于该透光部的一入光面与一出光面中至少一者，该疏密结构层往一空气方向渐疏，且在该透光部的该入光面与该出光面中至少该者形成多个孔洞；其中，该疏密结构层的主要材质为陶瓷，且该疏密结构层对波长区间420nm至680nm的一光线的平均反射率小于0.98％；其中，该疏密结构层的晶体平均高度为GH，该成像光学系统的焦距为f，该红外光吸收元件与该红外光减少膜层沿该中心光路的距离为L1，该红外光减少膜层与该疏密结构层沿该中心光路的距离为L2，其满足以下条件：60nm≤GH≤400nm；0.0≤L1/f≤0.21；以及0.21≤L2/f。2.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该疏密结构层对波长区间400nm至900nm的一光线的平均反射率小于0.98％。3.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该疏密结构层对波长区间400nm至900nm的一光线的平均反射率小于0.5％。4.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该疏密结构层的晶体平均高度为GH，其满足下列条件：120nm≤GH≤300nm。5.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，还包含：一中介层，连接该疏密结构层与该平板元件；其中，该中介层通过所述多个孔洞中至少一者与空气接触。6.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该红外光减少膜层设置于该红外光吸收元件的一出光面。7.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，还包含：一膜层设置元件，设置于该红外光吸收元件的一像侧；其中，该红外光减少膜层设置于该膜层设置元件的一入光面与一出光面中其中一者。8.如权利要求7所述的成像光学系统，其特征在于，该膜层设置元件紧邻该红外光吸收元件。9.如权利要求8所述的成像光学系统，其特征在于，还包含：一胶体，粘合该红外光吸收元件与该膜层设置元件。10.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该平板元件的该支架部为不透光塑胶支架部。
11.如权利要求10所述的成像光学系统，其特征在于，该平板元件通过埋入射出或二次射出的方式一体成型。12.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该平板元件还包含一遮光部，且该遮光部与该透光部毗邻设置。13.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该疏密结构层同时设置于该透光部的该入光面与该出光面。14.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该疏密结构层同时设置于该支架部的一表面的至少一部分。15.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该成像光学系统的焦距为f，该透光部的厚度为THI，其满足以下条件：0.005≤THI/f≤0.35。16.一种相机模块，其特征在于，包含：如权利要求1的成像光学系统；以及一感光元件，设置于该成像光学系统的该成像面。17.一种电子装置，其特征在于，包含：至少一如权利要求16所述的相机模块。18.一种成像光学系统，其特征在于，沿一中心光路依序包含：一红外光吸收元件，为红外光吸收塑胶元件，且该红外光吸收元件用以折射光线；一红外光减少膜层，较该红外光吸收元件的一入光面靠近该成像光学系统的一成像面；一平板元件，设置于该红外光减少膜层与该成像面之间且为一体成型，该平板元件包含一透光部与一支架部，其中该透光部与该成像面对应设置，该支架部环绕该透光部，使该透光部保持于该中心光路上的一特定位置；以及一抗反射多膜层，设置于该透光部的一入光面与一出光面中至少一者，其中该抗反射多膜层包含多个高折射率层及多个低折射率层，且所述多个高折射率层及所述多个低折射率层交替堆叠；其中，该抗反射多膜层对波长区间420nm至680nm的一光线的平均反射率小于0.98％；其中，该成像光学系统的焦距为f，该红外光吸收元件与该红外光减少膜层沿该中心光路的距离为L1，该红外光减少膜层与该抗反射多膜层沿该中心光路的距离为L2'，其满足以下条件：0.0≤L1/f≤0.21；以及0.21≤L2'/f。19.如权利要求18所述的成像光学系统，其特征在于，该抗反射多膜层对波长区间400nm至900nm的一光线的平均反射率小于0.98％。20.如权利要求18所述的成像光学系统，其特征在于，该红外光减少膜层设置于该红外光吸收元件的一出光面。21.如权利要求18所述的成像光学系统，其特征在于，还包含：一膜层设置元件，设置于该红外光吸收元件的一像侧；其中，该红外光减少膜层设置于该膜层设置元件的一入光面与一出光面中其中一者。
22.如权利要求21所述的成像光学系统，其特征在于，该膜层设置元件紧邻该红外光吸收元件。23.如权利要求22所述的成像光学系统，其特征在于，还包含：一胶体，粘合该红外光吸收元件与该膜层设置元件。24.如权利要求18所述的成像光学系统，其特征在于，该平板元件的该支架部为不透光塑胶支架部。25.如权利要求24所述的成像光学系统，其特征在于，该平板元件通过埋入射出或二次射出的方式一体成型。26.如权利要求18所述的成像光学系统，其特征在于，该平板元件还包含一遮光部，且该遮光部与该透光部毗邻设置。27.如权利要求18所述的成像光学系统，其特征在于，该抗反射多膜层同时设置于该透光部的该入光面与该出光面。28.如权利要求18所述的成像光学系统，其特征在于，该抗反射多膜层同时设置于该支架部的一表面的至少一部分。29.如权利要求18所述的成像光学系统，其特征在于，该成像光学系统的焦距为f，该透光部的厚度为THI，其满足以下条件：0.005≤THI/f≤0.35。30.一种相机模块，其特征在于，包含：如权利要求18的成像光学系统；以及一感光元件，设置于该成像光学系统的该成像面。31.一种电子装置，其特征在于，包含：至少一如权利要求30所述的相机模块。32.一种成像光学系统，其特征在于，沿一中心光路依序包含：一红外光吸收元件，为红外光吸收塑胶元件，且该红外光吸收元件用以折射光线；一红外光减少膜层，较该红外光吸收元件的一入光面靠近该成像光学系统的一成像面；一平板元件，包含一透光部与一支架部，其中该透光部设置于该红外光减少膜层与该成像面之间，该透光部与该成像面对应设置，该支架部环绕该中心光路，且该支架部与该透光部结合为一体，使该透光部保持于该中心光路上的一特定位置；以及一低反射膜层，设置于该透光部的一入光面与一出光面中至少一者，且同时披覆该支架部的至少一部分；其中，该低反射膜层对波长区间420nm至680nm的一光线的平均反射率小于0.98％；其中，该成像光学系统的焦距为f，该红外光吸收元件与该红外光减少膜层沿该中心光路的距离为L1，该红外光减少膜层与该低反射膜层沿该中心光路的距离为L2”，其满足以下条件：0.0≤L1/f≤0.21；以及0.21≤L2”/f。33.如权利要求32所述的成像光学系统，其特征在于，该低反射膜层包含一抗反射多膜层，该抗反射多膜层包含多个高折射率层及多个低折射率层，且所述多个高折射率层及所
述多个...

【专利技术属性】
技术研发人员：张沛颀，张建邦，赖昱辰，周明达，蔡温祐，朱国强，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：