在超紫外光源中气体喷射控制的护罩喷嘴制造技术

用于超紫外线源的气体喷嘴（２０，６０）包括一壳体（２２，６２），该壳体有一前表面（２４，６４）和后表面（２６，６６）。壳体（２２，６２）可连接于主气体源（４４）和副气体源（４６），并适于从壳体前表面（２４，２６）喷出主气体（３６，７６）和副气体（４２，８２）。壳体（２２，６２）具有设在壳体内中央的排气的主通道（３０，７０）和接近于主通道（３０，７０）的排气的副通道。主通道（３０，７０）可为圆形，副通道（３４，７４）可为包围主通道（３０，７０）的环形。从副通道（３４，７４）排出的副气体流（４２，８２）限制从主通道（３０，７０）排出的主气体流（３６，７６）的侧向膨胀，使气体喷射性质最佳化并减少喷嘴（２０，６０）的受热和侵蚀。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
用于超紫外线（ＥＵＶ）源的气体喷嘴，包括： 一个壳体，它适于连接于一个主气体源并适于排出第一气体／微滴流，所述壳体包括一条设置在所述壳体内、适于排出所述第一气体／微滴流的主通道，所述壳体还包括一条副通道，该副通道适于连接于一个副气体源并适于排出第二气体流，以便使主通道排出的第一气体流成形。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：罗伊D麦格雷戈，小查尔斯W克伦德宁，
申请(专利权)人：TRW公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]