一种增益光纤及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种增益光纤及其制备方法。所述增益光纤包括芯层和非圆包层；所述芯层和非圆包层之间具有基座；所述基座的折射率处于芯层折射率和非圆包层的折射率之间；并且所述基座由内而外包括：折射率均匀的基座平台层、以及折射率沿径向由内而外渐变降低的基座渐变层。本发明专利技术提供的增益光纤，增加了泵浦光纤吸收效率，减少了器件所需的增益光纤长度，有利于器件小型化。本发明专利技术给提供的增益光纤的制备方法，针对增益光纤复杂的基座折射率剖面设计，结合PCVD法沉积基座、MCVD法沉积芯层，从而高效的制备复杂折射率剖面的增益光纤，提高生产效率和光纤质量。产效率和光纤质量。产效率和光纤质量。

【技术实现步骤摘要】
一种增益光纤及其制备方法


[0001]本专利技术属于光纤通讯
，更具体地，涉及一种增益光纤及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着无人驾驶新技术的快速发展，激光雷达技术也实现了飞速发展，应用于激光雷达的1550nm光纤激光器因为具有人眼安全、抗干扰能力强、探测距离远、光束质量好等有点，成为激光雷达光源的首要选择。目前主要的1550nm光纤激光器用光增益纤为高掺杂的铒镱共掺光纤，市场对其性能和成本提出了更高的要求。
[0003]其中对于车载激光雷达的小型化需求，对光纤激光器的增益光纤弯曲性能提出了更高的要求，同时需要泵浦光纤吸收效率进一步提高。一般来说，为了达到高功率激光输出，需要增益光纤长度较长，而在较小的弯曲半径下增益光纤的信号光的弯曲损耗增加，这些问题导致进一步减小光纤激光器的体积十分困难。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的以上缺陷或改进需求，本专利技术提供了一种增益光纤及其制备方法，其目的在于在芯层和非圆包层之间设计具有平台层和渐变层的基座，从而使得泵浦光的能量分配向心聚集，有效的提高了泵浦光的吸收本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种增益光纤，其特征在于，包括芯层和非圆包层；所述芯层具有稀土离子掺杂；所述非圆包层的横截面外轮廓为非圆形且折射率均匀；所述芯层的折射率大于所述非圆包层的折射率；所述芯层和非圆包层之间具有基座；所述基座的折射率处于芯层折射率和非圆包层的折射率之间；并且所述基座由内而外包括：折射率均匀的基座平台层、以及折射率沿径向由内而外渐变降低的基座渐变层。2.权利要求1所述的增益光纤，其特征在于，所述基座渐变层，其横截面外轮廓为圆形，其外径与芯层外径之比在3.5
‑
3.75之间，其外径在14
‑
189μm之间。3.如权利要求1所述的增益光纤，其特征在于，所述基座渐变层折射率最小值与非圆包层的折射率相同，其折射率最大值与基座平台层相同。4.如权利要求1所述的增益光纤，其特征在于，所述基座渐变层折射率层抛物线下降，其为含有P、Ge、和F的石英层。5.如权利要求4所述的增益光纤，其特征在于，所述基座渐变层的折射率分布如下式：渐变层的折射率分布如下式，折射率的分布函数如下式，n(a)为基座渐变层的折射率，n2为基座平台层的折射率，n1非圆包层折射率，Δ0为基座平台层与非圆包层之间的相对折射率差，R为基座平台层的半径，a为离开光纤芯层的距离，b是渐变层的半径，α范围在1.9～2.2之间；2.2之间；6.权利要求1所述的增益光纤，其特征在于，所述基座平台层，其横截面外轮廓为圆形，其外径与芯层外径之比在2.5
‑
2.75之间，其外径在10
‑
138μm之间。...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟力，蓝碧蛟，杨晨，汪松，罗杰，喻春雯，
申请(专利权)人：长飞光纤光缆股份有限公司，
类型：发明
国别省市：