【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于一种电浆产生装置，更特定言之，本专利技术是关 于一种具清洁功能的电浆产生装置。
技术介绍
电浆的使用目前已经商业化而可广泛应用于半导体与TFT-LCD制程中的蚀刻、清洗与光阻灰化等步骤以及辅助化学 气相沉积反应中的氮化硅膜、非晶硅膜、微晶硅膜、二氧化硅膜、 钻石膜、类钻膜以及纳米碳管成长制程。此外，于其它一般民生 用品的制造工业中，电浆更可应用于防与排汗布料的表面处理。一般较常使用的电浆产生方式是采用直流放电制程、包含低 频及中频的射频放电制程与微波放电制程，其中低频及中频放电 所利用的频率范围是自数KHz至数MHz之间，微波放电所采用 的频率则通常是2.45GHz,且微波放电制程因所须的系统结构成 本较低而较受产业界所采行。送天线提供微波而制造电浆，进而于辅助化学气相沉积反应中产 生如钻石膜或类钻膜的镀膜，其中由于在辅助化学气相沉积过程 中所产生的该镀膜很容易会附着于处理腔室的内部腔壁，并造成 处理腔室中微波输入端的有效泄露区间缩减而导至电浆有效强 度相应减小，因此为了能维持电浆的有效强度而获得良好品质的 镀膜，需要使造成微波有效泄露区间缩减的...
【技术保护点】
一种电浆产生装置，用以提供一电浆以清洁一绝缘板，该电浆产生装置包含： 至少一电磁波产生器，用以透过该绝缘板以产生该电浆；以及 一可动部件，用以结合于该绝缘板并形成一封闭空间而容置该电浆，以使该电浆清洁该绝缘板。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林瑞堉，王腾纬，郭明村，寇崇善，黄崇杰，俞志杰，
申请(专利权)人：台达电子工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。