【技术实现步骤摘要】
显示装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2021年7月26日提交的第10
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2021
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0098111号韩国专利申请的优先权及从其获取的所有权益，上述韩国专利申请的内容通过引用全部并入本文。
[0003]一个或多个实施例涉及一种显示装置。
技术介绍
[0004]近来，因为显示装置已经变得更薄且更轻质，所以显示装置被广泛地用于各种领域中。
[0005]在显示装置中，通过增大显示装置的显示区域所占据的面积，已经将各种功能连接或链接到显示装置。因此，已经对具有用于在显示图像的同时执行各种功能的组件区域的显示装置进行了研究，以进一步增大所述面积并增加各种功能。
技术实现思路
[0006]一个或多个实施例包括一种显示装置和一种制造显示装置的方法，在所述显示装置中，改善了被包括在组件区域中的透射区域的透光率并且改善了显示装置的可靠性。
[0007]根据一个或多个实施例，一种显示装置包括：基底，包括显示区域、与所述显示区域相邻的组件区...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：基底，包括显示区域、与所述显示区域相邻的组件区域和与所述显示区域相邻的非显示区域，所述显示区域包括第一像素区域，其中，所述组件区域包括第二像素区域和透射区域，并且所述非显示区域包括弯曲区域；第一无机层，位于所述基底上，其中，与所述弯曲区域重叠的下开口被限定为穿过所述第一无机层；阻挡层，位于所述第一无机层上，其中，与所述透射区域重叠的阻挡层开口和与所述下开口重叠的中间开口被限定为穿过所述阻挡层；以及显示元件层，位于所述阻挡层上，其中，所述显示元件层包括与所述第一像素区域重叠的第一显示元件和与所述第二像素区域重叠的第二显示元件。2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第一无机层连续地布置在所述透射区域中，并且其中，所述第一无机层的与所述透射区域重叠的部分的厚度小于所述第一无机层的与所述第二像素区域重叠的另一部分的厚度。3.根据权利要求1或2所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括：像素电路层，位于所述阻挡层和所述显示元件层之间，其中，所述像素电路层包括：第一半导体层，位于所述阻挡层上，其中，所述第一半导体层包括硅半导体；第一无机绝缘层，位于所述第一半导体层上，其中，与所述阻挡层开口重叠的第一绝缘层开口被限定为穿过所述第一无机绝缘层；第二半导体层，位于所述第一无机绝缘层上，其中，所述第二半导体层包括氧化物半导体；以及第二无机绝缘层，位于所述第二半导体层上，其中，与所述阻挡层开口重叠的第二绝缘层开口被限定为穿过所述第二无机绝缘层。4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，所述像素电路层还包括位于所述阻挡层和所述第一无机绝缘层之间并且与所述透射区域重叠的半导体图案，并且所述半导体图案和所述第一半导体层包括彼此相同的材料。5.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，所述像素电路层还包括位于所述第一无机绝缘层和所述第二无机绝缘层之间并且与所述透射区域重叠的半导体图案，并且所述半导体图案和所述第二半导体层包括彼此相同的材料。6.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，所述第二绝缘层开口包括上绝缘层开口和下绝缘层开口，所述下绝缘层开口比所述上绝缘层开口更靠近所述第一无机层，并且所述上绝缘层开口的尺寸小于所述下绝缘层开口的尺寸。7.根据权利要求1或2所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括：像素电路层，位于所述阻挡层和所述显示元件层之间，其中，所述像素电路层包括：
第一金属层，与所述第一像素区域重叠并且具有第一厚度；第二金属层，与所述第二像素区域重叠并且具有不同于所述第一厚度的第二厚度；下阻挡层，位于所述第二金属层下方；以及第二无机层，与所述透射区域重叠的无机层开口被限定为穿过所述第二无机层，其中，所述第一金属层和所述第二金属层中的...
【专利技术属性】
技术研发人员：裵水斌，郑多云，丁有光，赵晟原，车明根，崔相虔，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：新型
国别省市：
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