电离辐射的以扫描为基础的探测中的曝光控制制造技术

一种用于记录目标的２Ｄ图像的设备，所述设备包括多个１Ｄ探测器单元（４１），当穿过或散射所述目标时，每个１Ｄ探测器单元（４１）都暴露于电离辐射，并且所述１Ｄ探测器单元（４１）被布置得用于它们所暴露于其处的各个电离辐射的一维成像。所述探测器单元被分布在密集阵列中以使得来自于所述探测器单元中的电离辐射的１Ｄ图像被分布在２Ｄ图像的主要部分上。所述设备包括：当所述探测器单元重复检测以形成所述目标的２Ｄ图像时用于使得所述探测器单元相对于所述目标移动的装置（８７－８９、９１）；以及控制装置，所述控制装置用于（ｉ）控制所述探测器单元以便于在移动的初始部分之前或期间在短时间内检测电离辐射、（ｉｉ）计算以短时间检测为基础的重复检测的最优曝光时间；以及（ｉｉｉ）控制重复检测以便于自动地获得最优曝光时间。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术通常涉及用于以扫描为基础的二维辐射探测的设备和方法，更具体地说，本专利技术涉及其中用于获得最优图像质量的自动曝光控制。
技术介绍
在数字医疗X射线诊断中，必须仔细地控制所使用的X射线辐射时间、辐射能量以及辐射通量，以便于获得所记录图像的最优质量。必须将曝光选择得在不会曝光过度(即，探测器饱和)的情况下使得图像具有高信号噪声比以及高动态范围。控制感光二维探测器阵列(诸如CCD)的曝光的一个方法明显在于，记录图像、相对于所获得的信号强度和对比度对其进行分析，然后调节曝光，之后记录第二高质量图像。虽然这样一种方法可用于高质量图像的记录，但是该方法无疑会遇到一些缺点。首先，该方法比较耗时在中间分析和调节的情况下必须为所要形成图像的每个目标区域进行两次读出。另外，由于被曝光以辐射两次，因此所要形成图像的目标区域辐射剂量更高了。Yanaki在U.S.Re.33,634中披露的另一种方法借助于传感器对总曝光时间的一小部分期间穿过待检查目标的辐射进行了采样并且调节曝光时间和X射线源的电压、电流和焦斑尺寸，以使得在曝光其余时间期间由X射线管输送的辐射将在待检查目标的结构之间产生最优对比度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于记录目标的二维图像的以扫描为基础的辐射探测器设备，所述辐射探测器设备包括多个一维探测器单元（４１），当穿过或散射所述目标时每个一维探测器单元（４１）都暴露于电离辐射，并且所述一维探测器单元（４１）被布置得用于它们所暴露于其处的各个电离辐射的一维成像，其特征在于，－所述多个一维探测器单元被分布在密集阵列中以使得来自于所述多个一维探测器单元中的电离辐射的一维图像被分布在待记录的二维图像的主要部分上，其中－所述以扫描为基础的辐射探测器设备还包括：－当 所述多个一维探测器单元被被布置得用于重复检测从而形成所述目标的二维图像时用于使得所述一维探测器单...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：T弗兰克，S通贝里，
申请(专利权)人：爱克斯康特公司，
类型：发明
国别省市：SE[瑞典]