一种反应罐内杂质去除装置制造方法及图纸

技术编号:37159173 阅读:20 留言:0更新日期:2023-04-06 22:22
本发明专利技术涉及化工领域,具体是一种反应罐内杂质去除装置,包括同轴固定在反应罐内壁上并可沿反应罐内壁铅垂运动的除杂筒,除杂筒的筒腔内沿径向均匀布置有除杂模块;除杂模块包括刮耙以及对称布置在刮耙两侧的驱动杆,两所述驱动杆沿除杂筒径向布置,两所述驱动杆的杆身之间通过呈扇形的滤膜连接,两所述驱动杆可沿除杂筒周向产生相向或背向运动以展开或收起滤膜,各所述滤膜均展开后配合形成圆形滤面以完全覆盖反应罐的液面;所述滤膜完全展开时,刮耙位于滤膜上方,所述滤膜收起后,刮耙可沿铅垂方向运动以刮除滤膜表面的杂质;本发明专利技术可自动去除反应罐内液面上方的杂质,避免杂质影响反应罐内的反应速率。响反应罐内的反应速率。响反应罐内的反应速率。

【技术实现步骤摘要】
一种反应罐内杂质去除装置


[0001]本专利技术涉及化工领域,具体是一种反应罐内杂质去除装置。

技术介绍

[0002]反应罐广泛应用于石油、化工、食品、医药、农药、科研等行业,可用于完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程,是一种耐高温、耐腐蚀的反应容器。
[0003]当进行特定化学反应时,反应罐液面上会产生沉淀等漂浮的杂质,例如在铜电解精炼过程中,电解液中的As、Sb离子主要以AsO3‑4、SbO3‑3或以AsO3‑3、SbO3‑4形式存在,在反应过程中会形成漂浮的沉淀阳极泥而导致反应速率降低;反应罐内各类不同的化学反应均有可能在液面上生成杂质而影响正常的反应速率,反应过程中杂质不易清除,因此亟待解决。

技术实现思路

[0004]为了避免和克服现有技术中存在的技术问题,本专利技术提供了一种反应罐内杂质去除装置。本专利技术可自动去除反应罐内液面上方的杂质,避免杂质影响反应罐内的反应速率。
[0005]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:
[0006]一种反应罐内杂质去除装置,包括同轴固定在反应罐内壁上并可沿反应罐内壁铅垂运动的除杂筒,除杂筒的筒腔内沿径向均匀布置有除杂模块;
[0007]除杂模块包括刮耙以及对称布置在刮耙两侧的驱动杆,两所述驱动杆沿除杂筒径向布置,两所述驱动杆的杆身之间通过呈扇形的滤膜连接,两所述驱动杆可沿除杂筒周向产生相向或背向运动以展开或收起滤膜,各所述滤膜均展开后配合形成圆形滤面以完全覆盖反应罐的液面;所述滤膜完全展开时,刮耙位于滤膜上方,所述滤膜收起后,刮耙可沿铅垂方向运动以刮除滤膜表面的杂质;
[0008]所述除杂筒上沿反应罐轴向布置有随除杂筒同步升降的收集罐,所述收集罐布置在除杂模块下方且顶部开口以收集滤膜上被刮除的杂质;除杂筒上还设置有将滤膜表面刮除的杂质喷扫至收集罐内的高压喷嘴。
[0009]作为本专利技术进一步的方案:所述刮耙包括两组彼此铰接以构成V型开合构造的刮板,两所述刮板的铰接轴线沿除杂筒径向布置,两所述刮板的开合方向朝向滤膜的膜面方向,两所述刮板之间通过扭簧连接以使得两刮板可被撑开以构成“八”字型排布,两所述驱动杆相向运动以收起滤膜后,两所述刮板的板端与滤膜的膜面抵接。
[0010]作为本专利技术再进一步的方案:所述除杂模块还包括沿铅垂方向开设在除杂筒筒壁上的第二导轨,刮耙通过驱动座固定在第二导轨上从而可沿第二导轨铅垂滑动。
[0011]作为本专利技术再进一步的方案:所述高压喷嘴固定在驱动座上并位于刮耙下方,高压喷嘴可沿除杂筒径向喷射高速气流;所述刮耙沿铅垂方向向下运动时,刮耙与滤膜的膜面围合形成逐渐收拢的杂质储腔,杂质储腔的一端朝向高压喷嘴,另一端朝向收集罐的罐腔。
[0012]作为本专利技术再进一步的方案:沿铅垂向下的运动方向,所述高压喷嘴的喷射速度
逐渐提高,所述刮耙运动至最低点时,杂质储腔相邻高压喷嘴一侧的开口位于高压喷嘴的喷射范围内。
[0013]作为本专利技术再进一步的方案:所述除杂模块还包括对称布置在第二导轨两侧的第一导轨,两所述第一导轨均沿除杂筒的筒壁周向布置,两所述驱动杆分别固定在对应的第一导轨上从而可沿第一导轨产生相向或背向运动。
[0014]作为本专利技术再进一步的方案:所述除杂筒底部沿径向均匀布置有连接杆并通过连接杆与收集罐连接固定,反应罐内固定有沿轴向贯穿收集罐的固定轴,收集罐与固定轴沿轴向滑动配合。
[0015]作为本专利技术再进一步的方案:所述收集罐的罐身上均匀开设有导流孔以供反应液向外流出,所述固定轴上沿周向均匀布置有位于反应液液面上方并可抽取反应液的除杂喷头,所述除杂喷头的喷口朝向收集罐的罐体内壁。
[0016]作为本专利技术再进一步的方案:所述收集罐的罐体底部呈锥面状且尖端向下,固定轴上还沿周向均匀布置有位于除杂喷头下方的杂质吸嘴,杂质吸嘴的嘴部朝向收集罐的罐体底面。
[0017]作为本专利技术再进一步的方案:所述除杂筒与反应罐的罐壁沿铅垂方向滑动配合,反应罐内沿周向均匀布置有液压升缩杆,除杂筒固定在液压升缩杆的伸缩端从而受液压升缩杆驱动升降。
[0018]与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:
[0019]1、本专利技术在去除反应罐内液面上方杂质时,先将除杂筒降至反应罐的液面下方,再使每一个除杂模块中的驱动杆背向运动,从而在液面下方展开滤膜,此时各个除杂模块的滤膜可彼此配合后覆盖反应罐的液面,随后将除杂筒升起使其升至反应罐内的液面上方,滤膜通过液面时滤去沉淀等杂质;当除杂筒升至预定高度后,驱动除杂模块中的两组驱动杆相向运动,从而使滤膜进入U型收起状态,滤膜收起后刮耙自下而上运动即可刮除刮耙两侧的滤膜表面的杂质,使滤膜表面的杂质持续向下汇集,汇集后受高压喷嘴喷射出的气流作用排向收集罐内,从而完成一个完整的杂质去除动作;当需要进入下一次杂质去除工作时,除杂筒重新降至反应罐的液面上方,并使驱动杆以及刮耙复位,重复上述流程即可。
[0020]2、本专利技术的刮耙由两组铰接配合的刮板组成,受扭簧的弹性力作用可始终保持撑开状态从而形成“八”字型排布,当刮耙沿第二导轨自上而下滑动是,刮耙的两组刮板的板端可与两侧的滤膜膜面充分抵接,从而自上而下不断刮除滤膜表面的杂质,完成杂质的刮除和汇集工作。
[0021]3、本专利技术为防止滤膜上的杂质向远离收集罐的一侧流出,在驱动座上布置有位于刮耙下方的高压喷嘴,高压喷嘴沿径向喷射高速气流,在高压喷嘴随刮耙向下同步运动的同时,沿杂质储腔将刮除的杂质吹向收集罐内;高压喷嘴喷射的气体为惰性气体或反应气体,高压喷嘴随刮耙向下运动的过程中,高压喷嘴的射速逐渐提高,从而使刮除的杂质不断向收集罐方向运动;当刮耙运动至最低点时,高压喷嘴的喷射速度达到最高,此时沿除杂筒径向,杂质储腔相邻高压喷嘴一侧的开口位于高压喷嘴喷口的投影范围内,受高速射流的影响,被刮除的杂质被汇集至口径逐渐缩小的杂质储腔内,并沿杂质储腔排往收集罐内,实现杂质的完全回收。
[0022]4、本专利技术的收集罐顶部开口且罐身均匀开设有导流孔,在随除杂筒同步升降的过
程中,可对各扇形滤膜中心除杂死角处的杂质进行过滤作业;由于固定轴上在预定高度处设置有除杂喷头,可抽取反应罐内的反应液并向反应罐内喷出,通过反应液的冲洗将收集罐内收集杂质汇集至收集罐底部,反应液冲洗完收集罐的罐身后重新流至反应罐内,而杂质被汇集中收集罐的罐体底部,经汇集的杂质受杂质吸嘴的负压吸入后,经管路排至反应罐外,以达到清除杂质的效果。
附图说明
[0023]图1为本专利技术的结构示意图。
[0024]图2a为本专利技术中刮除模块第一工作状态下的结构示意图。
[0025]图2b为本专利技术中刮除模块第二工作状态下的结构示意图。
[0026]图2c为本专利技术中刮除模块第三工作状态下的结构示意图。
[0027]图3为本专利技术中收集罐的结构示意图。
[0028]图4为本专利技术中刮耙的结构示意图。
[0029]图中:
[0030]1、反应罐;11、固定轴;...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反应罐内杂质去除装置,其特征在于,包括同轴固定在反应罐(1)内壁上并可沿反应罐(1)内壁铅垂运动的除杂筒(2),除杂筒(2)的筒腔内沿径向均匀布置有除杂模块(3);除杂模块(3)包括刮耙(35)以及对称布置在刮耙(35)两侧的驱动杆(31),两所述驱动杆(31)沿除杂筒(2)径向布置,两所述驱动杆(31)的杆身之间通过呈扇形的滤膜(37)连接,两所述驱动杆(31)可沿除杂筒(2)周向产生相向或背向运动以展开或收起滤膜(37),各所述滤膜(37)均展开后配合形成圆形滤面以完全覆盖反应罐(1)的液面;所述滤膜(37)完全展开时,刮耙(35)位于滤膜(37)上方,所述滤膜(37)收起后,刮耙(35)可沿铅垂方向运动以刮除滤膜(37)表面的杂质;所述除杂筒(2)上沿反应罐(1)轴向布置有随除杂筒(2)同步升降的收集罐(4),所述收集罐(4)布置在除杂模块(3)下方且顶部开口以收集滤膜(37)上被刮除的杂质;除杂筒(2)上还设置有将滤膜表面刮除的杂质喷扫至收集罐(4)内的高压喷嘴(36)。2.根据权利要求1所述的一种反应罐内杂质去除装置,其特征在于,所述刮耙(35)包括两组彼此铰接以构成V型开合构造的刮板(351),两所述刮板(351)的铰接轴线沿除杂筒(2)径向布置,两所述刮板(351)的开合方向朝向滤膜(37)的膜面方向,两所述刮板(351)之间通过扭簧(352)连接以使得两刮板(351)可被撑开以构成“八”字型排布,两所述驱动杆(31)相向运动以收起滤膜(37)后,两所述刮板(351)的板端与滤膜(37)的膜面抵接。3.根据权利要求2所述的一种反应罐内杂质去除装置,其特征在于,所述除杂模块(3)还包括沿铅垂方向开设在除杂筒(2)筒壁上的第二导轨(33),刮耙(35)通过驱动座(34)固定在第二导轨(33)上从而可沿第二导轨(33)铅垂滑动。4.根据权利要求3所述的一种反应罐内杂质去除装置,其特征在于,所述高压喷嘴(36)固定在驱动座(34)上并位于刮耙(35)下方,高压喷嘴(36)可沿除杂筒(2)径向喷射高速气流;所述刮耙(...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵雅庭赵明星郑之银彭克荣刘荣陈明雷珅孙诚
申请(专利权)人:安徽六国化工股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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