一种超平滑陶瓷釉的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种超平滑陶瓷釉的制备方法，由底釉和面釉构成；所述底釉的原料组成为石英20～24wt％、钾长石8～10wt％、钠长石18～20％、高岭土5～6wt％、氧化锌1～2wt％、滑石1～2wt％、硅灰石7～9wt％、高温熔块7～9wt％、石灰石11～14wt％、氧化铝1～2wt％、硅酸锆8～12wt％；所述面釉的原料组成为石英24～30wt％、钾长石26～32wt％、高岭土6～10wt％、氧化锌1～3wt％、滑石3～6wt％、硅灰石4～8wt％、石灰石8～12wt％、萤石2～4wt％、高温熔块10～18wt％、添加剂2～4wt％。本发明专利技术采用双层施釉的方法，同时优化配方组成并在面釉中引入由SrCO3、RbCl、Y2O3组成的添加剂，从而降低了釉面的粗糙度，使釉面更加光滑、致密、平整，实现了有效杜绝污垢及细菌的粘附、具有良好抗污效果的目的。效果的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种超平滑陶瓷釉的制备方法


[0001]本专利技术涉及陶瓷釉料
，尤其涉及一种超平滑陶瓷釉的制备方法。

技术介绍

[0002]目前我国建筑卫生陶瓷产量已居世界首位，也是世界上最大的建筑卫生陶瓷消费市场，但总体经济效益不高。与国外产品的主要差距是釉面存在微小的针孔和凹凸等缺陷，在使用过程中，污垢、细菌等易沉积在缺陷处，不仅影响陶瓷产品的美观度，还增加了清洗的难度，而且清洗中所使用的洗涤剂又会造成环境污染；同时，这些污染物又会给釉层表面的细菌等微生物提供养料，造成大量繁殖，从而影响人们的健康。随着人们生活水平的提高，为满足消费者对陶瓷外观质量以及卫生方面的高要求，技术革新显得尤为重要。
[0003]目前，现有技术提高陶瓷抗污性的措施有：(1)在釉层表面涂覆一层防污涂层如憎水涂层等；(2)在釉料中引入纳米抗菌材料以提高其抗菌性；(3)采用合适的釉料配方和烧成工艺来提高釉面平滑度。目前已有的自洁釉大多数采用在釉中加抗菌剂和有机纳米涂层技术的方法。采用涂层时，由于使用过程中的磨损会使涂层受到破坏，使用年限通常在3～5年，而且产品的生产成本也本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超平滑陶瓷釉的制备方法，其特征在于：所述陶瓷釉由底釉和面釉构成；所述底釉的原料组成为石英20～24wt％、钾长石8～10wt％、钠长石18～20％、高岭土5～6wt％、氧化锌1～2wt％、滑石1～2wt％、硅灰石7～9wt％、高温熔块7～9wt％、石灰石11～14wt％、氧化铝1～2wt％、硅酸锆8～12wt％；所述面釉的原料组成为石英24～30wt％、钾长石26～32wt％、高岭土6～10wt％、氧化锌1～3wt％、滑石3～6wt％、硅灰石4～8wt％、石灰石8～12wt％、萤石2～4wt％、高温熔块10～18wt％、添加剂2～4wt％，所述添加剂由SrCO3、RbCl、Y2O3组成，按照质量比SrCO3∶RbCl∶Y2O3＝1～2∶0.5～1∶0.5～1；制备方法包括以下步骤：(1)将所述底釉的原料组成、面釉的原料组成分别称料、混合、经湿法球磨后过筛，得到中位粒径为200～250目的底釉釉浆、中位粒径为200～250目的面釉釉浆；(2)将陶瓷生坯放入所述底釉釉浆...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁健，刘方波，陈拥强，劳新斌，苗立锋，
申请(专利权)人：景德镇陶瓷大学，
类型：发明
国别省市：