衬底处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种衬底处理装置。涂布装置包含载台装置及喷嘴装置。在载台装置中，将衬底保持在板部件上。喷嘴装置具有狭缝状的喷出口，设置在载台装置的上方。以对衬底的整个上表面供给涂布液的方式，一边从喷嘴装置的喷出口喷出涂布液一边使喷嘴装置在载台装置的上方移动。在载台装置或喷嘴装置中，基于涂布液涂布到衬底上的位置，对涂布液进行温度调整。对涂布液进行温度调整。对涂布液进行温度调整。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理装置


[0001]本专利技术涉及一种在衬底的上表面形成涂布膜的衬底处理装置。

技术介绍

[0002]为了对半导体衬底、液晶显示装置或有机EL(Electro Luminescence，电致发光)显示装置等FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、陶瓷衬底或太阳电池用衬底等衬底进行各种处理，而使用衬底处理装置。
[0003]作为衬底处理装置的一例，日本专利特开2019
‑
046850号公报中记载有一种在衬底上形成抗蚀膜的旋转式衬底处理装置。该衬底处理装置中，向以水平姿势保持并旋转的衬底的中心部供给抗蚀液。所供给的抗蚀液朝向衬底的周缘部扩散，由此，在衬底的整个上表面形成抗蚀液的膜。对形成有抗蚀液的膜的衬底实施干燥处理等指定的处理。由此，在衬底的上表面形成抗蚀膜。
[0004]如上所述，通过对旋转的衬底的上表面供给涂布液(抗蚀液)而在衬底的上表面形成涂布膜(抗蚀膜)的方法被称为旋转涂布。已知通过旋转涂布而形成的抗蚀膜容易产生条纹等涂布不本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底处理装置，具备：第1衬底保持部，具有供载置衬底的第1板部件，将载置在所述第1板部件的衬底以预先规定的固定姿势保持，所述衬底具有至少一部分为圆形状的外周部；液体供给部，设置在比所述第1衬底保持部更靠上方的位置，具有狭缝状的喷出口，从所述喷出口向衬底的上表面喷出涂布液；相对移动部，以利用从所述液体供给部喷出的所述涂布液在所述第1衬底保持部所保持的衬底的整个上表面形成所述涂布液的膜的方式，使所述第1板部件与所述液体供给部相对地移动；以及温度调整部，对所述液体供给部中被引导至喷出口的涂布液及涂布到衬底上的所述涂布液中的至少一涂布液进行温度调整。2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中所述液体供给部包含将从涂布液供给系统供给的涂布液引导至所述喷出口的涂布液流路，所述温度调整部包含涂布液调整部，所述涂布液调整部以从所述液体供给部的所述喷出口的多个部分喷出的涂布液的流量分布成为预先规定的流量分布的方式，对经由所述涂布液流路而引导至所述喷出口的多个部分的涂布液的温度分别进行调整。3.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中所述涂布液调整部以供给到衬底外周部的至少一部分的涂布液的温度低于供给到衬底中央部的涂布液的温度的方式，对被引导至所述喷出口的所述多个部分的涂布液的温度分别进行调整。4.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中所述液体供给部中，所述喷出口以沿第1方向延伸的方式配置，所述相对移动部以在衬底以所述固定姿势保持在所述第1衬底保持部的状态下，所述液体供给部的所述喷出口通过衬底上的空间的方式，使所述液体供给部与所述第1衬底保持部在与所述第1方向交叉的第2方向上相对地移动，在所述第1板部件上所载置的衬底中，定义有包含外周端部的固定宽度的圆环状区域、及所述圆环状区域的内侧的中央区域，所述涂布液调整部，在通过所述相对移动部而实现的所述液体供给部与所述第1衬底保持部之间的相对移动时，将从所述液体供给部的所述喷出口的多个部分中俯视下与载置在所述第1板部件的衬底的所述圆环状区域重叠的部分喷出的涂布液的温度调整为预先规定的第1温度，将从所述液体供给部的所述喷出口的多个部分中俯视下不与载置在所述第1板部件的衬底的所述圆环状区域重叠的部分喷出的涂布液的温度调整为高于所述第1温度的第2温度。5.根据权利要求1至4中任一项所述的衬底处理装置，其中所述第1板部件具有多个区域，所述温度调整部包含对所述第1板部件的所述多个区域的温度分别进行调整的第1板调整部。6.根据权利要求5所述的衬底处理装置，其中所述第1板部件的所述多个区域包含：多个第1区域，与载置在所述第1板部件上的衬底的外周部...

【专利技术属性】
技术研发人员：古川正晃，后藤茂宏，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：