光学层叠体制造技术

技术编号:37146732 阅读:25 留言:0更新日期:2023-04-06 21:58
本发明专利技术提供具有即使在照射高强度的紫外线的情况下光学性能也不易发生变化、即使在严酷的环境下也不易发生性能变化的高的耐久性的、包含相位差层(1)的光学层叠体(11)。一种光学层叠体(11),其包含:包含相位差表现层的相位差层(1),以及与所述相位差层(1)的至少一个面邻接的阻气层(2),所述相位差表现层由包含至少1种聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物的固化物构成,所述阻气层(2)具有500cm3/(m2·

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学层叠体


[0001]本专利技术涉及光学层叠体,特别是涉及包含相位差层和与该相位差层邻接的阻气层的光学层叠体。

技术介绍

[0002]作为用于平板显示器(FPD)的相位差板,已知有显示出逆波长分散性的相位差板。已知形成这样的相位差板的聚合性液晶化合物一般而言在紫外线区域具有极大吸收,由该聚合性液晶化合物形成的相位差板的相位差值容易因紫外光至可见光区域的光暴露而发生变化。
[0003]相位差板中的相位差值的变化可能成为该相位差板的光学性能降低的主要因素,因此正在开发即使在暴露于紫外光等的情况下也不易产生相位差值的变化的相位差板。
[0004]例如,专利文献1中公开了一种通过使用包含2种以上的聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物来制作相位差板,从而作为相位差板整体保持相位差值变化的均衡的技术,其中,所述2种以上的聚合性液晶化合物包含在暴露于紫外光的情况下相位差值呈正向变化的聚合性液晶化合物、和相位差值呈负向变化的聚合性液晶化合物。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:日本特本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学层叠体,其包含:包含相位差表现层的相位差层,以及与所述相位差层的至少一个面邻接的阻气层,所述相位差表现层由包含至少1种聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物的固化物构成,所述阻气层具有500cm3/(m2·
24h
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atm)以下的氧气透过率。2.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,阻气层包含具有交联结构的聚合物。3.根据权利要求2所述的光学层叠体,其中,交联结构源自疏水性交联剂。4.根据权利要求3所述的光学层叠体,其中,疏水性交联剂包含选自异氰酸酯系...

【专利技术属性】
技术研发人员:出崎光
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:

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