用于从原始图像自动选择高品质图像的设备和方法技术

本文中描述一种用于从经图案化的衬底的原始图像选择良好品质图像的方法。所述方法包括：获得经图案化的衬底的多个原始图像(例如SEM图像)；基于与所述多个原始图像中的每个图像内的一个或更多个特征的量规或轮廓相关联的数据来确定原始图像品质指标(例如，图像评分、平均斜率、轮廓之间的距离)，所述原始图像品质指标指示原始图像品质；和基于所述原始图像品质指标，从所述多个原始图像选择原始图像的子集。可以提供所述原始图像的子集以用于执行对于图像内的所述一个或更多个特征的更准确的测量。确的测量。确的测量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于从原始图像自动选择高品质图像的设备和方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年8月19日递交的PCT申请PCT/CN2020/109993的优先权，并且所述PCT申请的全部内容通过引用并入本文中。


[0003]本文中的描述通常涉及半导体制造中的量测或检查。更具体地，用于使用自动图像选择(即对图像的自动选择)以供执行与光刻过程相关的高品质量测或检查的设备、方法和计算机程序产品。

技术介绍

[0004]光刻投影设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这样的情况下，图案形成装置(例如，掩模)可以包括或提供对应于IC的单层的图案(“设计布局”)，且这种图案可以通过诸如经由图案形成装置上的图案辐照目标部分的方法经转印于衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或更多个管芯)上，所述目标部分已涂覆有一层辐射敏感材料(“抗蚀剂”)。通常，单个衬底包括多个相邻目标部分，图案由光刻投影设备连续地转印至所述多个相邻目标部分，一次一个目标部分。在这种类型的光刻投影设备中，整个图案形成装置上的图案在一次操作中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种非暂时性计算机可读介质，所述非暂时性计算机可读介质包括储存在其中的指令，所述指令在由一个或更多个处理器执行时引起包括以下各项的操作：获得经图案化的衬底的多个原始图像；基于与所述多个原始图像中的每个图像内的一个或更多个特征的量规或轮廓相关联的数据来确定原始图像品质指标，所述原始图像品质指标指示原始图像品质；基于所述原始图像品质指标，从所述多个原始图像选择原始图像的子集；和提供所述原始图像的所述子集以用于执行与图像内的所述一个或更多个特征相关联的测量。2.根据权利要求1所述的介质，其中，确定所述原始图像品质指标包括：基于指定准则来分析与所述多个原始图像中的每个图像的量规相关联的量规数据。3.根据权利要求2所述的介质，其中，所述分析包括：确定是否存在关于所述多个图像的给定原始图像的、与所述量规相关联的所述量规数据；响应于不存在所述量规数据，将第一值指派至所述原始图像品质指标；和响应于存在所述量规数据，将不同于所述第一值的第二值指派至所述原始图像品质指标。4.根据权利要求3所述的介质，其中，确定所述原始图像品质指标还包括：确定所述量规数据是否遗失关于所述多个图像的所述给定原始图像的CD量规；和响应于遗失CD量规，将所述原始图像品质指标的所述第二值减小指定量。5.根据权利要求4所述的介质，其中，所述指定量与量规类型的数目与重复图案的数目有关。6.根据权利要求3所述的介质，其中，确定所述原始图像品质指标还包括：聚类与所述多个原始图像的所述量规相关联的所述量规数据，所述量规数据是边缘放置(EP)量规数据；和基于所述聚类来修改所述原始图像品质指标的所述第二值。7.根据权利要求6所述的介质，其中，修改所述原始图像品质指标的所述第二值包括：确定所述多个原始图像中的一个或更多个原始图像的所述EP量规数据是否在指定聚类区内；和响应于所述EP量规数据在所述指定聚类区内，修改与所述一个或更多个原始图像相关联的所述原始图像品质指标的所述第二值。8.根据权利要求7所述的介质，其中，基...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄郊，王进泽，石洪菲，冯牧，赵谦，汪建江，肖艳军，刘亮，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：