基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置，对基板进行清洗处理，所述基板处理装置包括：分度器区，具有分度器机械手；处理区，作为处理单元，具有表面清洗单元以及背面清洗单元；以及翻转路径区，具有载置基板的多层搁板，并且具有翻转功能，所述分度器机械手具有导轨、基台部、多关节臂以及手部，所述导轨配置于不与所述翻转路径区中的基板的载置位置重叠的位置。区中的基板的载置位置重叠的位置。区中的基板的载置位置重叠的位置。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
[0001]本申请是申请日为2020年9月24日、申请号为202011019558.6、专利技术名称为“基板处理装置”的申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及基板处理装置，利用处理液对半导体晶片、液晶显示器、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示装置用基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等基板(以下，简称为“基板”)进行处理。

技术介绍

[0003]以往，这种装置具有分度器区、处理区以及翻转路径区。例如，可以参照日本特开2008
‑
166369号公报(图1)。处理区具有表面清洗单元和背面清洗单元。翻转路径区安装在分度器区和处理区之间。
[0004]分度器区具有容纳架载置部和分度器机械手。容纳架载置部载置容纳有多张基板的容纳架。分度器机械手在容纳架和翻转路径区之间搬运基板。翻转路径区具有载置基板的多层搁板。翻转路径区具有与处理区之间交接基板的翻转路径单元。另外，翻转路径单元使基板的表面和背面翻转。处理区具有主机械手。主机械手在表面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，对基板进行清洗处理，其中，包括：分度器区，具有：容纳架载置部，载置容纳多张基板的容纳架，分度器机械手，与所述容纳架载置部的所述容纳架之间搬运基板；处理区，作为处理单元，具有进行基板的表面清洗处理的表面清洗单元以及进行基板的背面清洗处理的背面清洗单元；以及翻转路径区，配置在所述分度器区和所述处理区之间，具有载置基板的多层搁板，并且具有使基板的表面和背面翻转的翻转功能，所述分度器机械手具有：导轨，水平方向的位置被固定且立设；基台部，沿着所述导轨升降移动；多关节臂，配置于所述基台部；以及手部，在所述多关节臂的顶端部侧的臂上支撑基板，从所述容纳架载置部侧观察，所述导轨配置于不与所述翻转路径区中的基板的载置位置重叠的位置，并且配置于所述翻转路径区侧的内壁侧，在俯视时，所述导轨配置于从连结所述载置...

【专利技术属性】
技术研发人员：内田雄三，菊本宪幸，河原启之，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：