一种止推端面摩擦副表面精密加工方法技术

本发明专利技术公开了一种止推端面摩擦副表面精密加工方法，属于摩擦副加工领域，先后采用平面粗磨、平面精磨以及抛光组合加工工艺对止推端面摩擦副表面进行处理，其中平面粗磨和平面精磨采用白刚玉砂轮，平面抛光采用立方氮化硼砂轮。本发明专利技术采用砂轮平面磨削和抛光组合加工工艺，降低止推端面粗糙度值，降低表面微观结构应力集中，获得平整且强化的工作表面，提高止推端面的承载能力、耐磨性，延长止推端面摩擦副的工作寿命。擦副的工作寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种止推端面摩擦副表面精密加工方法


[0001]本专利技术涉及摩擦副加工领域，尤其是止推端面的加工方法。

技术介绍

[0002]为满足齿轮轴向安装位置和端面耐磨性要求，设计止推片结构。该止推片摩擦面粗糙度要求Rz1.6，对于内孔垂直度0.02，要求较严。止推片属于摩擦副类零件，摩擦面粗糙度要求较严。且由于摩擦副一般采用渗碳钢，表面硬度较高56
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60HRC，所以对上述零件要用磨削作为终加工的主要方法，因为在渗碳层内有大量的合金元素碳化物其硬度与砂轮磨料的硬度不相上下，渗碳钢的磨削性差易产生烧伤、裂纹。
[0003]现有的人造刚玉磨料无法达到粗糙度要求，砂轮粒度过细易产生波纹和烧伤，现在采用手工研磨的方式加工端面，平面磨削后，将研磨剂涂在研磨平板上手工研磨。研磨加工，是在刚性研具表面加入磨料(粒径通常为微米级)，在一定压力下，通过研具与工件的相对滑动，借助磨料的微切削作用去除被加工表面微量材料的精密加工方法。由于研磨时磨粒处于游离状态，磨粒对工件表面进行滚轧作用与微量刻划不能对工件形成连续的切削动作，所产生的磨削也是非连续的。
[0004]现有手工研磨主要存在如下缺点：
[0005]1.要求操作者具备一定技能水平和工作经验，根据检测结果调整手施加在工件上的压力和研磨运动轨迹；
[0006]2.手工研磨不适宜批量生产，质量不稳定，粗糙度不易保证。

技术实现思路

[0007]本专利技术需要解决的技术问题是提供一种止推端面摩擦副表面精密加工方法，采用砂轮平面磨削和抛光组合加工工艺，降低止推端面粗糙度值，降低表面微观结构应力集中，获得平整且强化的工作表面，提高止推端面的承载能力、耐磨性，延长止推端面摩擦副的工作寿命。
[0008]为解决上述技术问题，本专利技术所采用的技术方案是：
[0009]一种止推端面摩擦副表面精密加工方法，先后采用平面粗磨、平面精磨以及抛光组合加工工艺对止推端面摩擦副表面进行处理，其中平面粗磨和平面精磨采用白刚玉砂轮，平面抛光采用立方氮化硼砂轮。
[0010]本专利技术技术方案的进一步改进在于：平面粗磨采用46目白刚玉砂轮、平面精磨采用100目白刚玉砂轮、平面抛光采用CBN1000立方氮化硼砂轮，平面粗磨、平面精磨和抛光组合分为切削状态、半切削状态和镜面抛光状态三种加工状态。
[0011]本专利技术技术方案的进一步改进在于：平面粗磨工序采用46目白刚玉砂轮，通过平面粗磨修正平面前期工序加工后的形状误差，给下道工序精磨留量0.05mm，砂轮转速1100r/min，轴向进给量25mm，磨削深度0.02mm。
[0012]本专利技术技术方案的进一步改进在于：平面精磨工序采用100目白刚玉砂轮，通过平
面精磨改善平面的微观几何形态，给下道工序抛光留量0.01mm，砂轮转速1100r/min，轴向进给量22mm，磨削深度0.01mm。
[0013]本专利技术技术方案的进一步改进在于：平面精磨后平面粗糙度Rz2.5。
[0014]本专利技术技术方案的进一步改进在于：平面抛光工序采用CBN1000立方氮化硼砂轮，通过平面挤压抛光可使精磨平面进一步光整，达到镜面标准，砂轮转速1400r/min，轴向进给量20mm，磨削深度0.002mm。
[0015]本专利技术技术方案的进一步改进在于：平面抛光后平面粗糙度Rz1.6。
[0016]本专利技术技术方案的进一步改进在于：白刚玉砂轮进行修磨时，使用金刚笔沿轴向进给修整砂轮，将砂轮修整成微刃等切削高度，修整砂轮时，金刚笔径向进给量0.002mm。
[0017]由于采用了上述技术方案，本专利技术取得的技术进步是：
[0018]本专利技术采用平面磨削(粗磨和精磨)和抛光组合加工工艺技术，合理设定精磨、抛光工序的砂轮转速、轴向进给量及磨削深度等主要工艺参数。使加工表面的波峰向细密圆滑形态转变，以磨粒的微小塑性为主，加工平面平滑化，获得疲劳强度高的细密光滑表面，显著提升止推端面承载能力、耐磨性，促进高功率、高爆压、高可靠性柴油机技术发展。
[0019]本专利技术可有效规避传统平面磨削加工表面缺陷，最终工序切削方式由磨粒刻划变为挤压抛光，由此改变了摩擦副表面的微观结构形态，明显消除了磨削表面微观结构粗糙棱角，使其形态细密圆滑，有效降低了表面粗糙度值，可显著改善其微观工作性能，增强摩擦副表面承载能力，有效避免摩擦副磨损。
[0020]本专利技术表面粗糙度值低，有利于油膜的建立，提高摩擦副表面的耐磨性，延长摩擦副寿命。
具体实施方式
[0021]下面结合实施例对本专利技术做进一步详细说明：
[0022]一种止推端面摩擦副表面精密加工方法，先后采用平面粗磨、平面精磨以及抛光组合加工工艺对止推端面摩擦副表面进行处理，使加工表面的波峰向细密圆滑形态转变，以磨粒的微小塑性为主，加工平面平滑化，获得疲劳强度高的细密光滑表面，显著提升止推端面承载能力、耐磨性，促进高功率、高爆压、高可靠性柴油机技术发展。
[0023]1.原理说明：
[0024]通过细分平面粗磨、平面精磨、抛光等加工工艺流程，采用适宜的平面磨削和抛光砂轮特性组合，合理匹配砂轮转速、轴向进给量、磨削深度等主要工艺参数，最终获得表面达到镜面标准且强化的耐磨表面。
[0025]2.详细工艺过程：
[0026](1)平面粗磨
[0027]平面粗磨是将平磨时间减少到最低程度的一道工序。本工序采用46目白刚玉砂轮，通过粗磨修正平面前期工序加工后的形状误差，形成一定的平面度，给下道工序精磨留量0.05mm。
[0028]粗磨主要工艺参数设定：
[0029]砂轮转速1100r/min，轴向进给量25mm，磨削深度0.02mm。
[0030](2)平面精磨
[0031]平面精磨是形成预期平面粗糙度的重要工序。本工序采用100目白刚玉砂轮，通过精磨进一步改善平面的微观几何形态，为后续抛光工序获得镜面标准的粗糙度做好基础准备，给下道工序抛光留量0.01mm。
[0032]精磨主要工艺参数设定：
[0033]砂轮转速1100r/min，轴向进给量22mm，磨削深度0.01mm。
[0034]精磨后平面粗糙度参数：Rz2.5。
[0035](3)平面抛光
[0036]平面抛光是最终获得镜面标准粗糙度的关键工序。本工序采用CBN1000立方氮化硼砂轮，通过平面挤压抛光可使精磨平面进一步光整，达到镜面标准，获得细密且强化的粗糙度表面。
[0037]立方氮化硼砂轮对减少粗糙度参数数值非常有利，这种砂轮长时间以磨钝的磨粒工作，除了起切削作用之外，同时还能将表面抛光。砂轮的特点是硬度高，耐磨性好，磨粒与结合剂结合坚固，立方氮化硼磨粒减少过程比砂轮被磨削堵塞的快，则结合剂离切削表面的距离就减少，与被加工材料的接触面积便增大，而结合剂的挤压抛光作用增强，从而使表面质量特性提高。
[0038]挤压抛光主要工艺参数设定：
[0039]砂轮转本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种止推端面摩擦副表面精密加工方法，其特征在于：先后采用平面粗磨、平面精磨以及抛光组合加工工艺对止推端面摩擦副表面进行处理，其中平面粗磨和平面精磨采用白刚玉砂轮，平面抛光采用立方氮化硼砂轮。2.根据权利要求1所述的一种止推端面摩擦副表面精密加工方法，其特征在于：平面粗磨采用46目白刚玉砂轮、平面精磨采用100目白刚玉砂轮、平面抛光采用CBN1000立方氮化硼砂轮，平面粗磨、平面精磨和抛光组合分为切削状态、半切削状态和镜面抛光状态三种加工状态。3.根据权利要求1或2所述的一种止推端面摩擦副表面精密加工方法，其特征在于：平面粗磨工序采用46目白刚玉砂轮，通过平面粗磨修正平面前期工序加工后的形状误差，给下道工序精磨留量0.05mm，砂轮转速1100r/min，轴向进给量25mm，磨削深度0.02mm。4.根据权利要求1或2所述的一种止推端面摩擦副表面精密加工方法，其特征在于：平面精磨工序采用100目白刚...

【专利技术属性】
技术研发人员：张之涛，李胜利，郭增元，梁望，李兵，洪彦奎，张博，
申请(专利权)人：河北华北柴油机有限责任公司，
类型：发明
国别省市：