光器件和光通信装置制造方法及图纸

本申请涉及光器件和光通信装置。一种光器件包括作为薄膜铌酸锂LN晶体的肋状波导、层压在肋状波导上的缓冲层、以及向肋状波导施加电压的电极。缓冲层包括层压在肋状波导的肋上的厚膜部和层压在肋状波导的板上的薄膜部，其中，板位于肋的两侧，并且薄膜部的厚度小于厚膜部的厚度。膜部的厚度。膜部的厚度。

【技术实现步骤摘要】
光器件和光通信装置


[0001]本文所讨论的实施方式涉及光器件和光通信装置。

技术介绍

[0002]传统的光调制器包括例如布置在基板上的光波导和布置在光波导附近的调制单元。调制单元包括信号电极和接地电极，如果电压施加至信号电极，则在光波导中产生电场，光波导的折射率因光波导中的电场而改变，并且光的相位被改变。光波导构成马赫
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曾德尔(Mach
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Zehnder)干涉仪，并且光输出因光波导之间的光的相位差而改变。
[0003]在光调制器中，例如，集成了四通道的马赫
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曾德尔调制器。每个马赫
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曾德尔调制器包括射频(RF)调制单元和直流(DC)调制单元。例如几十GHz带宽的高频信号被输入到RF调制单元的电极，并且执行高速调制。此外，偏置电压被施加到DC调制单元的电极，并且偏置电压被调整为使得电信号的开/关对应于光信号的开/关。
[0004]光调制器的光波导例如构成马赫
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曾德尔干涉仪，并输出例如由于平行布置的多个光波导之间的光的相位差而被x...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光器件，该光器件包括：肋状波导，该肋状波导是薄膜铌酸锂LN晶体；缓冲层，该缓冲层层压在所述肋状波导上；以及电极，该电极向所述肋状波导施加电压，其中，所述缓冲层包括：厚膜部，该厚膜部层压在所述肋状波导的肋上；以及薄膜部，所述薄膜部层压在所述肋状波导的板上，所述板位于所述肋的两侧，并且所述薄膜部的厚度小于所述厚膜部的厚度。2.根据权利要求1所述的光器件，其中，所述厚膜部的宽度比所述肋的宽度宽。3.根据权利要求2所述的光器件，其中，所述厚膜部包括：第一厚膜部，该第一厚膜部覆盖所述肋；以及第二厚膜部，所述第二厚膜部覆盖所述肋的侧壁表面并且覆盖所述板的在所述肋的侧部的部分，并且所述第二厚膜部的厚度大于所述薄膜部的厚度。4.根据权利要求3所述的光器件，其中，所述薄膜部的宽度增加以使得所述电极的一端与所述第二厚膜部分离。5.根据权利要求4所述的光器件，其中，所述电极的一部分层压在所述缓冲层中的除了所述薄膜部的位置之外的位置处的第三厚膜部上，所述第三厚膜部不同于所述第一厚膜部和所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：杉山昌树，
申请(专利权)人：富士通光器件株式会社，
类型：发明
国别省市：