用于测量玻璃基基板的特征的方法和装置制造方法及图纸

一种装置可以包括定位于第一区中的照明源和至少一个波前传感器。反射器可以定位在第二区中。测量平面可以定位于所述第一区与所述第二区之间。反射器可以被配置为反射光。所述至少一个波前传感器可以被配置为检测所述光。测量玻璃基基板的特征的方法可以包括从照明源发出光。方法可以包括将所述光透射穿过所述玻璃基基板的厚度。方法可以包括将所述光透射穿过所述玻璃基基板的第一主表面的目标位置。方法可以包括利用所述至少一个波前传感器检测所述光并且基于所述检测到的光生成信号。测所述光并且基于所述检测到的光生成信号。测所述光并且基于所述检测到的光生成信号。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于测量玻璃基基板的特征的方法和装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请根据35 U.S.C,
§
119要求2020年6月17日提交的美国临时申请序列号63/040,247的优先权权益，该临时申请的内容是本申请的基础并且该内容以全文引用方式并入本文。


[0003]本公开内容总体涉及测量玻璃基基板的特征的方法和装置，并且更具体地，涉及使用照明源测量玻璃基基板的特征的方法和装置。

技术介绍

[0004]显示装置包括液晶显示器(liquid crystal display，LCD)、电泳显示器(electrophoretic display，EPD)、有机发光二极管显示器(organic light
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emitting diode display，OLED)、等离子体显示面板(plasma display panel，PDP)或其类似者。显示装置可以为便携式电子装置的一部分，例如消费电子产品、智能手机、平板计算机、可穿戴装置或膝上型计算机。
[0005]显示装置通常包括一个或多个玻璃基基板。标识、表征和测量玻璃基基板中的特征非常重要，以使得在将玻璃基基板用于各种应用(例如显示装置)之前可以减轻这些特征。
[0006]已知使用例如相机(例如数字相机、CCD相机)以及各种技术(例如明场照明、倾斜照明或刀口照明)来检查玻璃基基板。这些技术可以标识特征的位置(例如夹杂物、划痕、气泡、表面不连续性)和/或定量表征特征。然而，如果可能使用给定技术，则定量表征特征所需的增加的分辨率可能需要细致校准、延长曝光、多次曝光和/或在若干定向处的曝光。
[0007]因此，可能需要研发可用于测量玻璃基基板的特征的方法和装置。可能需要对特征进行准确和定量的测量。此外，可能需要使用可能不需要大量校准的方法(例如，使用可能对振动不敏感和/或可能不需要在每次测量之间重新校准的方法)来测量特征。此外，可能需要快速(例如不到一秒)测量特征，以使得可以将测量在线整合至玻璃制造装置中或与玻璃制造装置一起在线整合。

技术实现思路

[0008]本文中阐述了用于测量玻璃基基板的特征的装置和方法。本公开内容的装置可以有助于快速、在线测量特征，提高生产效率，并且减少处理时间。本公开内容的装置可以定量表征大范围的特征大小，从而减少了多次检查的需要。本公开内容的装置可以最小化对重新校准和/或重新对准的需要，从而减少停机时间。
[0009]提供至少一个波前传感器可以使得能够对振动不敏感的特征进行定量和准确的测量。例如，使用波前传感器可以减少重新校准装置的需要。例如，使用波前传感器可以使得能够在玻璃基基板移动和/或最近已移动时进行测量。同样，提供波前传感器可以使得能
够进行特征的快速(例如约100毫秒或更短)测量。此外，波前传感器可以与额外(例如现有)检查装置(例如相机)整合。
[0010]提供至少一个波前传感器可以使得能够在距测量平面(例如玻璃基基板的第一主表面)的不同距离处进行测量。调整距测量平面的距离可以使得能够区分不同类型的特征(例如表面轮廓、气泡、气体夹杂物、金属夹杂物)。另外，调整距测量平面的距离可以用于调整可以准确且定量检测的特征的大小。提供具有不同放大倍数的多于一个波前传感器可以使得能够同时测量大范围的特征大小。例如，使用具有不同放大倍数的多于一个波前传感器可以减少对特征进行后续检查(例如重新检查)的需要。
[0011]在与包括反射器的第二区相对的第一区中提供一个或多个波前传感器和照明源可以减少(例如减轻)照明源与波前传感器之间的对准问题，其中测量平面(例如玻璃基基板)处于第一区与第二区之间。例如，即使在受到振动或有意移动时，为照明源和波前传感器两者提供共同支架还可以维持对准。
[0012]下文在可以单独使用或彼此组合使用各种实施方式的任何特征的理解的情况下描述本公开内容的一些示例实施方式。
[0013]在一些实施方式中，装置可以包括定位于第一区中的照明源和至少一个波前传感器。装置可以包括反射器，该反射器定位在第二区中。装置可以包括测量平面，该测量平面定位于第一区与第二区之间。照明源可以被配置为发出照射在测量平面上的光。反射器可以被配置为反射来从照明源的光。至少一个波前传感器可以被配置为检测由反射器反射的光。
[0014]在其他实施方式中，照明源与测量平面之间的路径距离可以是可调整的。
[0015]在其他实施方式中，至少一个波前传感器与测量平面之间的检测距离可以是可调整的。
[0016]在其他实施方式中，照明源可以被配置为发出包括相干光的光。
[0017]在其他实施方式中，照明源可以被配置为发出包括脉冲的光。
[0018]在其他实施方式中，照明源可以包括激光。
[0019]在其他实施方式中，至少一个波前传感器可以包括Shack
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Hartmann波前传感器。
[0020]在其他实施方式中，至少一个波前传感器可以包括横向剪切干涉仪。
[0021]在甚至其他实施方式中，横向剪切干涉仪可以包括四波横向剪切干涉仪。
[0022]在其他实施方式中，至少一个波前传感器可以包括角锥波前传感器。
[0023]在其他实施方式中，装置可以进一步包括分束器，该分束器被配置为将光分成多个光束。至少一个波前传感器可以包括被配置为检测多个光束中的第一光束的第一波前传感器和被配置为检测多个光束中的第二光束的第二波前传感器。
[0024]在甚至其他实施方式中，装置可以进一步包括第二光学装置，该第二光学装置被配置为相对于第一光束的放大倍数改变第二光束的放大倍数。
[0025]在甚至其他实施方式中，装置可以进一步包括光学装置，该光学装置被配置为改变第一光束的放大倍数。
[0026]在甚至其他实施方式中，装置可以进一步包括被配置为检测多个光束中的第一光束的光学相机。
[0027]在一些实施方式中，测量玻璃基基板的特征的方法可以包括将光照射在玻璃基基
板的测量平面上。测量平面可以横向于玻璃基基板的厚度延伸。厚度可以限定在玻璃基基板的第一主表面与玻璃基基板的第二主表面之间。方法可以包括将光朝向玻璃基基板反射。方法可以包括将反射光穿过玻璃基基板的厚度朝向玻璃基基板的第一主表面且穿过玻璃基基板的第一主表面的目标位置透射。方法可以包括使用至少一个波前传感器检测透射穿过目标位置的光。方法可以包括基于检测到的光利用至少一个波前传感器生成第一信号。
[0028]在其他实施方式中，将光照射在测量平面上可以包括照射玻璃基基板的第一主表面。
[0029]在其他实施方式中，方法可以进一步包括在将光透射穿过厚度之前，在横向于玻璃基基板的厚度的方向上移动玻璃基基板。方法可以进一步包括在使用至少一个波前传感器检测透射穿过目标位置的光之后，在横向于玻璃基基板的厚度的方向上移动玻璃基基板。
[0030]在甚至其他实施方式中，在于将光透射穿过厚度之前移动玻璃本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种装置，包括：照明源和至少一个波前传感器，所述照明源和所述至少一个波前传感器定位于第一区中；反射器，所述反射器定位于第二区中；以及测量平面，所述测量平面定位于所述第一区与所述第二区之间，其中所述照明源被配置为发出照射在所述测量平面上的光，所述反射器被配置为反射来自所述照明源的所述光，并且所述至少一个波前传感器被配置为检测由所述反射器反射的所述光。2.如权利要求1所述的装置，其中所述照明源与所述测量平面之间的路径距离可调整。3.如权利要求1
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2中任一项所述的装置，其中所述至少一个波前传感器与所述测量平面之间的检测距离可调整。4.如权利要求1
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3中任一项所述的装置，其中所述照明源被配置为发出包括相干光的光。5.如权利要求1
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4中任一项所述的装置，其中所述照明源被配置为发出包括脉冲的光。6.如权利要求1
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5中任一项所述的装置，其中所述照明源包括激光。7.如权利要求1
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6中任一项所述的装置，其中所述至少一个波前传感器包括Shack
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Hartmann波前传感器。8.如权利要求1
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6中任一项所述的装置，其中所述至少一个波前传感器包括横向剪切干涉仪。9.如权利要求8所述的装置，其中所述横向剪切干涉仪包括四波横向剪切干涉仪。10.如权利要求1
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6中任一项所述的装置，其中所述至少一个波前传感器包括角锥波前传感器。11.如权利要求1
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8中任一项所述的装置，进一步包括：分束器，所述分束器被配置为将所述光分成多个光束；并且所述至少一个波前传感器包括被配置为检测所述多个光束中的第一光束的第一波前传感器和被配置为检测所述多个光束中的第二光束的第二波前传感器。12.如权利要求11所述的装置，进一步包括光学装置，所述光学装置被配置为改变所述第一光束的放大倍数。13.如权利要求12所述的装置，进一步包括第二光学装置，所述第二光学装置被配置为相对于所述第一光束的所述放大倍数改变所述第二光束的放大倍数。14.如权利要求11
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13中任一项所述的装置，进一步包括光学相机，所述光学相机被配置为检测所述多个光束中的所述第一光束。15.一种测量玻璃基基板的特征的方法，包括：将光照射在所述玻璃基基板的测量平面上，所述测量平面横向于所述玻璃基基板的厚度延伸，所述厚度限定在所述玻璃基基板的第一主表面与所述玻璃基基板的第二主表面之间；将所述光朝向所述玻璃基基板反射；将所述反射光透射穿过所述玻璃基基板的所述厚度朝向所述玻璃基基板的所述第一主表面且穿过所述玻璃基基板的所述第一主表面的目标位置；
使用至少一个波前传感器检测透射穿过所述目标位置的所述光；以及基于所述检测到的光利用所述至少一个波前传感器生成第一信号。16.如权利要求15所述的方法，其中将所述光照射在所述测量平面上包括：照射所述玻璃基基板的所述第一主表面。17.如权利要求15
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16中任一项所述的方法，进一步包括：在所述将所述光透射穿过所述厚度之前，在横向于所述玻璃基基板的所述厚度的方向上移动所述玻璃基基板；以及在所述使用所述至少一个波前传感器检测透射穿过所述目标位置的所述光之后，在横向于所述玻璃基基板的所述厚度的所述方向上移动所述玻璃基基板。18.如权利要求17所述的方法，其中在所述于所述将所述光透射穿过所述厚度之前移动所述玻璃基基板之后以及在所述利用所述至少一个波前传感器生成所述第一信号之前，所述至少波前传感器不生成信号。19.如权利要求17
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18中任一项所述的方法，其中限定在将所述光透射穿过所述厚度之前移动所述玻璃基基板的结束与使用所述至少一个波前传感器检测透射穿过所述目标位置的所述光之后移动所述玻璃基基板的开始之间的测量时间为约100毫秒或更短。20.如权利要求15
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16中任一项所述的方法，其中当所述光透射穿过所述玻璃基基板的所述厚度时，所述玻璃基基板在横向于所述玻璃基基板的所述厚度的方向上移动。21.一种测量玻璃基基板的特征的方法，包括：将光穿过所述玻璃基基板的厚度朝向所述玻璃基基板的第一主表面且穿过所述玻璃基基板的所述第一主表面的目标位置透射，所述厚度限定在所述第一主表面与第二主表面之间；使用至少一个波前传感器检测透射穿过所述目标位置的所述光；以及基于所述检测到的光利用所述至少一个波前传感...

【专利技术属性】
技术研发人员：厄尔，
申请(专利权)人：康宁公司，
类型：发明
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