【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】临时固定材料、以及电子部件的制造方法
[0001]本专利技术涉及:即使在将被粘物固定的状态下进行300℃以上的高温加工处理的情况下,也能够在经过高温加工处理后容易地剥离的临时固定材料。另外,本专利技术涉及使用了该临时固定材料的电子部件的制造方法。
技术介绍
[0002]在半导体等电子部件的加工时,为了使电子部件的处理变得容易、不发生破损,经由粘合剂组合物将电子部件固定于支撑板、或者将粘合带贴附于电子部件而进行保护。例如,在将从高纯度的单晶硅等切出的厚膜晶片磨削至规定的厚度而制成薄膜晶片的情况下,经由粘合剂组合物将厚膜晶片粘接于支撑板。
[0003]对于这样用于电子部件的粘合剂组合物、粘合带,要求在加工工序中能够牢固地固定电子部件的高粘接性,并且要求在工序结束后能够在不损伤电子部件的情况下进行剥离(以下,也称为“高粘接易剥离”)。
[0004]作为高粘接易剥离的实现手段,例如专利文献1中公开了一种粘合片,其使用了在聚合物的侧链或主链上键合有具有放射线聚合性官能团的多官能性单体或低聚物的粘合剂。通过具有放射线聚合 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种临时固定材料,其特征在于,其包含光固化型粘接剂,所述光固化型粘接剂含有反应性树脂,所述反应性树脂包含在主链的重复单元中具有酰亚胺骨架的树脂(1),所述临时固定材料的405nm的透光率为10%以上,并且5%重量减少温度为350℃以上。2.根据权利要求1所述的临时固定材料,其特征在于,包含所述光固化型粘接剂的光固化型粘接剂层在固化后于25℃的弹性模量为1
×
107Pa以上。3.根据权利要求1或2所述的临时固定材料,其特征在于,包含所述光固化型粘接剂的光固化型粘接剂层在固化后于300℃的弹性模量为1
×
108Pa以下。4.根据权利要求1、2或3所述的临时固定材料,其特征在于,所述在主链的重复单元中具有酰亚胺骨架的树脂(1)具有来自二聚物二胺的脂肪族基团。5.根据权利要求4所述的临时固定材料,其特征在于,所述来自二聚物二胺的脂肪族基团为选自下述通式(4
‑
1)所示的基团、下述通式(4
‑
2)所示的基团、下述通式(4
‑
3)所示的基团以及下述通式(4
‑
4)所示的基团中的至少一者,
通式(4
‑
1)~(4
‑
4)中,R1~R8及R
13
~R
20
分别独立地表示直链状或支链状的烃基。6.根据权利要求1、2、3、4或5所述的临时固定材料,其特征在于,所述在主链的重复单元中具有酰亚胺骨架的树脂(1)包含不具有具备双键的官能团并且在主链的重复单元中具有酰亚胺骨架的树脂(1
‑
II),所述不具有具备双键的官能团并且在主链的重复单元中具有酰亚胺骨架的树脂(1
‑
II)的重均分子量Mw为2万以上。7.根据权利要求6所述的临时固定材料,其特征在于,所述不具有具备双键的官能团并且在主链的重复单元中具有酰亚胺骨架的树脂(1
‑
II)是具有下述通式(1d)所示的结构单元以及下述通式(1e)所示的结构单元、并且两末端分别由X4及X5表示的树脂(2
‑
i),其中,s>0,t≥0,
通式(1d)~(1e)中,P4及P5分别独立地表示芳香族基团,Q3表示取代或未取代的直链状、支链状或环状的脂肪族基团,Q4表示具有取代或未取代的芳香族结构的基团,X4及X5表示不含有具备双键的官能团的基团。8.根据权利要求1、2、3、4或5所述的临时固定材料,其特征在于,所述在主链的重复单元中具有酰亚胺骨架的树脂(1)包含具有具备双键的官能团并且在主链的重复单元中具有酰亚胺骨架的树脂(1
‑
I)。9.根据权利要求8所述的临时固定材料,其特征在于,所述具有具备双键的官能团并且在主链的重复单元中具有酰亚胺骨架的树脂(1
‑
I)是具有下述通式(1a)所示的结构单元、下述通式(1b)所示的结构单元以及下述通式(1c)所示的结构单元、并且两末端分别由X1及X2表示的化合物(1
‑
i),其中,s>0,t≥0,u≥0,通式(1a)~(1c)中,P1、P2及P3分别独立地表示芳香族基团,Q1表示取代或未取代的直链
状、支链状或环状的脂肪族基团,Q2表示具有取代或未取代的芳香族结构的基团,R表示取代或未取代的支链状的脂肪族基团或芳香族基团,选自X1、X2及X3中的至少一者表示具备双键的官能团。10.根据权利要求8所述的临时固定材料,其特征在于,所述具备双键的官能团是任选被取代的马来酰亚胺基。11.根据权利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9或10所述的临时固定材料,其特征在于,所述反应性树脂还包含分子内具有两个以上具备双键的官能团并且分子量为5000以下的多官能单体或多官能低聚物(2)。12.根据权利要求11所述的临时固定材料,其特征在于,所述分子内具有两个以上具备双键的官能团并且分子量为5000以下...
【专利技术属性】
技术研发人员:大同和泉,高桥骏夫,七里德重,林聪史,星野文香,
申请(专利权)人:积水化学工业株式会社,
类型:发明
国别省市:
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