【技术实现步骤摘要】
一种引线框架清洗装置
[0001]本技术属于引线框架清洗设备
，尤其涉及一种引线框架清洗装置。
技术介绍
[0002]引线框架在生产过程中，通常会利用如申请号为202021318807.7专利公开的一种用于光耦引线支架的转运装置，对引线框架进行存储及转移，引线框架主要作为生产半导体器件的载体，因此对清洁度具有较高的要求。现有的清洗装置，需要将引线框架从转运装置一片一片的推出，然后再通过传送带式清洗机对引线框架一片一片的进行清洗，清洗完成之后再将引线框架一片一片的推入转运装置内，此种清洗方式的在推出、清洗以及推入环节的耗较长，导致清洗效率较低。
技术实现思路
[0003]为解决现有技术不足，本技术提供一种引线框架清洗装置，具有较高的清洗效率。
[0004]为了实现本技术的目的，拟采用以下方案：
[0005]一种引线框架清洗装置，包括：清洗池、旋转架、清洗筐、进料轨道及出料轨道。
[0006]旋转架转动设于清洗池上，其转动的轴线呈水平设置，旋转架沿圆周阵列设有四个清洗筐，清洗筐的长度方向...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种引线框架清洗装置，其特征在于，包括：清洗池（1）；旋转架（2），转动设于清洗池（1）上，其转动的轴线呈水平设置，旋转架（2）沿圆周阵列设有四个清洗筐（3），清洗筐（3）的长度方向垂直于旋转架（2）的转动轴线，清洗筐（3）沿长度方向的两端贯穿，且其两侧的内壁上开设有多对容纳槽（301），容纳槽（301）平行于清洗筐（3）的长度方向，容纳槽（301）的两端均设有可转动的挡板（31）；进料轨道（4）及出料轨道（5），分别位于旋转架（2）的两侧，均用于输送装有待清洗引线框架的料盒，且输送方向均与旋转架（2）的转动轴线平行；进料轨道（4）的外侧设有第一推板（41），用于将进料轨道（4）上同一个料盒内的引线框架同时推入对应侧且呈水平状态的清洗筐（3）；四个清洗筐（3）之间设有第二推板（51），用于将呈水平状态的另一个清洗筐（3）内的引线框架同时推出，并将引线框架同时推至出料轨道（5）上的空料盒内。2.根据权利要求1所述的一种引线框架清洗装置，其特征在于，第一推板（41）及第二推板（51）各设于一伸缩气缸的活动端。3.根据权利要求1所述的一种引线框架清洗装置，其特征在于，进料轨道（4）及出料轨道（...
【专利技术属性】
技术研发人员：曾尚文，陈久元，杨利明，
申请(专利权)人：四川晶辉半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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