一种密闭式取样头制造技术

本实用新型专利技术公开了一种密闭式取样头，包括本体，本体的顶端设置有进液接口，进液接口的内部设置有进液通道，本体的内部设置有贯穿本体的插底管，插底管内部的通道与进液通道密封连通；本体的底端设置有取样瓶接口，插底管位于取样瓶接口的内部，取样瓶通过取样瓶接口与本体连接；本体的内部设置有气腔，气腔与取样瓶接口的进气口连通；本体上设置有排气接口，排气接口内部的排气通道与气腔连通。本实用新型专利技术采用上述结构的密闭式取样头，能够解决现有的取样装置结构复杂，容易造成光刻胶污染的问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
一种密闭式取样头


[0001]本技术涉及取样头结构
，尤其是涉及一种密闭式取样头。

技术介绍

[0002]光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。作为集成电路制造的关键材料，其性能直接影响到集成电路芯片的集成度、运行速度及功耗等性能。
[0003]目前光刻胶的取样多采用敞口取样，当室内环境洁净度不达标或气流扰动时胶液中会引入颗粒，影响光刻胶的曝光效果。再加上光刻胶对环境湿度极为敏感，环境的湿度波动会影响光刻胶的稳定性。
[0004]中国专利CN213456268U公开了一种负性光刻胶自动取样装置，包括主筒，主筒的底端固定连通有副筒，副筒的底端固定安装有吸盘，副筒的外侧面固定套接有固定套，固定套的底端等角度固定安装有固定杆；当需要对光刻胶进行吸取时，可通过将底座的底端与盛有光刻胶的容器内腔底端进行接触，亦可通过将吸盘与容器内腔底端进行固定，位于活动杆顶端的缓冲弹簧可以适应吸盘的形变带动活动杆相对固定杆发生位移以适应不同的工况，从而实现无本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种密闭式取样头，其特征在于：包括本体，本体的顶端设置有进液接口，进液接口的内部设置有进液通道，本体的内部设置有贯穿本体的插底管，插底管内部的通道与进液通道密封连通；本体的底端设置有取样瓶接口，插底管位于取样瓶接口的内部，取样瓶通过取样瓶接口与本体连接；本体的内部设置有气腔，气腔与取样瓶接口的进气口连通；本体上设置有排气接口，排气接口内部的排气通道与气腔连通。2.根据权利要求1所述的一种密闭式取样头，其特征在于：所述本体的顶端设置有连接座一，进液接口通过连接座...

【专利技术属性】
技术研发人员：范莹莹，胡文博，
申请(专利权)人：明士新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：