本发明专利技术提供了一种氮铜掺杂的石墨烯量子点、应用及装置，采用氮掺杂提升了石墨烯量子点的量子产率，使得石墨烯量子点在对四环素类抗生素进行检测的时候能够产生较为明显的荧光淬灭效果，同时在对槲皮素进行检测的时候，能够增加双峰强度的对比度，同时铜的掺杂能够使量子点和槲皮素之间形成电子转移，使得石墨烯量子点能够对槲皮素进行检测。本发明专利技术制备方法简单，检测范围大，检测下限低，成本低廉。成本低廉。成本低廉。
【技术实现步骤摘要】
一种氮铜掺杂的石墨烯量子点、应用及装置
[0001]本专利技术涉及量子点荧光检测领域，特别是涉及一种氮铜掺杂的石墨烯量子点、应用及装置。
技术介绍
[0002]随着大肠杆菌等细菌的耐药性逐渐增加，抗生素一类，尤其是四环素类抗生素的使用越来越多，因此很多废水处理后仍然会有抗生素的残留。
[0003]为了有效抑制大肠杆菌的生长，现阶段有些四环素类抗生素还会与槲皮素配合使用，由此也导致了槲皮素的滥用，过量的槲皮素会导致基因突变。
[0004]不论四环素类抗生素还是槲皮素检测需要十分精密的仪器，造成检测十分昂贵。故而如何获得一种低成本的抗生素检测手段具有十分重要的市场价值。
技术实现思路
[0005]基于此，有必要针对检测四环素类抗生素和槲皮素在废水中存量检测昂贵等一系列问题，提供一种氮铜掺杂的石墨烯量子点、应用及装置。
[0006]本专利技术提供的技术方案为：一种氮铜掺杂的石墨烯量子点，化学式为
[0007][0008]本专利技术制备方法为：将乙二胺四乙酸和氯化铜混合于水中进行分散，然后转移至反应釜中进行加热反应，将反应后的产物进行过滤，以获得氮铜掺杂的石墨烯量子点。
[0009]本专利技术乙二胺四乙酸和氯化铜的摩尔比为3：1。
[0010]本专利技术反应釜中加热温度为200℃，加热时间为8h。
[0011]本专利技术反应后的产物用500Da的透析膜进行过滤。
[0012]一种氮铜掺杂的石墨烯量子点的应用，其特征在于，用于检测槲皮素和四环素类抗生素。
[0013]本专利技术所述四环素类抗生素为多西环素。
[0014]一种氮铜掺杂的石墨烯量子点，制备方法为：将乙二胺四乙酸和氯化铜混合于水中进行分散，然后转移至反应釜中进行加热反应，将反应后的产物进行过滤，以获得氮铜掺杂的石墨烯量子点，乙二胺四乙酸和氯化铜的摩尔比为3：1，反应釜中加热温度为200℃，加
热时间为8h，反应后的产物用500Da的透析膜进行过滤。
[0015]一种用于检测四环素类抗生素和槲皮素的装置，包括：
[0016]两个光源，发光波长分别为365nm和410nm；
[0017]平台，上面放置有滤纸，滤纸上设置有中心样品区和两个测试区，两个测试区分别位于中心样品区的两侧，并与中心样品区连通。
[0018]本专利技术的有益效果为：
[0019]采用氮掺杂提升了石墨烯量子点的量子产率，使得石墨烯量子点在对四环素类抗生素进行检测的时候能够产生较为明显的荧光淬灭效果，同时在对槲皮素进行检测的时候，能够增加双峰强度的对比度，同时铜的掺杂能够使量子点和槲皮素之间形成电子转移，使得石墨烯量子点能够对槲皮素进行检测。本专利技术制备方法简单，检测范围大，检测下限低，成本低廉。
附图说明
[0020]图1为本专利技术实施例的氮铜掺杂的石墨烯量子点的TEM图；
[0021]图2为本专利技术实施例的氮铜掺杂的石墨烯量子点的粒径分布图；
[0022]图3为本专利技术实施例的氮铜掺杂的石墨烯量子点的AFM图
[0023]图4为本专利技术实施例的氮铜掺杂的石墨烯量子点的XRD图；
[0024]图5为本专利技术实施例的氮铜掺杂的石墨烯量子点和EDTA(乙二胺四乙酸)的FT
‑
IR图；
[0025]图6为本专利技术实施例的氮铜掺杂的石墨烯量子点的UV吸收光谱、PLE光谱和PL光谱；
[0026]图7为本专利技术实施例的氮铜掺杂的石墨烯量子点的在不同激发波长条件下的PL图；
[0027]图8为本专利技术实施例的氮铜掺杂的石墨烯量子点三维荧光图；
[0028]图9为本专利技术实施例的氮铜掺杂的石墨烯量子点在不同条件下的荧光强度变化图；
[0029]图10为本专利技术实施例的氮铜掺杂的石墨烯量子点在不同NaCl浓度条件下的荧光强度变化图；
[0030]图11为本专利技术实施例的QCT和DOX引发石墨烯量子点荧光强度变化过程图；
[0031]图12为不同浓度DOX下石墨烯量子点荧光强度图；
[0032]图13为不同浓度DOX引起石墨烯量子点荧光强度变化量图；
[0033]图14为低浓度DOX引起石墨烯量子点荧光强度变化量图；
[0034]图15为不同浓度TC(四环素)、OTC(土霉素)和CTC(金霉素)引起石墨烯量子点水溶液荧光强度变化图；
[0035]图16为本专利技术实施例石墨烯量子点、DOX以及石墨烯量子点混合DOX的UV吸收图；
[0036]图17为DOX的紫外UV吸收图、石墨烯量子点的PL和PLE图；
[0037]图18为DOX加入石墨烯量子点前后荧光衰减图；
[0038]图19为图17中DOX替换为TC(四环素)、OTC(土霉素)和CTC(金霉素)后的对应谱图；
[0039]图20为本专利技术实施例石墨烯量子点在不同浓度槲皮素(QCT)下荧光激发谱；
[0040]图21为本专利技术实施例石墨烯量子点在不同浓度槲皮素下三维荧光谱图；
[0041]图22为本专利技术实施例石墨烯量子点在不同浓度槲皮素下三维荧光谱归一化图；
[0042]图23为本专利技术实施例石墨烯量子点在不同浓度槲皮素下FA
‑
1和FA
‑
2比值关系图；
[0043]图24为QCT的紫外UV吸收图、石墨烯量子点的PL和PLE图；
[0044]图25为各个检测物质加入至DOX(200μmol/L)和石墨烯量子点中前后石墨烯量子点的荧光强度比对图；
[0045]图26为各个检测物质加入至QCT(200μmol/L)和石墨烯量子点中前后石墨烯量子点的荧光强度比对图；
[0046]图27为QCT和石墨烯量子点的反应过程图；
[0047]图28为本专利技术实施例滤纸在不同光照下检测DOX和QCT的效果图；
[0048]图29为本专利技术实施例滤纸在检测不同浓度DOX和QCT的效果图。
具体实施方式
[0049]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0050]实施例：
[0051]本实施例提供了一种氮铜掺杂的石墨烯量子点，制备方法为：将乙二胺四乙酸和氯化铜混合于水中进行分散，然后转移至反应釜中进行加热反应，将反应后的产物进行过滤，以获得氮铜掺杂的石墨烯量子点，乙二胺四乙酸和氯化铜的摩尔比为3：1，反应釜中加热温度为200℃，加热时间为8h，反应后的产物用500Da的透析膜进行过滤。
[0052]参见图1，本实施例制备得到的氮铜掺杂的石墨烯量子点大体上具有0.24nm的晶格间距，该晶格间距对应于sp2石墨碳的(100)面。参见图2，石墨烯量子点的尺本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种氮铜掺杂的石墨烯量子点，其特征在于，化学式为2.根据权利要求1所述的氮铜掺杂的石墨烯量子点，其特征在于，制备方法为：将乙二胺四乙酸和氯化铜混合于水中进行分散，然后转移至反应釜中进行加热反应，将反应后的产物进行过滤，以获得氮铜掺杂的石墨烯量子点。3.根据权利要求2所述的氮铜掺杂的石墨烯量子点，其特征在于，乙二胺四乙酸和氯化铜的摩尔比为3：1。4.根据权利要求3所述的氮铜掺杂的石墨烯量子点，其特征在于，反应釜中加热温度为200℃，加热时间为8h。5.根据权利要求2所述的氮铜掺杂的石墨烯量子点，其特征在于，反应后的产物用500Da的透析膜进行过滤。6.一种如权利要求1
‑
5任一权利要求所述的氮铜掺杂的石墨烯量子点的应用，其特征在于，用于...
【专利技术属性】
技术研发人员：李婷婷，陈达，程泂，王昌兴，唐思源，郭国强，李夏梦，王一茹，王林藩，胡厚文，
申请(专利权)人：宁波大学，
类型：发明
国别省市：
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