清洗机构及辊压装置制造方法及图纸

本申请涉及一种清洗机构及辊压装置，包括擦拭带、走带组件和浸润组件，擦拭带设置于走带组件上，走带组件用于引导擦拭件走带，浸润组件布置于擦拭带的走带路径上，用于浸润擦拭带，被浸润组件浸湿的擦拭带用于对被清洁面执行擦拭操作。本申请在实际应用时，擦拭带先经过浸润组件而被浸湿，而后经过擦拭位置与被清洁面接触，此时被浸湿的擦拭带能够软化被清洁面上的物料，并将物片材走，能够对被清洁面进行有效擦拭，清洁效果好。当清洁机构应用在辊压装置上时，通过被浸湿的擦拭带对压辊的辊压面进行连续的擦拭，清洁效果好，可以减小人工对辊压面的擦拭频次，提高辊压装置的生产效率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
清洗机构及辊压装置


[0001]本申请涉及辊压
，特别是涉及一种清洗机构及辊压装置。

技术介绍

[0002]在片材（如极片）制备过程中，为了增强涂层材料与基材的粘结强度，需要增加辊压工序进行压实作业。在辊压过程中，片材上的物料容易粘附在轧辊上，若不及时清理会出现轧辊压爆片材的问题。通常，会在辊压装置上配置刮刀来刮除轧辊粘附的物料，刮刀在刮除物料时容易损伤辊压面，且对于硬质粘料，刮刀的刮除效果不理想，需要人工手工擦辊。

技术实现思路

[0003]鉴于上述问题，本申请提供一种清洗机构及辊压装置，能够缓解因刮刀刮除物料容易损伤辊压面且刮除效果不理想的问题。
[0004]第一方面，本申请提供了一种清洗机构，包括擦拭带、走带组件和浸润组件，擦拭带设置于走带组件上，走带组件用于引导擦拭件走带，浸润组件布置于擦拭带的走带路径上，用于浸润擦拭带，被浸润组件浸湿的擦拭带用于对被清洁面执行擦拭操作。
[0005]本申请的技术方案，在实际应用时，被清洁面与擦拭带在擦拭位置相接触，擦拭位置布置在浸润组件的下游，擦拭带先经过浸润组件而被本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗机构，其特征在于，包括：擦拭带（10）；走带组件（20），所述擦拭带（10）设置于所述走带组件（20）上，所述走带组件（20）用于引导所述擦拭带（10）走带；及浸润组件（30），布置于所述擦拭带（10）的走带路径上，用于浸润所述擦拭带（10），被所述浸润组件（30）浸湿的所述擦拭带（10）用于对被清洁面（S）执行擦拭操作；所述走带组件（20）包括在所述走带路径上间隔布置的至少两个擦拭辊（21），所述擦拭带（10）依次途径各个所述擦拭辊（21）；位于相邻所述两个擦拭辊（21）之间的所述擦拭带（10）被配置为用于与所述被清洁面（S）面接触。2.根据权利要求1所述的清洗机构，其特征在于，各所述擦拭辊（21）被配置为可移动地设置，以带动所述擦拭带（10）靠近或远离所述被清洁面（S）。3.根据权利要求1所述的清洗机构，其特征在于，所述浸润组件（30）包括浸泡池（31），所述浸泡池（31）用于盛装浸润液；所述走带组件（20）包括浸湿辊（22），所述浸湿辊（22）设于所述浸泡池（31）内且张紧所述擦拭带（10）。4.根据权利要求1所述的清洗机构，其特征在于，所述清洗机构还包括控水组件（40），所述擦拭带（10）途径所述控水组件（40），所述控水组件（40）用于降低所述擦拭带（10）的浸润程度；在所述走带路径上，所述控水组件（40）位于所述浸润组件（30）的下游，且被配置为位于所述被清洁面（S）的上游。5.根据权利要求4所述的清洗机构，其特征在于，所述控水组件（40）包括主辊（41）和副辊（42），所述主辊（41）和所述副辊（42）间隔形成有供所述擦拭带（10）穿设的间隙，且两者被配置为能够共同挤压途径所述间隙的所述擦拭带（10）。6.根据权利要求5所述的清洗机构，其特征在于，所述主辊（41）和所述副辊（42）被配置为能够相对移动地设置，以改变两者之间的间隙。7.根据权利要求1所述的清洗机构，其特征在于，所述清洗机构还包括接液盘（50），在重力方向...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈胜燊，曾毅，贾少雄，
申请(专利权)人：宁德时代新能源科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：