【技术实现步骤摘要】
成像镜头、相机模块及电子装置
[0001]本揭示内容是关于一种成像镜头与相机模块，且特别是一种应用在可携式电子装置上的成像镜头与相机模块。
技术介绍
[0002]近年来，可携式电子装置发展快速，例如智能电子装置、平板电脑等，已充斥在现代人的生活中，而装载在可携式电子装置上的相机模块与其成像镜头也随之蓬勃发展。但随着科技愈来愈进步，使用者对于成像镜头的品质要求也愈来愈高。因此，发展一种可减少反射光产生以保持成像画面清晰的成像镜头遂成为产业上重要且急欲解决的问题。
技术实现思路
[0003]本揭示内容提供一种成像镜头、相机模块及电子装置，通过设置遮光结构以减少反射光产生，借以保持成像画面清晰。
[0004]依据本揭示内容一实施方式提供一种成像镜头，其包含多个光学元件与一光路径转折机构，其中一光轴通过光学元件，且光路径转折机构配置于光轴上用以转折光轴至少一次。光路径转折机构包含至少一光线转折元件、一遮光结构及一纳米结构层。光线转折元件包含一反射面、一入光面及一出光面。反射面用以将光线转折元件的一入光光路转折至一...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种成像镜头，其特征在于，包含：多个光学元件，一光轴通过所述多个光学元件；以及一光路径转折机构，配置于该光轴上用以转折该光轴至少一次，且包含：至少一光线转折元件，包含：一反射面，用以将该至少一光线转折元件的一入光光路转折至一出光光路；一入光面，配置于该反射面的物侧，且该入光光路通过该入光面；及一出光面，配置于该反射面的像侧，且该出光光路通过该出光面；一遮光结构，设置于该至少一光线转折元件的该入光面和该出光面中至少一者上，且该遮光结构包含：一主要遮光部，位于通过该光轴的一横截面上最靠近该光轴的一边缘部；及一纳米结构层，连续分布于该至少一光线转折元件的该入光面和该出光面中至少该者与该遮光结构的该主要遮光部上，该纳米结构层呈现多个不规则脊状凸起；其中，该遮光结构的该主要遮光部环绕该光轴定义一通光区域；其中，该纳米结构层的平均高度介于90nm至350nm。2.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该遮光结构同时设置于该至少一光线转折元件的该入光面和该出光面上。3.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该主要遮光部的边缘厚度介于0.4um至50um。4.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该纳米结构层的平均高度介于125nm至300nm。5.如权利要求4所述的成像镜头，其特征在于，该纳米结构层的平均高度介于195nm至255nm。6.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件还包含一连接结构层，该连接结构层设置于该纳米结构层与该至少一光线转折元件的该入光面和该出光面中至少该者之间。7.如权利要求6所述的成像镜头，其特征在于，该连接结构层进一步设置于该纳米结构层与该遮光结构之间。8.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件的数量为二，且该光路径转折机构用以转折该光轴二次。9.如权利要求8所述的成像镜头，其特征在于，该二光线转折元件的该二反射面互相平行。10.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件的数量为三，且该光路径转折机构用以转折该光轴三次。11.如权利要求10所述的成像镜头，其特征在于，该三光线转折元件的所述多个反射面的其中二者互相垂直。12.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件还包含一连接面，该连接面连接该反射面、该入光面及该出光面。13.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件为塑胶光线转折元件。
14.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件为玻璃光线转折元件。15.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件的阿贝数介于40至65。16.一种相机模块，其特征在于，包含：如权利要求1所述的成像镜头。17.一种电子装置，其特征在于，包含：如权利要求16所述的相机模块；以及一电...
【专利技术属性】
技术研发人员：苏恒毅，周明达，蔡温祐，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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