一种干涉终点检测结构及半导体工艺设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种干涉终点检测结构及半导体工艺设备，涉及半导体技术领域，干涉终点检测结构的调节支架包括：平行光管固定架和支撑架，支撑架的一端用于与喷嘴可拆卸连接，另一端与平行光管固定架连接；平行光管固定架的一端和支撑架的另一端其中之一设置有球形转动槽，平行光管固定架的一端和支撑架的另一端其中另一设置有球形转动件，球形转动件转动设置在球形转动槽内，用于调节所述光信号接收模块的接收方向；解决现有技术中的干涉终点检测结构的调节支架调节不便，调节过程繁琐，难以一次将光纤的接收方向调整好，经常需要反复多次调节才可以达到调节目标的问题。要反复多次调节才可以达到调节目标的问题。要反复多次调节才可以达到调节目标的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种干涉终点检测结构及半导体工艺设备


[0001]本技术属于半导体
，更具体地，涉及一种干涉终点检测结构及半导体工艺设备。

技术介绍

[0002]半导体工艺中，刻蚀机使用的终点检测系统可以实时监控晶圆刻蚀工艺进行时的光谱变化，从而决定何时结束刻蚀步骤(etch step)。刻蚀机使用的终点检测系统一般分为干涉终点检测(Interferometric Endpoint)和光谱终点检测(Optical Emission Spectroscopy)，二者分别简称IEP和OES；其中干涉终点检测，利用光源在晶圆(wafer)表面薄膜(film)产生的反射，根据反射波在不同厚度薄膜产生干涉从而引起光强周期性变化，从而监控刻蚀深度。光谱终点检测，利用不同物质等离子体刻蚀反应物光谱不同的特点，根据反应物变化引起特定波长的光强变化从而确定刻蚀深度。IEP和OES都广泛应用于刻蚀机，是刻蚀机不可缺少的关键设备。
[0003]现有的干涉终点检测结构的调节支架调节不便，调节过程繁琐，难以一次将光纤的接收方向调整好，经常需要反复多次调节才可以达到调节目标本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种干涉终点检测结构，用于半导体工艺设备，所述半导体工艺设备包括反应腔室，所述干涉终点检测结构设置于所述半导体反应腔室的喷嘴上，其特征在于，所述干涉终点检测结构包括平行光管、光信号接收模块和调节支架；所述光信号接收模块与所述平行光管连接；所述调节支架包括：平行光管固定架和支撑架，所述平行光管固定架上设有用于固定所述平行光管的平行光管固定孔，所述支撑架的一端用于与所述喷嘴可拆卸连接，所述支撑架的另一端与所述平行光管固定架连接；所述平行光管固定架的一端和所述支撑架的另一端其中之一设置有球形转动槽，所述平行光管固定架的一端和所述支撑架的另一端其中另一设置有球形转动件，所述球形转动件转动设置在所述球形转动槽内，用于调节所述光信号接收模块的接收方向。2.根据权利要求1所述的干涉终点检测结构，其特征在于，所述球形转动槽的槽壁上设置有第一紧固结构，所述第一紧固结构用于将所述球形转动件紧固在所述球形转动槽内。3.根据权利要求1所述的干涉终点检测结构，其特征在于，所述支撑架包括第一支撑件和第二支撑件，所述第一支撑件包括水平连接部和竖向连接部，所述水平连接部用于与所述喷嘴可拆卸连接，所述竖向连接部沿竖直方向向上延伸，所述第二支撑件与所述竖向连接部在竖直方向上滑动连接，所述球形转动件与所述第二支撑件连接。4.根据权利要求3所述的干涉终点检测结构，其特征在于，所述水平连接部包括环形的第一连接件，所述平行光管的下部活动设置在所述第一连接件的内周，所述第一连接件用于与所述喷嘴连接，所述第一连接件通过条形的第二连接件与所述竖向连接部的下端连接。5.根据权利要求3所述的干涉终点检测结构，其特征在于，所述竖向连接部与所述第二支撑件的其中之一设置有竖向的滑槽，所述竖向连接部与所述第二支撑件的其中另一设置有与所述滑槽滑动配合的滑块，所述竖向连接部上设置有第二紧固结构，所述第二紧固结构用于将所述滑块紧固在所述滑槽内。6.根据权利要求1所述的干涉终点检测结构，其特征在于，所述光信号接收模块包括光纤和光信号处理单元，所述平行光管固定架的上方设置有光纤固定架，所述光纤固定架上开设有光纤固定孔，所述光纤固定孔用于固定所述光纤，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李尔林，翟广龙，王江川，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：