本实用新型专利技术公开了一种定向CVD碳化硅沉积固定装置，具体涉及碳化硅领域，包括底座，底座的顶部固定安装有石墨坩埚，底座的顶部固定安装有循环水冷机构，循环水冷机构的一侧固定安装有冷却机构；循环水冷机构包括固定安装在底座顶部的蓄水盒，蓄水盒的顶部连通有进水管，进水管的顶部连通有盛水斗，进水管的底部转动安装有单向阀，蓄水盒靠近石墨坩埚的一侧开设有水槽，水槽的底部开设有通口，通口的底部设有阻塞浮板。本实用新型专利技术通过设置循环水冷机构和冷却机构，通过对石墨坩埚外表面进行持续的循环水冷散热，进而使得石墨坩埚冷却速度加快，提高使用效率，同时提高对水的冷却速度，提高散热效果。高散热效果。高散热效果。
【技术实现步骤摘要】
一种定向CVD碳化硅沉积固定装置
[0001]本技术涉及碳化硅
，更具体地说，本技术涉及一种定向CVD碳化硅沉积固定装置。
技术介绍
[0002]碳化硅，是一种无机物，是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生产绿色碳化硅时需要加食盐)等原料通过电阻炉高温冶炼而成。碳化硅在大自然也存在罕见的矿物，莫桑石。在C、N、B等非氧化物高技术耐火原料中，碳化硅为应用最广泛、最经济的一种，可以称为金钢砂或耐火砂。
[0003]定向CVD(化学气相沉积)碳化硅沉积是通过在高温的石墨坩埚中制备，进而在制备完成后，其石墨坩埚往往需要进行散热，传统的都是通过空气自然散热，散热效率慢，进而影响之后工作使用。
技术实现思路
[0004]为了克服现有技术的上述缺陷，本技术的实施例提供一种定向CVD 碳化硅沉积固定装置，通过在定向CVD碳化硅沉积固定装置上设置循环水冷机构，进而通过对石墨坩埚外表面进行持续的循环水冷散热，进而使得石墨坩埚冷却速度加快，提高使用效率，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种定向CVD碳化硅沉积固定装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有石墨坩埚，所述底座的顶部固定安装有循环水冷机构，所述循环水冷机构的一侧固定安装有冷却机构；
[0006]所述循环水冷机构包括固定安装在底座顶部的蓄水盒，所述蓄水盒的顶部连通有进水管，所述进水管的顶部连通有盛水斗，所述进水管的底部转动安装有单向阀，所述蓄水盒靠近石墨坩埚的一侧开设有水槽，所述水槽的底部开设有通口，所述通口的底部设有阻塞浮板，所述阻塞浮板滑动安装在蓄水盒的侧壁，所述蓄水盒的顶部连通有两个输水管，两个所述输水管远离蓄水盒的一侧连通有放水盒，所述放水盒固定安装在石墨坩埚的顶部，所述放水盒的底部连通有多个喷嘴。
[0007]在一个优选地实施方式中，所述冷却机构包括连通在输水管两侧的分流管，所述分流管靠近石墨坩埚的一侧设有扇叶板，所述扇叶板转动安装在蓄水盒的顶部，所述扇叶板远离分流管的一侧固定安装有接水斗，所述接水斗与石墨坩埚的外壁相贴合。
[0008]在一个优选地实施方式中，所述蓄水盒呈圆环状设置，所述蓄水盒与石墨坩埚的外壁相贴合。
[0009]在一个优选地实施方式中，所述进水管的长度大于输水管的长度，所述进水管顶部的水平高度高于输水管顶部的水平高度。
[0010]在一个优选地实施方式中，所述阻塞浮板顶部的截面面积与通口的截面面积相同，所述阻塞浮板的顶部与通口的内壁相贴合。
[0011]在一个优选地实施方式中，所述输水管的长度大于石墨坩埚的长度，所述输水管顶部的水平高度高于放水盒顶部的水平高度，所述输水管的底部与蓄水盒的底部之间留有间距。
[0012]在一个优选地实施方式中，多个所述喷嘴以石墨坩埚外圆周呈环形依次等距状态设置，多个所述喷嘴呈朝向石墨坩埚外壁方向的倾斜设置。
[0013]本技术的技术效果和优点：
[0014]1、本技术通过设置循环水冷机构，在碳化硅沉积结束后，通过将水倒入盛水斗中，进而使得进入蓄水盒中的水通向输水管中，进而通过连通器原理，将水从多个喷嘴中流出对石墨坩埚的外壁进行冷却，进而使得冷却后的水沿着石墨坩埚的外壁流下进入蓄水盒中，从而通过虹吸原理使得整个形成循环过程，从而通过对石墨坩埚外表面进行持续的循环水冷散热，进而使得石墨坩埚冷却速度加快，提高使用效率。
[0015]2、本技术通过设置冷却机构，通过接水斗接住从石墨坩埚外壁流下的水，进而使得接水斗的重量越来越重，进而使得扇叶板被压到转动，进而在转动后，接水斗将水向下倒出，进而使得接水斗恢复重量，进而使得扇叶板再次转动，从而使得扇叶板对分流管进行扇动，从而提高分流管周围的空气流速，进而提高分流管中水的散热效果。
附图说明
[0016]图1为本技术的整体结构示意图。
[0017]图2为本技术的剖视图。
[0018]图3为本技术的侧剖图。
[0019]图4为本技术图3的A部结构放大图。
[0020]附图标记为：1、底座；2、石墨坩埚；3、循环水冷机构；31、蓄水盒； 32、进水管；33、盛水斗；34、单向阀；35、阻塞浮板；36、输水管；37、放水盒；38、喷嘴；4、冷却机构；41、分流管；42、扇叶板；43、接水斗。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0022]参照说明书附图1
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4，一种定向CVD碳化硅沉积固定装置，如图1所示，包括底座1，底座1的顶部固定安装有石墨坩埚2，底座1的顶部固定安装有循环水冷机构3，循环水冷机构3的一侧固定安装有冷却机构4；
[0023]如图2、图3和图4所示，循环水冷机构3包括固定安装在底座1顶部的蓄水盒31，蓄水盒31的顶部连通有进水管32，进水管32的顶部连通有盛水斗33，进水管32的底部转动安装有单向阀34，蓄水盒31靠近石墨坩埚2的一侧开设有水槽，水槽的底部开设有通口，通口的底部设有阻塞浮板35，阻塞浮板35滑动安装在蓄水盒31的侧壁，如图4所示，进而在碳化硅沉积结束后，通过将水倒入盛水斗33中，进而使得水通过进水管32顶开单向阀34 而进入蓄水盒31中，进而将蓄水盒31中的水灌满，进而使得蓄水盒31中的阻塞浮板35抬起，通过阻塞浮板35将通口堵住，进而使得蓄水盒31无法连通外界，蓄水盒31的顶部连通有两个输水管36，两个输水管36远离蓄水盒 31的一侧连通有放水盒37，放水盒37固定安装在石墨坩埚
2的顶部，放水盒37的底部连通有多个喷嘴38，如图2所示，进而使得进入蓄水盒31中的水通向输水管36中，进而通过连通器原理，由进水管32液柱高的一端向输水管36液柱低的一端流动，进而通过输水管36流入放水盒37中，进而从多个喷嘴38中流出，进而此时停止倒入水到蓄水盒31中，进而通过单向阀34 堵住水反流到进水管32中，进而使得水对石墨坩埚2的外壁进行冷却，进而使得冷却后的水沿着石墨坩埚2的外壁流下，进而通过通口将阻塞浮板35向下挤压，进而使得水进入蓄水盒31中，从而通过虹吸原理，输水管36顶部的液体会持续通过输水管36向更低的位置流出，进而使得整个形成循环过程，从而通过对石墨坩埚外表面进行持续的循环水冷散热，进而使得石墨坩埚冷却速度加快，提高使用效率。
[0024]如图2所示，蓄水盒31呈圆环状设置，蓄水盒31与石墨坩埚2的外壁相贴合，进而使得从石墨坩埚2的外壁流下的水被蓄水盒31重新接住。
[0025]如图3所示，进水管32的长度大于输水管36的长度，进水管32顶部的水平高度高于输水管36顶部的水平高度，进而使得在进水管32与输水管36 连通时，进水管32会因连通器原理而使其液面与输水管36的液面保持一致。
[0026]如图4所示，阻塞浮板35顶部的截面面积与通口的截面面积相同，阻塞浮本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种定向CVD碳化硅沉积固定装置，包括底座(1)，所述底座(1)的顶部固定安装有石墨坩埚(2)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有循环水冷机构(3)，所述循环水冷机构(3)的一侧固定安装有冷却机构(4)；所述循环水冷机构(3)包括固定安装在底座(1)顶部的蓄水盒(31)，所述蓄水盒(31)的顶部连通有进水管(32)，所述进水管(32)的顶部连通有盛水斗(33)，所述进水管(32)的底部转动安装有单向阀(34)，所述蓄水盒(31)靠近石墨坩埚(2)的一侧开设有水槽，所述水槽的底部开设有通口，所述通口的底部设有阻塞浮板(35)，所述阻塞浮板(35)滑动安装在蓄水盒(31)的侧壁，所述蓄水盒(31)的顶部连通有两个输水管(36)，两个所述输水管(36)远离蓄水盒(31)的一侧连通有放水盒(37)，所述放水盒(37)固定安装在石墨坩埚(2)的顶部，所述放水盒(37)的底部连通有多个喷嘴(38)。2.根据权利要求1所述的一种定向CVD碳化硅沉积固定装置，其特征在于：所述冷却机构(4)包括连通在输水管(36)两侧的分流管(41)，所述分流管(41)靠近石墨坩埚(2)的一侧设有扇叶板(42)，所述扇叶板(42)转动安装在蓄水盒(31)的顶部，所述扇叶板(...
【专利技术属性】
技术研发人员：白秋云，
申请(专利权)人：成都超纯应用材料有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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