层压膜的制造方法、用该层压膜的装置及其制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种电气光学装置的制造方法，其中，有机电致发光显示装置（１）是在基板（２）上层压低折射率层（３）、封装层（４）、阳极（８）、发光层（５）、空穴输送层（６）、阴极（７）等多层而形成的。之后，在形成这些层压层中的低折射率层（３）时，在基板（２）上涂布湿润凝胶之后，用超临界干燥法进行干燥。这种方法可以将材料层的化学、物理性质保持在所需的状态。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种包含多层的层压膜的制造方法、包含配置有光学材料的电气光学元件的电气光学装置的制造方法以及电子仪器。
技术介绍
针对各象素配置有有机电致发光(electroluminescence)元件的有机电致发光显示装置(电气光学装置)具有高辉度，而且是自发光，也可用直流低电压驱动，且响应快、可由固体有机膜发光，因此其显示性能优良，另外由于可以完成显示装置的薄型化、轻量化、低耗电化，因此将来可望成为继液晶显示装置后的显示装置。图22是表示有机电致发光显示装置模式一实施例的截面图。在该有机电致发光显示装置100中，在玻璃基板101上形成有发光层102和空穴输送层103被夹持于金属电极(阴极)104和透明电极(阳极)105之间而构成的有机电致发光元件106。虽未图示，但如果是有源阵列型的有机电致发光显示装置，实际上其中多个数据线和多个扫描线是以格子形状配置而成的，配置成被这些数据线和扫描线所区划的矩阵状的各象素上，都配置有开关晶体管和驱动晶体管等驱动用晶体管和所述的有机电致发光元件106。因此，当通过数据线和扫描线提供驱动信号之后在阳极和阴极之间流通有电流，有机电致发光元件106会发出光并射向玻璃基板101的外侧，点亮其象素。但是，在实际的有机电致发光显示装置中，除了所述的多个材料层之外，还配置有封装层和树脂层(或者是聚合物层)等。在这些材料层的制造工艺中，残留于材料层中的溶剂或聚合物前驱体或者单体等杂质会成为引发有机电致发光元件劣化的原因。另外，当除去溶剂或聚合物前驱体或者单体后，材料层的体积会减少，会影响有机电致发光显示装置的功能。
技术实现思路
鉴于以上问题，本专利技术的目的在于提供在形成电气光学装置中的各部件或层压膜时，可以充分除去杂质，并可将各层、各部件的化学特性或物理特性维持在所需状态下的层压膜的制造方法、电气光学装置的制造方法、以及配置有根据该制造方法制造出的电气光学装置的电子仪器。为了解决上述问题，本专利技术层压膜的制造方法的特征在于在包含多层的层压膜的制造方法中，形成所述多层的中的至少一个层的工艺的至少一部分是在超临界条件下进行的。根据本专利技术，通过使形成构成层压膜的层的工艺的至少一部分在超临界条件下进行，可以从层中去除溶剂或杂质等。从而可以防止由杂质所引发的层压膜的劣化。另外，所述“层”并不限于被层压的膜状结构，也包含形成在分布于与层压方向正交方向上的区域的材料·部件。而且，当作为超临界液体使用二氧化碳(CO2)或乙醇时，可以在较低的温度和压力下形成超临界条件，因此可以边抑制层的化学特性或物理特性的变化(体积收缩等形状变化)，边从层中去除杂质(溶剂、单体等)。另外，超临界流体是指所处状态的温度、压力略高于状态图中的温度、压力、熵线图的临界点的流体。另外，作为超临界流体，可使用水、二氧化碳、甲醇、乙醇及氧等。在这种情况下，所述的至少一个层是由低折射率材料构成的。作为低折射率材料有，如多孔质硅、氟化镁或含这些的材料、分散有氟化镁微粒的凝胶、含氟聚合物或含有这些的材料、具有支链结构的多孔性聚合物、在所定材料中含有无机微粒及有机微粒中的至少一种的材料等。另外，当作为低折射率材料使用湿润凝胶时，通过在超临界条件下干燥该湿润凝胶，可得作为可透过光的多孔质体的气溶胶。此时通过在超临界条件下进行干燥工艺以生成气溶胶(多孔质体)，可以在几乎不收缩湿润凝胶的条件下完成干燥。另外，所述的至少一个层是由聚合物构成的。形成由所述聚合物构成的层的工艺，包括在基体上配置好所述聚合物的前驱体或单体之后进行固化或聚合的过程。即，作为层压膜中的一层的聚合物层，也可以在基体上涂布流动性高的单体之后，通过固化或聚合而形成。然后通过在超临界条件下干燥由固化或聚合形成的聚合物层，可以去除残留在聚合物层内的溶剂及聚合物前驱体或单体。另外，当聚合物层为多孔质体时，通过在超临界条件下进行干燥，可以维持其孔隙率。此时，所述多层中的至少一个为屏蔽层。通过配置屏蔽层，可以抑制层压膜的物质透过性。在这里，如果在屏蔽层的上层或下层形成所述聚合物层(或者是低折射率材料层)，如前所述，可以通过涂布高流动性的单体之后再经固化或聚合形成聚合物层，以减少屏蔽层的结构上的缺陷。之后，在超临界条件下干燥该聚合物层(低折射率层)，可以确保聚合物层的孔隙率，因此配置有屏蔽层及聚合物层的层压膜具有良好的光透过性及屏蔽性。屏蔽层可以根据所需要抑制其浸透的物质进行适当选择。如当需要抑制氧或水时，可以使用陶瓷、特别是氮化硅、氮氧化硅、氧化硅等。另外，也可在有机材料或无机材料上分散干燥剂和吸附剂中的至少一种。在需要抑制金属离子的浸透时，最好使用绝缘膜上添加有各种元素的屏蔽层。本专利技术的电气光学装置配置有根据所述的层压膜的制造方法制造出的层压膜和电气光学元件。本专利技术的第1电气光学装置的制造方法，是制造包含具有光学材料的电气光学元件的电气光学装置的方法，其特征在于在形成构成所述电气光学装置的至少一个部件的工艺中，至少一部分是在超临界条件下进行。本专利技术的第2电气光学装置的制造方法，是制造包含具有光学材料的电气光学元件的电气光学装置的制造方法，其特征在于包括形成聚合物层及低折射率层中至少一种的工艺，且所述工艺的至少一部分是在超临界条件下进行。在这里所说的低折射率层是指折射率低于或等于通常的玻璃的材料层。具体说是折射率在1.5以下为宜，更优选低于1.2。根据本专利技术，在形成构成电气光学装置的部件的部分工艺中，如在超临界条件下从部件中除去含于该部件中的溶剂或杂质。因此可从电气光学装置中充分除去会引发元件劣化的杂质，进而电气光学装置可以长时间地维持所需的性能。另外，通过在超临界条件下除去溶剂或杂质，可以维持部件的所需形状。所述的“形成”包括除去溶剂或单体等杂质的物理现象和各种化学现象。在所述的电气光学装置中，也可以包含形成屏蔽层的工艺。通过设置屏蔽层，可以抑制氧、水分、离子等会成为元件劣化的原因的物质侵入到装置的内部中。本专利技术的有机电致发光装置的制造方法，是制造配置有机电致发光元件的有机电致发光装置的方法，其特征在于在形成构成所述有机电致发光装置的至少一个部件的工艺中，至少一部分是在超临界条件下进行的。本专利技术的第2种有机电致发光装置的制造方法，是制造配置有机电致发光元件的有机电致发光装置的方法，其特征在于在形成构成所述有机电致发光元件的至少一个材料层的工艺中，至少一部分是在超临界条件下进行的。这里作为构成所述有机电致发光元件的材料层，具体可列举空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层、电子注入层等。本专利技术的第1种电子仪器的特征在于配置有所述的电气光学装置。本专利技术的第2种电子仪器的特征在于配置有按照所述的电气光学装置的制造方法制造出的电气光学装置。本专利技术第3种电子仪器的特征在于配置有按照所述的有机电致发光装置的制造方法制造出的所述有机电致发光装置。根据本专利技术，可实现显示质量优良、并配置有画面清晰的显示部的电子仪器。附图说明图1是表示根据本专利技术的电气光学装置的制造方法形成的电气光学装置的层结构的一实施例的结构示意图。图2是表示超临界干燥装置的一实施例的结构示意图。图3是表示根据本专利技术的电气光学装置的制造方法形成的层压膜的一实施例的截面图。图4是用于说明本专利技术电气光学装置的制造方法的图。图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种层压膜的制造方法，该层压膜包括多层，其特征在于：在形成所述多层中的至少一个层的工艺中，至少一部分是在超临界条件下进行的。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：宫泽贵士，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]