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一种利用射频等离子体制备高纯金属靶坯的装置制造方法及图纸

技术编号:36956477 阅读:33 留言:0更新日期:2023-03-22 19:16
本实用新型专利技术涉及一种利用射频等离子体制备高纯金属靶坯的装置,包括熔炼炉,射频等离子炬体,送料单元,结晶器,真空泵。熔炼炉与射频等离子炬体相连。熔炼炉侧面安装所述送料单元。熔炼炉底部安装所述结晶器。真空泵连接所述熔炼炉,保持所述熔炼炉内压力恒定。射频等离子炬体通入中心气体,中心气体在感应线圈产生的高频电磁场下离解成高温等离子体,形成等离子体火焰。等离子体火焰熔化待提纯金属棒,形成金属液滴落入所述结晶器,在等离子火焰的作用下进一步熔炼提纯,金属熔体凝固形成高纯金属靶坯。本实用新型专利技术具有无电极污染,等离子温度高,气氛压力可控等优点,是制备高纯金属靶坯的一种洁净,高效的装置。高效的装置。高效的装置。

【技术实现步骤摘要】
一种利用射频等离子体制备高纯金属靶坯的装置


[0001]本技术涉及一种利用射频等离子体制备高纯金属靶坯的装置,属于高纯金属靶坯生产


技术介绍

[0002]高纯金属溅射靶材是电子信息材料的重要组成部分,是集成电路、平板显示、信息存储、太阳能电池等高新技术产业溅射镀膜的基本耗材。高纯金属靶坯是制备溅射靶材的基本原材料。其纯度是影响靶材性能的关键指标之一。为了提高材料纯度,研究者已开发了许多提纯技术,如:真空感应熔炼、电子束熔炼、真空蒸馏、区域熔炼,固态电迁移等。虽然这些技术已取得了一定的成功,但在实际应用中仍存在一些不足。例如:真空感应熔炼通常用到陶瓷坩埚,存在坩埚污染,降低金属纯度。真空蒸馏法对于蒸气压相近的金属杂质难以去除。电子束熔炼要求真空度高,且能量利用率低。区域熔炼仅实现杂质的再分配未将杂质完全去除,固态电迁移法耗时长、效率较低,这些不足制约了它们在高纯金属靶坯制备中的应用。
[0003]近年来,直流电弧等离子体熔炼因具有高温、气氛可控等特点已发展成为一种有效的提纯方法,但这一方法的缺陷是阴极材料(如:钨)在高温下容易挥本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种利用射频等离子体制备高纯金属靶坯的装置,其特征在于:包括,熔炼炉;射频等离子炬体,其包括壳体,所述壳体内设有中心管、等离子体约束管和感应线圈,所述中心管与等离子体约束管同轴设置,且所述等离子体约束管的直径大于所述中心管的直径,所述感应线圈设在所述等离子体约束管与所述壳体之间,所述射频等离子炬体与所述熔炼炉相连,所述射频等离子炬体能够产生等离子体火焰;送料单元,其包括夹持部和传动部,所述夹持部设在所述熔炼炉内,所述夹持部夹持待提纯金属棒,所述传动部与所述夹持部相连,所述传动部驱动所述待提纯金属棒传送至所述等离子火焰所在的区域;结晶单元,其包括结晶器和升降装置,所述结晶器设在所述熔炼炉内,所述升降装置与所述结晶器相连,所述升降装置将所述结晶器送至合适位置。2.根据权利要求1所述的一种利用射频等离子体制备高纯金属靶坯的装置,其特征在于:所述中心管通入中心气体。3.根据权利要求2所述的一种利用射频等离子体制备高纯金属靶坯的装置,其特征在于:所述中心气体包括惰性气体、还原性气体或氧化性...

【专利技术属性】
技术研发人员:李传军
申请(专利权)人:苏州大学
类型:新型
国别省市:

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