【技术实现步骤摘要】
一种利用上转换膜进行X射线成像的方法及成像装置
[0001]本专利技术涉及X射线成像
,尤其涉及一种利用上转换膜进行X射线成像的方法及成像装置。
技术介绍
[0002]X射线的探测和成像技术往往用到闪烁体材料。闪烁体与平板探测器耦合的X射线成像技术具有很高的传感和成像灵敏度,这是几十年来的一个重要研究方向。然而迄今为止,需要基于闪烁体的探测器来实现X射线辐射到可见光/电子信号的转换。闪烁体材料对X射线有着即时响应,停止X射线辐射后成像信息不能保留在闪烁体内,由于闪烁体本身不能长期存储X射线辐射信息,因此不能用于灵活和长期存储的X射线成像。
[0003]因此,现有技术还有待于进一步的提升。
技术实现思路
[0004]鉴于上述现有技术的不足,本专利技术的目的在于提供一种利用上转换膜进行X射线成像的方法及成像装置,旨在解决现有闪烁体不能长期存储X射线辐射信息的问题。
[0005]一种利用上转换膜进行X射线成像的方法,其中,包括:
[0006]提供上转换膜,所述上转换膜含有基于镧系元素掺 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种利用上转换膜进行X射线成像的方法,其特征在于,包括:提供上转换膜,所述上转换膜含有基于镧系元素掺杂的上转换纳米颗粒;将待成像物置于所述上转换膜的一侧;用X射线照射所述待成像物,使所述待成像物成像在所述上转换膜上。2.根据权利要求1所述的利用上转换膜进行X射线成像的方法,其特征在于,还包括:用近红外光照射所述上转换膜,使所述待成像物在所述上转换膜上所成的像呈现出来。3.根据权利要求1所述的利用上转换膜进行X射线成像的方法,其特征在于,所述上转换纳米颗粒为NaREF4:A、NaREF4:A@NaREF4中的一种;其中,所述RE选自Y、Gd、La和Lu稀土离子中的一种或几种,所述A为掺杂稀土元素,选自Yb、Tm、Er和Ho中的一种或多种。4.根据权利要求1所述的利用上转换膜进行X射线成像的方法,其特征在于,所述上转换纳米颗粒的粒径为10
‑
500nm。5.根据权利要求2所述的利用上转换膜进行X射线成像的方法,其特征在于,所述近红外光的波长为980nm。6.根据权利要求1所述的利用上转换膜进行X射线成像的方法,其特征在于,所述上转换膜的制备方法包括:将基于镧系元素掺杂的上转换纳米颗...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。