包括金属体的图案化的制品制造技术

一种图案化的制品包括聚合物层，该聚合物层具有相对的第一主表面和第二主表面并且在其中限定多个贯穿开口。对于贯穿开口中的至少次多个贯穿开口中的每个贯穿开口，在贯穿开口中设置有金属体。金属体具有第一最外表面、相对的第二最外表面和在第一最外表面与第二最外表面之间延伸的至少一个侧向侧壁。金属体的第一最外表面与聚合物层的第一主表面基本上齐平。每个侧向侧壁从金属体的第一最外表面朝向聚合物层的第二主表面延伸、或者延伸至第二主表面但不超过第二主表面。金属体在与聚合物层平行的至少一个横截面中与贯穿开口基本上共同延伸。金属体能够彼此电绝缘。金属体能够彼此电绝缘。金属体能够彼此电绝缘。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括金属体的图案化的制品

技术介绍

[0001]可用作天线、EMI屏蔽罩或触摸传感器的制品可包括通过光刻法形成于基底上的金属迹线的微图案。

技术实现思路

[0002]本公开总体涉及包括金属体的图案化的制品。金属体能够彼此电绝缘，或者可包括电连接金属体的传导层。
[0003]在本专利技术的一些方面，提供了一种图案化的制品，该图案化的制品包括聚合物层，该聚合物层具有相对的第一主表面和第二主表面并且在其中限定多个贯穿开口。对于贯穿开口中的至少第一次多个贯穿开口中的每个贯穿开口，在贯穿开口中设置有金属体。金属体具有第一最外表面、相对的第二最外表面和在第一最外表面与第二最外表面之间延伸的至少一个侧向侧壁。金属体的第一最外表面与聚合物层的第一主表面基本上齐平。每个侧向侧壁从金属体的第一最外表面朝向聚合物层的第二主表面延伸、或者延伸至第二主表面但不超过第二主表面。金属体能够在与聚合物层平行的至少一个横截面中与贯穿开口基本上共同延伸。金属体能够彼此电绝缘。
[0004]在本说明书的一些方面，提供了一种图案化的制品，该图案化的制品包括聚合物层，该聚合物层包括结构化的第一主表面和相对的第二主表面并且在其中限定多个贯穿开口。对于贯穿开口中的至少第一次多个贯穿开口中的每个贯穿开口，在贯穿开口中设置有金属体。金属体具有与聚合物层的第一主表面相邻的第一最外表面、相对的第二最外表面和在第一最外表面与第二最外表面之间延伸的至少一个侧向侧壁。每个侧向侧壁从金属体的第一最外表面朝向聚合物层的第二主表面延伸、或者延伸至第二主表面但不超过第二主表面。金属体能够在与聚合物层平行的至少一个横截面中与贯穿开口基本上共同延伸。金属体能够彼此电绝缘。
[0005]在本说明书的一些方面，提供了一种图案化的制品，该图案化的制品包括设置在传导层上的一体化聚合物层。一体化聚合物层包括面向传导层的第一主表面和相对的第二主表面。一体化聚合物层在其中限定多个贯穿开口。对于贯穿开口中的至少第一次多个贯穿开口中的每个贯穿开口，在贯穿开口中设置一体化金属体。一体化金属体包括至少一个侧向侧壁，侧向侧壁在一体化金属体的相对的最外主表面之间延伸。每个侧向侧壁从传导层朝向一体化聚合物层的第二主表面延伸、或者延伸至第二主表面但不超过第二主表面。一体化金属体在与一体化聚合物层平行的至少一个横截面中与贯穿开口基本上共同延伸。一体化金属体可填充贯穿开口体积的至少10％。
[0006]在本说明书的一些方面，提供了一种用于制作图案化的制品的方法。该方法依次包括：提供传导层；在传导层上形成聚合物层，其中聚合物层在其中限定多个贯穿开口；在贯穿开口中的至少第一次多个贯穿开口中的每个贯穿开口中沉积金属体，使得金属体与传导层接触；以及可选地去除传导层，从而使金属体彼此电绝缘。
[0007]这些和其它方面将从以下详细描述中变得显而易见。但是，在任何情况下，本简要
概述都不应解释为限制可要求保护的主题。
附图说明
[0008]图1A是用于制作图案化的制品的例示性方法的步骤的示意图。
[0009]图1B至图1C是可通过图1A的方法制作的例示性制品的示意性剖视图。
[0010]图1D是例示性图案化的制品的一部分的示意性剖视图。
[0011]图1E是另一种例示性图案化的制品的一部分的示意性剖视图。
[0012]图2A至图2B是例示性图案化的制品的示意性剖视图。
[0013]图3A是形成聚合物层的例示性工具和例示性方法的示意图。
[0014]图3B是用于制作图案化的制品的连续方法的示意图。
[0015]图4A是用于制作图案化的制品的例示性方法的步骤的示意图，该图案化的制品包括具有结构化表面的聚合物层。
[0016]图4B至图4C是可通过图4A的方法制作的例示性制品的示意性剖视图。
[0017]图5A是用于制作图案化的制品的例示性方法的步骤的示意图，其中该方法可包括在传导层上设置图案化的掩模层。
[0018]图5B至图5E是可通过图5A的方法制作的例示性制品的示意性剖视图。
[0019]图6A是用于制作图案化的制品的例示性方法的步骤的示意图，其中该方法可包括在聚合物层上设置图案化的掩模层。
[0020]图6B至图6C是可通过图6A的方法制作的例示性制品的示意性剖视图。
[0021]图7A是用于制作图案化的制品的例示性方法的步骤的示意图，其中该方法可包括使用图案化的传导层。
[0022]图7B至图7C是可通过图7A的方法制作的例示性制品的示意性剖视图。
[0023]图8示意性地描绘了形成包括金属体的图案化的布置的例示性图案化的制品的例示性方法。
[0024]图9是图案化的制品的一部分的示意性剖视图，示出了例示性金属体。
[0025]图10A至图10C是例示性图案化的制品的示意性顶部平面图。
[0026]图11A是包括金属体的例示性图案化的制品的一部分的示意性顶部平面图，该金属体包括金属迹线。
[0027]图11B是图案化的制品的一部分的示意性剖视图，示意性地示出了例示性金属体。
[0028]图12是包括金属体的例示性图案化的制品的示意性顶部平面图，该金属体设置在一些贯穿开口中。
[0029]图13是包括聚合物层的例示性图案化的制品的示意性剖视图，该聚合物层设置在光学膜上。
具体实施方式
[0030]在以下说明中参考附图，该附图形成本专利技术的一部分并且其中以举例说明的方式示出各种实施方案。附图未必按比例绘制。应当理解，在不脱离本说明书的范围或实质的情况下，可设想并进行其他实施方案。因此，以下具体实施方式不应被视为具有限制意义。
[0031]在一些实施方案中，图案化的制品包括彼此电绝缘的金属体。在其他实施方案中，
图案化的制品包括仅借助于单一传导层彼此电连接的金属体。金属体可被布置成提供任何合适的功能。例如，在一些实施方案中，金属体限定天线(参见例如图10A至图10C和图12)，该天线可以是或包括例如天线阵列，诸如方向回溯天线阵列。另外的其他实施例包括电磁干扰(EMI)罩、静电耗散组件、加热器、电极或传感器。器件可被设置作为一系列器件，该一系列器件随后能够被切割以提供单独的器件。
[0032]在一些实施方案中，金属体是图案化的。例如，金属体可包括金属迹线的微图案或由金属迹线的微图案形成(例如，该迹线可具有至少100nm且小于1mm的宽度)。在一些实施方案中，金属体中的至少一些金属体(例如，至少大部分的金属体或在一些情况下全部的金属体)包括金属迹线的微图案。使用金属迹线的微图案可导致图案化的制品具有高光学透明度，这在一些应用中可能是需要的。在其他实施方案中，金属体由非图案化的金属形成并且可具有低光学透明度。
[0033]可使用光刻法工艺在基底上形成传导元件，诸如包含金属迹线的微图案的那些传导元件。根据本说明书的一些方面，已经开发出不利用光刻法而使导电元件(例如，金属体)至少部分地形成在基底内的方法。在一些实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种图案化的制品，所述图案化的制品包括聚合物层，所述聚合物层包括相对的第一主表面和第二主表面并且在其中限定多个贯穿开口，其中对于所述贯穿开口中的至少第一次多个贯穿开口中的每个贯穿开口，所述贯穿开口中设置有金属体，所述金属体具有第一最外表面、相对的第二最外表面和在所述第一最外表面和所述第二最外表面之间延伸的至少一个侧向侧壁，所述金属体的所述第一最外表面与所述聚合物层的所述第一主表面基本上齐平，每个侧向侧壁从所述金属体的所述第一最外表面朝向所述聚合物层的所述第二主表面延伸、或者延伸至所述第二主表面但不超过所述第二主表面，所述金属体在与所述聚合物层平行的至少一个横截面中与所述贯穿开口基本上共同延伸，其中所述金属体彼此电绝缘。2.根据权利要求1所述的图案化的制品，其中对于至少大部分所述金属体中的每个金属体，所述金属体的所述第二最外表面与所述聚合物层的所述第二主表面基本上齐平。3.根据权利要求1所述的图案化的制品，其中对于至少大部分所述金属体中的每个金属体，所述金属体的所述第二最外表面设置在所述聚合物层的所述第一主表面和所述第二主表面之间。4.根据权利要求3所述的图案化的制品，其中对于所述大部分所述金属体中的每个金属体并且对于每个对应的贯穿开口，所述金属体的所述第二最外表面与所述聚合物层的所述第二主表面之间的所述贯穿开口的一部分至少部分地填充有聚合物材料。5.根据权利要求1至4中任一项所述的图案化的制品，其中所述聚合物层的所述第一主表面包括基本上平坦的第一部分和第二部分，所述第一部分和所述第二部分彼此平行但不共面。6.根据权利要求1至5中任一项所述的图案化的制品，其中所述金属体限定天线。7.根据权利要求6所述的图案化的制品，其中所述天线包括方向回溯天线阵列。8.根据权利要求1至7中任一项所述的图案化的制品，其中所述金属体中的至少一些金属体包括金属迹线的微图案。9.根据权利要求8所述的图案化的制品，其中所述金属迹线的所述微图案的开口面积分数在80％至99.95％的范围内。10.根据权利要求8或9所述的图案化的制品，其中所述微图案中的至少大部分所述金属迹线中的每条金属迹线沿所述金属迹线的纵向方...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷蒙德，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：