用于制造显示装置的方法制造方法及图纸

技术编号:3690102 阅读:134 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术披露了一种用于制造显示装置的方法,该方法包括以下 步骤:通过涂布在支撑基板上形成包含有机发光材料的转印层;在 所述支撑基板上加热处理所述转印层;以及将所述经加热处理的转 印层热转印到装置基板上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种,更具体地,涉及一 种用于制造使用有4几电致发光元件、并且即<吏应用涂层力莫沉积方法 和热转印方法来形成其发光层而仍能够保持足够高的发光效率和足够长的亮度半寿命(luminance half-life )的显示装置的方法。技术背景4吏用有才几材津+的电致发光的有才几电致发光元件是通过在上电 才及和下电才及之间i殳置由堆叠空穴传输层和下电才及而4寻到的有才几层 形成的,并且作为可以通过^f氐压直流(DC )驱动高亮度发光的发光 元件而引起注意。通过在基板上排列红(R)、绿(G)和蓝(B)有冲几电致发光 元件获得使用了这种有机电致发光元件的全色显示装置。在这种显 示装置的制造过程中,至少需要按每个发光元件的图样形成每个均 由用于发出各种颜色的光的有机发光材料构成的发光层。例如,通 过阴影遮蔽法(shadow masking method )来执行发光层的图样的形成,其中,通过在薄板中提供孔径图样而形成的掩膜的蒸发或涂布、 或喷墨方法来沉积发光材泮牛。然而,在通过阴影遮蔽形成图样的状况下,难以进行进一步小 型化掩膜中的孔径图样的处理,并且由于掩膜的偏斜或延展而很难 以高位置精确度在发光元件区域中形成图样。因此,难以进一步小 型化有机电致发光元件并进一步增强其集成度。另外,由于具有孔 径图样的掩膜的接触,主要由有机层形成的先前形成的功能层很容 易被损坏,这是降低制造产率的一个因素。对于通过喷墨方法形成图样,由于图样化精度的限制,很难小 型化发光元件并增强其集成程度、以及增大基板的尺寸。鉴于此,作为发光层和由有机材料形成的其他功能层的图样形 成的一种新颖方法,已提出了使用能源(热源)的转印方法(即, 热转印方法)。例如,如下执行通过使用热转印制造显示装置。首先,在显示装置的基板(下文中,称为装置基板)上形成下电极。 另一方面,在另一个基板(下文中,称为转印基板)上,使用中间 的光热转换层沉积发光层。随后,装置基板和转印基板被设置为使 发光层与下电极彼此面对,并且用激光照射转印基板的背面,从而 发光层被热转印到装置基板上的下电极上。在这个步骤中,使用点 光束激光扫描转印基板,这能够以高位置精确度将发光层热转印到下电极上的预定区域上(参见关于此制造方法的第2002-110350号 日本专利公开(专利文件l))。然而,尽管在小型化发光元件过程中使用这种热转印是有利 的,但是此方法伴随有所制造的发光元件具有比通过阴影掩膜法制 造的发光元件更低的发光效率和更短的亮度半寿命的问题。为了解决这个问题,作为通过使用热转印方法制造显示装置的 方法,已提出了一种方法,其中,通过射线照射加热装置基板和转 印基板的方式来执行热转印,从而改进发光效率和亮度半寿命(参见日本专利公开第2003-229259号(专利文件2))。另夕卜,也已提 出了一种方法,其中,通过在热转印之后加热处理装置基板防止了 发光层由于氧气和水蒸气而产生的劣化,从而4^高了发光效率和亮 度寿命(参见日本专利公开第2006-66375号(专利文件3 ))。在相关技术中,通过真空蒸发来执行发光层等在转印基板上的 膜沉积。另一方面,作为增强材料使用率和生产率的方法,已提出成涂布膜的方法(参见日本专利7>开第2005-500652号(专利文件 4))。
技术实现思路
然而,在通过涂布在转印基一反上膜沉积发光层等的情况下,存 在以下问题,即使如专利文件2所述的在转印时执行热转印或如专 利文件3所述的在转印后执行热转印,仍不能充分改进发光效率和亮度寿命。需要本专利技术提供一种,其中,即使在 通过涂布形成在支撑基板上之后,通过热转印将转印层按图样形成 在装置基板上,每一个均包括由包含有机材料的转印层得到的发光 层的发光元件仍具有高发光效率和长亮度半寿命。根据本专利技术的 一个实施例,提供了 一种用于制造显示装置的方 法。在该方法中,首先,通过涂布,在支撑基玲反上形成包含有4几发 光材料的转印层。随后,加热处理转印层。另外,经加热处理的转 印层被热转印到装置基板上。在待热转印该转印层的装置基板上形成下电极,并且按图样将 转印层转印到这个下电极上。随后,其他功能层和上电相j皮形成为 堆叠在转印层上,从而提供了通过在下电极与上电极之间插入包含 有机发光材料的转印层而获得的发光元件(有才几电致发光元件)。证明通过此制造方法实现了以下的有点。具体地,由于在加热 处理通过涂布形成的转印层之后执行热转印的程序,因此与不执行 加热处理的状况相比,经过热转印的转印层具有更高的膜密度,并 因此,包括此转印层作为其发光层的发光元件具有提高的发光效率 和延长的亮度寿命。如上所述,本专利技术的实施例能够实现以下显示装置,其中,即 使在通过涂布形成在支撑基板上之后,通过热转印将转印层按图样 形成在装置基板上,每一个均包括由包含有机材料的转印层得到的 发光层的发光元件仍具有高发光效率和长亮度半寿命。因此,显示 装置的制造可以被实现,其中,应用涂布法在支撑基板上形成转印 层,与蒸发相比,涂布法提供了更好的材料使用率和生产率。因此, 可以实现显示装置成本的降j氐。附图说明图1是示出了根据本专利技术实施例的制造程序的流程图;图2是在本实施例中制造的转印基板的截面图;图3A 图3F是示出了根据本实施例的制造方法中的步骤的截 面图;图4A和图4B是示出了根据本实施例的显示装置中的电路配 置的一个实例的示图;图5是示出了应用本实施例的具有密封结构的模块形状的显示 装置的结构图;图6是示出了应用本实施例的电视机的透视图;图7A和图7B是示出了应用本实施例的数码相机的示图图 7A是前侧透-见图、以及图7B是后侧透^L图;图8是示出了应用本实施例的膝上型个人电脑的透视图;图9是示出了应用本实施例的摄像机的透视图;以及图10A~图IOG是示出了作为应用本实施例的便携式终端装置 的便携式电话机的示图图IOA和图10B分别是打开状态的前一见图 和侧视图,以及图IOC、图IOD、图IOE、图IOF和图IOG分别是 关闭状态的前视图、左视图、右视图、顶视图和底视图。具体实施方式参见图1的流程图和图2~图3的部分步骤图,以下将描述将和蓝(B)色光的有机电致发光元件而形成的全色显示装置。首先,在装置基板上形成有机电致发光元件(步骤SI ~ S6 )之 前,在步骤Sll和S12中按颜色制造在各种颜色的发光层的热转印 中使用的转印基板。<红色转印基板的制造步骤Sll〉为了制造红色转印基板,首先在步骤S11中,制造通过涂布在 支撑基板上形成转印层而得到的转印基板。具体地,参见图2,首先制备支撑基板31。支撑基板31由具有足够平滑度、透光度、和 在加热处理中耐热的材料构成,且具体地,由玻璃基板、石英基板、 光透明基板等构成。可选地,可以使用树脂基板,只要其尺寸可控 性方面完全能够耐加热温度。随后,在支撑基板31的整个表面上,使用中间的光热转换层 33和抗氧化膜34,通过涂布形成红色转印层35r来作为用于形成 红色发光层的转印层。作为光热转换层33的材料,优选地,使用相对于在后续热转 印步骤中用作热源的激光的波长范围具有低反射率的材料。例如, 当4吏用来自固态激光源的具有约800 nm波长的激光时,伊乙选地, 铬(Cr本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种用于制造显示装置的方法,所述方法包括以下步骤:通过涂布,在支撑基板上形成包含有机发光材料的转印层;在所述支撑基板上加热处理所述转印层;以及将经加热处理的转印层热转印到装置基板上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:镜庆一松尾圭介小日向好吉松田英介
申请(专利权)人:索尼株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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