一种用于光谱调控的耐磨增透涂层及其制备方法技术

本发明专利技术的一种耐磨增透涂层的制备方法，包括以下步骤：制备用于增透的硅溶胶：制备用于耐磨的有机/无机杂化光固化体系：采用涂布法或提拉法在基底上制备SiO2增透涂层：将涂层置于紫外灯下照射固化后，放在烘箱中热处理。本发明专利技术采用涂布法制备涂层，操作方便简单，效率高效，可大面积生产制备，所得双层涂层具有宽带光谱增透性能，光谱转换和光调控功能，与以往改性的增透耐磨涂层相比，无需高温煅烧，节能环保，不仅具有高透过率，且耐磨性优异，铅笔硬度达9H。本发明专利技术获得新型光谱调控的宽带增透耐磨涂层，在光伏电池、紫外光探测器、建筑玻璃等光学领域具有广泛的应用前景。等光学领域具有广泛的应用前景。等光学领域具有广泛的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光谱调控的耐磨增透涂层及其制备方法


[0001]本专利技术涉及涂层
，具体是一种用于光谱调控的耐磨增透涂层及其制备方法。

技术介绍

[0002]增透涂层能够通过对反射光束进行干涉或π相移来实现减少光反射损耗，从而被广泛应用在光伏电池、光学器件、建筑玻璃等领域。在光伏组件中增透涂层通过减少组件表面光反射，可提高光伏组件光利用率，从而提高光电转换效率。在建筑玻璃上增透涂层可以有效减少玻璃反射和眩光，增加玻璃透过率，提高玻璃附加值。目前，制备增透膜的方法主要包括：溶胶
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凝胶法、物理气相沉积法、化学气相沉积法、刻蚀等，其中溶胶
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凝胶法因设备简单、成本较低而被广泛使用。
[0003]虽然这些方法可以提供有效的减反射性能，但涂层的机械鲁棒性太弱，户外难以应用。为提高增透涂层机械性，研究人员通常通过化学改性或结构设计来实现。中国专利技术专利CN 104071988以十六烷基三甲基溴化铵为模板，无水乙醇、水、氨水和正硅酸四乙酯为原料制备增透溶液，采用提拉法制备增透涂层，再采用提拉法将二氧化钛纳米球制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种耐磨增透涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)制备用于增透的硅溶胶：将正硅酸四乙酯、无水乙醇、去离子水和氨水以一定摩尔比混合，经陈化后制得；(2)制备用于耐磨的有机/无机杂化光固化体系：将正硅酸四乙酯、无水乙醇、去离子水、盐酸、硅烷偶联剂以一定摩尔比混合制得无机组分体系A，将聚氨酯丙烯酸酯、稀释剂和光引发剂以一定质量比混合制得有机组分体系B，再将不同含量A组分加入B中混合制得有机/无机杂化光固化体系；(3)采用涂布法或提拉法在基底上制备SiO2增透涂层：采用涂布法将步骤(2)制备的有机/无机杂化光固化体系在增透涂层上制备耐磨涂层；涂布高度为10～50μm，涂布速度为5～20mm/min；提拉法中浸涂时间5～30s，提拉速度0.5～3mm/s；(4)将步骤(3)得到的涂层置于紫外灯下照射固化后，放在烘箱中热处理；其中紫外灯照射2～10min，烘箱温度100～130℃，热处理1～2h。2.根据权利要求1所述的一种耐磨增透涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)采用法制备硅溶胶，将硅酸四乙酯、无水乙醇、去离子水和氨水按照1:35～40:2:0.15～0.6的摩尔比在室温下混合搅拌2h，静置陈化5～10天，形成溶胶。3.根据权利要求1所述的一种耐磨增透涂层的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，无机组分体系A所用正硅酸四乙酯、无水乙醇、去离子水、盐酸、硅烷偶联剂按1:4:1～2:0.04:1的摩尔比计算，在恒温70℃下混合搅拌2h。4.根据权利要求1所述的一种耐磨增透涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中有机组分体系B所用聚氨酯丙烯酸酯、稀释剂和光引发剂按质量比1:1:0.05计算，无机组分体系A与有机组分体系B在室温下混合，A组分添加量为B组分的5％～15％。5.根据权利要求2...

【专利技术属性】
技术研发人员：方亮，程猛，倪亚茹，陆春华，许仲梓，
申请(专利权)人：南京工业大学，
类型：发明
国别省市：