一种等离子体的清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种等离子体的清洗装置，包括装置本体，所述装置本体包括工作台、安装座、移动清洗装置和支撑装置，所述安装座安装在工作台顶部后端，所述移动清洗装置安装在安装座顶部，所述支撑装置设有一组，一组所述支撑装置呈对称方式安装在工作台底部；所述移动清洗装置包括滑轨、滑块、驱动块和等离子清洗枪，所述滑块安装在滑轨顶部，所述驱动块安装在滑轨顶部右端，所述驱动块左端设有一组液压杆，一组所述液压杆驱动端与滑块右端相连接，所述等离子清洗枪安装在滑块前端。该种装置可以十分便捷提高等离子清洗枪在移动清洗时的稳定性，进一步来提高对物体清洗的全面性，从而来提高物体清洗的效率。从而来提高物体清洗的效率。从而来提高物体清洗的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体的清洗装置


[0001]本技术涉及清洗设备领域，具体为一种等离子体的清洗装置。

技术介绍

[0002]等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态，对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态，等离子体活组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素、光子等，利用这些活性组分的性质来处理样品表面能够实现清洁、涂覆等目的，具体工艺为在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。
[0003]现有的等离子清洗设备有如下缺陷：
[0004]现有等离子清洗设备在使用时，一般都是通过手动进行移动清洗，从而手动移动清洗费事费力，且会导致清洗不均的情况发生，而齿轮带动等离子清洗设备移动时，通过齿轮的移动，从而会导致等离子枪晃动的情况发生，进一步影响对物体清洗的全面性，从而不便于工作人员进行使用。

技术实现思路

[0005](一)解决的技术问题
[0006]针对现有技术的不足，本技术提供了一种等离子体的清洗装置，解决了现有等离子清洗设备在使用时，一般都是通过手动进行移动清洗，从而手动移动清洗费事费力，且会导致清洗不均的情况发生，而齿轮带动等离子清洗设备移动时，通过齿轮的移动，从而会导致等离子枪晃动的情况发生，进一步影响对物体清洗的全面性，从而不便于工作人员进行使用的问题。
[0007](二)技术方案
[0008]为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种等离子体的清洗装置，包括装置本体，所述装置本体包括工作台、安装座、移动清洗装置和支撑装置，所述安装座安装在工作台顶部后端，所述移动清洗装置安装在安装座顶部，所述支撑装置设有一组，一组所述支撑装置呈对称方式安装在工作台底部；
[0009]优选的，所述移动清洗装置包括滑轨、滑块、驱动块和等离子清洗枪，所述滑块安装在滑轨顶部，所述驱动块安装在滑轨顶部右端，所述驱动块左端设有一组液压杆，一组所述液压杆驱动端与滑块右端相连接，所述等离子清洗枪安装在滑块前端。
[0010]优选的，所述安装座呈C字状结构且顶部和底部均为平整状结构，所述安装座包括第一固定块、支撑块和顶部安装块，所述支撑块安装在第一固定块顶部后端，所述顶部安装块安装在支撑块顶部，所述顶部安装块顶部左右两端均开设有一组呈对称方式分布的固定孔。
[0011]优选的，所述第一固定块顶部前端设有防滑垫，所述防滑垫为橡胶材质，所述防滑垫表面设有若干组呈倾斜方式分布的防滑纹。
[0012]优选的，所述支撑装置呈Z字状结构，所述支撑装置包括第一安装块、第二安装块和第三安装块，所述第二安装块安装在第一安装块顶部左端，所述第三安装块安装在第二安装块顶部，所述第一安装块和第三安装块顶部均开设有若干组呈列状等距方式分布的固定孔。
[0013](三)有益效果
[0014]本技术提供了一种等离子体的清洗装置。具备以下有益效果：
[0015]该一种等离子体的清洗装置可以有效地提高等离子清洗枪在移动时的稳定性，从而还还可以提高对物体清洗的全面性，进一步提高物体清洗的质量，而该种装置是通过对滑块在滑轨上进行推动，从而可以使固定在滑块上的等离子清洗枪移动的更加流畅性，减少在运行时的晃动，通过这样的方式，就可以保证等离子清洗枪对物体清理的全面性，且还可以提高等离子枪对物体清洗的效率。
附图说明
[0016]图1为本技术整体的结构示意图；
[0017]图2为本技术移动清洗装置的结构示意图；
[0018]图3为本技术支撑装置的结构示意图；
[0019]图4为本技术安装座的结构示意图。
[0020]图中，1、装置本体；2、工作台；3、安装座；4、移动清洗装置；5、支撑装置；6、滑轨；7、滑块；8、驱动块；9、等离子清洗枪；10、液压杆；11、第一安装块；12、第二安装块；13、第三安装块；14、固定孔；15、第一固定块；16、支撑块；17、顶部安装块；18、防滑垫；19、防滑纹。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]请参阅图1
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4，本技术实施例提供一种技术方案：一种等离子体的清洗装置，包括装置本体1，所述装置本体1包括工作台2、安装座3、移动清洗装置4和支撑装置5，所述安装座3安装在工作台2顶部后端，所述移动清洗装置4安装在安装座3顶部，所述支撑装置5设有一组，一组所述支撑装置5呈对称方式安装在工作台2底部；
[0023]所述移动清洗装置4包括滑轨6、滑块7、驱动块8和等离子清洗枪9，所述滑块7安装在滑轨6顶部，所述驱动块8安装在滑轨6顶部右端，所述驱动块8左端设有一组液压杆10，一组所述液压杆10驱动端与滑块7右端相连接，所述等离子清洗枪9安装在滑块7前端，使用时，工作人员驱动移动清洗装置4内的等离子清洗枪9，等离子清洗枪9通过喷射来对物体进行清洗工作，如果要进行移动式清洗工作，工作人员可以驱动驱动块8，驱动块8内的一组液压杆10就会驱动，从而一组液压杆10对滑块7顶动，从而滑块7就可以在滑轨6上进行滑动工作，进一步滑块7前端的等离子清洗枪9就可以移动，从而达到移动式清洗工作，而通过滑块7和滑轨6的增加，可以提高等离子清洗枪9在移动清洗的稳定性，进一步提高清洗的全面性和清洗的质量。
[0024]所述安装座3呈C字状结构且顶部和底部均为平整状结构，所述安装座3包括第一固定块15、支撑块16和顶部安装块17，所述支撑块16安装在第一固定块15顶部后端，所述顶部安装块17安装在支撑块16顶部，所述顶部安装块17顶部左右两端均开设有一组呈对称方式分布的固定孔14，该种安装座3呈C字状结构，进一步结构稳定，而安装座3顶部可以安装移动清洗装置4，而底部前端可以便于需要清洗的物体放入、固定。
[0025]所述第一固定块15顶部前端设有防滑垫18，所述防滑垫18为橡胶材质，所述防滑垫18表面设有若干组呈倾斜方式分布的防滑纹19，工作人员可以把需要清洗的物品放入第一固定块15上，从而来第一固定块15和支撑块16之间限位，从而就可以便于物体的放入，而防滑垫18和防滑垫18上的防滑纹19可以提高摩擦力，进一步防止在清洗时物体出现移位的情况发生。
[0026]所述支撑装置5呈Z字状结构，所述支撑装置5包括第一安装块11、第二安装块12和第三安装块13，所述第二安装块12安装在第一安装块11顶部左端，所述第三安装块13安装在第二安装块12顶部，所述第一安装块11和第三安装块13顶部均开设有若干组呈列状等距方式分布的固定孔14，该种呈Z字状的支撑装置5可本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子体的清洗装置，其特征在于：包括装置本体(1)，所述装置本体(1)包括工作台(2)、安装座(3)、移动清洗装置(4)和支撑装置(5)，所述安装座(3)安装在工作台(2)顶部后端，所述移动清洗装置(4)安装在安装座(3)顶部，所述支撑装置(5)设有一组，一组所述支撑装置(5)呈对称方式安装在工作台(2)底部；所述移动清洗装置(4)包括滑轨(6)、滑块(7)、驱动块(8)和等离子清洗枪(9)，所述滑块(7)安装在滑轨(6)顶部，所述驱动块(8)安装在滑轨(6)顶部右端，所述驱动块(8)左端设有一组液压杆(10)，一组所述液压杆(10)驱动端与滑块(7)右端相连接，所述等离子清洗枪(9)安装在滑块(7)前端。2.根据权利要求1所述的一种等离子体的清洗装置，其特征在于：所述安装座(3)呈C字状结构且顶部和底部均为平整状结构，所述安装座(3)包括第一固定块(15)、支撑块(16)和...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁亮亮，张黎明，
申请(专利权)人：上海车仪田科技有限公司，
类型：新型
国别省市：