【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】信息处理方法以及信息处理装置
[0001]本公开涉及信息处理方法以及信息处理装置。
技术介绍
[0002]在半导体装置的制造工艺中,存在切换多个处理气体,对基板反复层叠几乎为单分子层的薄的单位膜的原子层沉积法(ALD:Atomic Layer Deposition)。另外,存在对在基板上成膜的膜反复进行几乎为单分子层的薄的单位膜的蚀刻的ALE(Atomic Layer Etching:原子层蚀刻)。在ALD以及ALE中,通过对一张基板反复执行同样的处理来进行规定的工艺处理。
[0003]专利文献1:日本特开2012
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209593号公报
技术实现思路
[0004]本公开提供能够提高在反复处理时测定出的时间序列数据组的特征量提取的精度的信息处理方法以及信息处理装置。
[0005]根据本公开的一方式的信息处理方法获取在对基板的周期处理中测定出的时间序列数据组。信息处理方法针对获取到的时间序列数据组所包含的每个时间序列数据,计算周期处理的各周期的统计值。信息处理方法生成基于计算出的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种信息处理方法,具有:获取在对基板的周期处理中测定出的时间序列数据组;针对获取到的上述时间序列数据组所包含的每个时间序列数据,计算上述周期处理的各周期的统计值;生成基于计算出的上述统计值的统计数据;将生成的上述统计数据或者上述时间序列数据分割为规定的区间;以及基于分割后的上述统计数据或者上述时间序列数据,针对每个上述区间计算代表值。2.根据权利要求1所述的信息处理方法,其中,上述获取的处理还获取与对上述基板的工艺的结果相关的结果数据,基于计算出的每个上述区间的上述代表值和上述结果数据,来生成模型。3.根据权利要求1或2所述的信息处理方法,其中,上述分割的处理设定上述规定的区间,以使得模型的预测误差减少。4.根据权利要求1~3中任意一项所述的信息处理方法,其中,上述分割的处理将上述统计数据或者上述时间序列数据至少分割为前半、中期以及后半的各区间。5.根据权利要求1~4中任意一项所述的信息处理方法,其中,上述分割的处理通过贝叶斯优化求出上述区间。6.根据权利要求2所述的信息处理方法,其中,生成上述模型的处理使用多变量分析或者神经网络中的至少一个。7.根据权利要求1~6中任意一项所述的信息处理方法,其中,上述统计值是每个上述周期中的平均值、最小值、最大值、方差以及斜率中的任意一个。8.根据权利要求1~7中任意一项所述的信息处理方法,其中,上述代表值是上述规定的区间中的平均值、最小值、最大值、方差以及斜率中的任意一个。9.一种信息处理方法,具有:获取在对新的基板的周期处理中测定出的时间序列数据组;针对获取到的上述时间序列数据组所包含的每个时间序列数据,计算上述周期处理的各周期的统计值;生成基于计算出的上述统计值的统计数据;将生成的上述统计数据或者上述时间序列数据分割为规定的区间;基于分割后的上述统计数据或者上述时间序列数据,针对每个上述区间计算代表值;以及将计算出的每个上述区间的上述代表值输入到模型,并输出预测结果。10.根据权利要求9所述的信息处理方法,其中,上述预测结果是工艺的异常检测信息、与上...
【专利技术属性】
技术研发人员:米道仁史,
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社,
类型:发明
国别省市:
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