投影装置及其参数调整方法制造方法及图纸

本发明专利技术提出一种投影装置及其参数调整方法。通过控制晶片自侦测模块接收环境侦测值，其中环境侦测值为环境亮度值、音量负载值以及环境音量值中的至少一个。接着，将环境侦测值与基准范围进行比较，取得对应的环境模式。并且，根据对应于环境模式的环境承载值来调整风扇模块的转速。本发明专利技术提供的一种投影装置及其参数调整方法，使得投影装置的亮度及噪音输出更符合当下使用情境。更符合当下使用情境。更符合当下使用情境。

【技术实现步骤摘要】
投影装置及其参数调整方法


[0001]本专利技术是有关于一种投影装置及其设定方法，且特别是有关于一种投影装置及其参数调整方法。

技术介绍

[0002]随着现代人对投影装置(投影机)的光学品质与噪音要求越来越严苛。即便使用同一投影装置，在不同环境下也会有不同的噪音感受。例如，以投影装置本身产生的噪音为35dB(A)为例，倘若在白天的办公室或会议室等背景音量位于40dB(A)～60dB(A)之间的地方使用投影装置，则投影装置产生的噪音几乎不会被察觉。倘若是在家中等不须大声交谈的场所(例如背景音量大约在30dB(A))使用投影装置，此时虽然会察觉到投影装置所产生的噪音，但并不会产生太大的反感。而若是在夜深人静时的卧房等背景音量位于10dB(A)～20dB(A)之间的情况下，投影装置产生35dB(A)的噪音就会成为明显的噪音源而让人感到不舒服。
[0003]一般而言，投影装置投出的亮度跟产生的噪音息息相关。即，倘若光源模块输出亮度较高的光，由于光源模块需要输入较高的能量，因而会产生较多的热累积(Heat Accumulation)在光源模块中。在光源模块温度上升的情况下，需要提高风扇的转速来进行冷却，因此投影装置会产生较大的噪音。反之，倘若光源模块输出亮度较低的光，由于光源模块不需要输入太高的能量，因此不会产生过多的热累积在光源模块中。在光源模块温度未大幅提高的情况下，采用较低的风扇转速来冷却光源模块即可，此举可减少投影装置所产生的噪音。
[0004]另外，投影装置投出的亮度亦与环境亮度(Illuminance)息息相关。倘若投影装置的使用情境是在环境亮度达到750lux～1500lux的工作场所，假设投影装置要将影像光束投影到100英寸的画面上，投影装置可能需要投出4000lm以上的亮度才能让投出的影像清楚的被看到。倘若投影装置的使用情境是在环境亮度位于300lux～750lux之间的工作场所，投影装置投出的亮度大约2000lm就可以使得投影到100英寸的画面中的影像清楚的被看到。倘若投影装置的使用情境是在环境亮度位于30lux～150lux之间的住宅室内区域，投影装置投出的亮度仅需500lm便可在100英寸的画面上投影出足够的亮度让使用者看到清晰的影像。
[0005]综合以上来说，投影装置输出的亮度与噪音是否会对使用者造成困扰并不是亮度或噪音达到某个一定的规格就好，而是依据使用的场景不同而有不同的需求。
[0006]投影装置投出的亮度并非固定的，而是与外部环境有非常大的关系。而在固定大小、规格的投影装置中，要投影出较高亮度的影像时会需要较高的风扇转速进行冷却，因此投影装置所产生的噪音会增加。若是使用较低的风扇转速进行冷却虽可改善噪音的问题但仅能投影出较低亮度的影像。另外，考虑到投影装置的使用环境，由于在白天环境下使用者容许的背景噪音比夜晚来的高，因此若是在白天使用的条件下，通常使用者可以容许较高的噪音。在夜晚使用的条件下虽然使用者对噪音的要求会提高，但投影装置仅需要输出较
Specific Integrated Circuits，ASIC)或其他类似装置。
[0021]侦测模块120用以感测环境侦测值。所述环境侦测值为环境亮度值、音量负载值以及环境音量值中的至少一个。侦测模块120例如为亮度感测器、电流感测器或音量感测器。在一实施例中，侦测模块120在单时点侦测一笔环境侦测值，控制晶片110根据环境侦测值取得对应的环境模式。在另一实施例中，侦测模块120也可以设定为在一段时间区段内的多个时间点来侦测多个环境侦测值。接着，控制晶片110判断这些环境侦测值中的最大值与最小值之间的差异是否大于阈值。若差异未大于阈值，控制晶片110根据所述多个环境侦测值的平均值取得对应的环境模式。若所述差异大于所述阈值，控制晶片110在下一个时间区段内重新自侦测模块120接收其他多个环境侦测值来取得对应的环境模式。借此可确保侦测模块120所侦测的多个环境侦测值为目前所在环境中稳定存在的亮度或是噪音。
[0022]风扇模块130用以进行散热。风扇模块130例如包括马达以及叶片，借由马达将电能转换为机械能借此驱动叶片进行转动。
[0023]光源模块140用以控制投影装置100进行投影的亮度。光源模块140包括灯泡光源、发光二极管(light
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emitting diode，LED)光源或激发光源(Laser light source)等发光源。
[0024]图2是依照本专利技术一实施例的投影装置的参数调整方法的流程图。请同时参照图1及图2，在本实施例中，每当投影装置100重新开机或接受使用者所发出之相关指令时，控制晶片110即会驱动侦测模块120来侦测一次当下的环境侦测值，借此获得对应的环境模式。具体说明如下。
[0025]在步骤S205中，控制晶片110自侦测模块120接收环境侦测值。例如，在采用亮度感测器作为侦测模块120的情况下，所接收的环境侦测值为环境亮度值。在采用电流感测器作为侦测模块120的情况下，所接收的环境侦测值为扬声器模块(未示于图中)的音量负载值。在采用音量感测器作为侦测模块120的情况下，所接收的环境侦测值为环境音量值。
[0026]在步骤S210中，控制晶片110将环境侦测值与基准范围进行比较，取得当下环境所对应的环境模式。具体而言，不同种类的环境侦测值具有不同的基准范围。以环境亮度值而言，可设定基准范围为500lux～1000lux。以扬声器模块的音量负载值而言，可设定基准范围为扬声器负载的25％～50％。以环境音量值而言，可设定基准范围为30dB(A)～40dB(A)。而环境承载值例如为所判定的环境模式下可承受的投影噪音(dB)、所判定的环境模式下对应的风扇模块的转速、所判定的环境模式下可投影出的影像亮度或是所输出之光源功率(W)。不同的环境模式具有不同的环境承载值。
[0027]在一实施例中，环境模式包括第一模式、第二模式以及第三模式。控制晶片110借由判定环境侦测值是否落在基准范围内来决定环境模式为第一模式、第二模式以及第三模式。图3是依照本专利技术一实施例的判断环境模式的流程图。请同时参照图1及图3，在步骤S305中，控制晶片110判定环境侦测值是否小于基准范围的下限值。在判定环境侦测值未小于基准范围的下限值(步骤S305的否)时，在步骤S310中，控制晶片110判断环境侦测值是否大于基准范围的上限值。倘若环境侦测值未小于基准范围的下限值(步骤S305的否)且未大于基准范围的上限值(步骤S310的否)，即环境侦测值落在基准范围内时，在步骤S315中，控制晶片110以第一模式作为环境模式。
[0028]在判定环境侦测值小于基准范围的下限值时(步骤S305的是)，在步骤S320中，控
制晶片110以第二模式作为环境模式。第二模式对应的环境承载值小于第一模式对应的环境承载值。而在判定环境侦测值大于基准范围的上限值时(步骤S315的是)，在步骤S325中，控制晶片110以第三模式作为环境模式。第三模式对应的环境承载值大于第一模式对应的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种投影装置的参数调整方法，其特征在于，所述方法包括：通过控制晶片自侦测模块接收环境侦测值，其中所述环境侦测值为环境亮度值、音量负载值以及环境音量值中的至少一个；将所述环境侦测值与基准范围进行比较，取得对应的环境模式；以及根据对应于所述环境模式的环境承载值来调整风扇模块的转速。2.根据权利要求1所述的投影装置的参数调整方法，其特征在于，将所述环境侦测值与基准范围进行比较，取得对应的所述环境模式的步骤包括：在判定所述环境侦测值落在所述基准范围内时，以第一模式作为所述环境模式；在判定所述环境侦测值小于所述基准范围的下限值时，以第二模式作为所述环境模式；以及在判定所述环境侦测值大于所述基准范围的上限值时，以第三模式作为所述环境模式；其中，所述第三模式对应的所述环境承载值大于所述第一模式对应的所述环境承载值，所述第二模式对应的所述环境承载值小于所述第一模式对应的所述环境承载值。3.根据权利要求2所述的投影装置的参数调整方法，其特征在于，将所述环境侦测值与基准范围进行比较，取得对应的所述环境模式的步骤还包括：在判定所述环境侦测值大于所述基准范围的所述上限值且未大于预设值时，以所述第三模式作为所述环境模式；以及在判定所述环境侦测值大于所述预设值时，以第四模式作为所述环境模式；其中，所述第四模式对应的所述环境承载值大于所述第三模式对应的所述环境承载值。4.根据权利要求1所述的投影装置的参数调整方法，其特征在于，所述侦测模块为亮度感测器，所述环境侦测值为所述环境亮度值。5.根据权利要求1所述的投影装置的参数调整方法，其特征在于，所述侦测模块为电流感测器，所述环境侦测值为扬声器模块的所述音量负载值。6.根据权利要求1所述的投影装置的参数调整方法，其特征在于，所述侦测模块为音量感测器，所述环境侦测值为所述环境音量值。7.根据权利要求1所述的投影装置的参数调整方法，其特征在于，通过所述控制晶片自所述侦测模块接收所述环境侦测值的步骤还包括：在时间区段内，接收多个所述环境侦测值；判断所述多个环境侦测值中的最大值与最小值之间的差异是否大于阈值；若所述差异未大于所述阈值，则根据所述多个环境侦测值的平均值取得对应的所述环境模式；以及若所述差异大于所述阈值，则在下一个时间区段内重新自所述侦测模块接收其他多个所述环境侦测值来取得对应的所述环境模式。8.根据权利要求1所述的投影装置的参数调整方法，其特征在于，所述方法还包括：根据所述环境承载值调整所述投影装置的光源模块的光源功率，其中在所述风扇模块的转速增加的情况下，所述光源功率增加，在所述风扇模块的转速降低的情况下，所述光源功率降低。
9.根据权利要求1所述的投影装置的参数调整方法，其特征在于，所述侦测模块的数量为多个，所述参数调整方法还包括：通过所述控制晶片自所述多个侦测模块接收多个所述环境侦测值；将所述多个环境侦测值分别与对应的所述基准范围进行比较，借此获得多个比较结果；在所述多个比较结果对应的多个所述风扇模块的转速中选择最低速度；以及基于所述最低...

【专利技术属性】
技术研发人员：简暐珉，侯奕丞，胡东洲，
申请(专利权)人：中强光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：