一种ITO玻璃的耐磨增透镀膜工艺方法技术

本发明专利技术公开了一种ITO玻璃的耐磨增透镀膜工艺方法，本发明专利技术属于电磁屏蔽玻璃加工技术领域，本发明专利技术公开的ITO玻璃的屏蔽耐磨镀膜后，20MHz~lGHz屏蔽效能≥50dB；1GHz~1.5GHz屏蔽效能≥41dB，电磁波阻挡99%以上，光学透过率≥80%。而且ITO导电膜层对微波具有衰减性，可以用ITO导电膜制成的电磁屏蔽玻璃，能作为特殊建筑物的窗玻璃或幕墙玻璃，可广泛用于有保密要求或防干扰要求的场合，可完全防止由干外界电磁波的入侵而使电子设备产生误差和保密信息的泄露，具有优异的耐磨性可使表面清洁能力保持较长的时间。保持较长的时间。

【技术实现步骤摘要】
一种ITO玻璃的耐磨增透镀膜工艺方法


[0001]本专利技术属于电磁屏蔽玻璃加工
，具体涉及一种ITO玻璃的耐磨增透镀膜工艺方法。

技术介绍

[0002]电磁屏蔽玻璃是指在平板玻璃表面镀覆透明的电磁屏蔽膜或在夹层玻璃中敷设金属丝网，当电磁波经过这种屏蔽玻璃时，被有效地衰减，从而对内可防止信息泄露，对外可防止信息干扰。所谓夹金属丝网电磁屏蔽玻璃的金属屏蔽材料一般为铜、铝、镀锌铁丝等，每个金属丝网的网眼均可看做是小波导管。电磁屏蔽玻璃，是防止电磁波干扰和信息泄漏的主要部件。随着进入电子信息社会的步伐，大量的电磁信号充斥空间，在技术进步的同时也存在前进中的阴影。常常见到电子设备由于外界信号干扰造成频发的故障或误动作，甚至发生了对民航导航系统发生干扰的重大事故，电磁屏蔽保护已受到普遍关注。此外，出于刺保密的需要，窃密与反窃密技术迅速发展，保护自己的信息不被窃取已成为一项专门技术。建筑物的开口部位是干扰来源与信息泄露的薄弱点，外干扰源非常广泛，一切电器都可能造成电磁信号干扰，包括汽车、空调等等，同时各种无线电信号无处不在，这就要求建筑玻璃在保证采光、透视、封闭等功能的同时具有电磁屏蔽的功能。通过玻璃镀覆的金属或金属氧化物薄膜来实现电磁屏蔽是应用较多的办法，膜层可以是导体或半导体，主要包括ITO玻璃。丝网夹芯型是由玻璃或树脂和经特殊工艺制成的屏蔽丝网在高温下合成；通过特殊工艺处理，对电磁干扰产生衰减，并使屏蔽玻璃对所观察的各种图形不产生失真，具有高保真、高清晰的特点；同时还具有防爆玻璃特性。尤其在光学元件方面，减反射玻璃有着不可替代的重要用途。2022年9月13日中国专利CN202210971482.X一种夹网玻璃脱气方法公开了打开密封盖，取出电磁屏蔽玻璃成品，随着电子、计算机技术的不断发展，主要解决电子系统与电子设备间的电磁干扰，防止电磁信息泄漏，防护电磁辐射污染；有效保障仪器设备正常工作，保障机密信息的安全，保障工作人员身体健康，在可用于电子设备的观察窗口，例如CRT显示器、LCD显示器、OLED等数码显示屏幕、雷达显示器、精密仪器、仪表等显示器窗口和用于建筑物重点部位的观察窗，例如采光屏蔽窗、屏蔽室可视窗、可视隔断屏风等以及要求电磁屏蔽的机柜、指挥仪方舱。通讯车观察窗等。而其主要性能指标是透光率，和屏蔽效能，即有百分之多少能量被屏蔽。目前一些应用场景下需要防眩光且电磁屏蔽，因此ITO玻璃的耐磨增透研究价值很大，有巨大的市场潜力。本领域技术人员亟待开发出一种ITO玻璃的耐磨增透镀膜工艺方法，以满足现有的使用需求和性能要求。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本专利技术提供一种ITO玻璃的耐磨增透镀膜工艺方法。
[0004]一种ITO玻璃的耐磨增透镀膜工艺方法，包括ITO玻璃作为基板的清洗干净，包括逆流漂洗的方式进行碱液超声波清洗和纯水超声波清洗，还包括以下步骤：步骤一、镀AR膜：采用物理气相沉积或溶胶凝胶法在基板上镀AR膜；步骤二、清洗：清洗工艺与AR镀膜前
清洗工艺相同；步骤三、镀硅烷膜和烘干：在低真空状态下，通过喷嘴将硅烷液雾化均匀喷涂到玻璃表面，并烘干，形成硅烷膜层；步骤四、等离子清洗：是在等离子清洗机真空腔体里，进行清洗；步骤五、清洗：等离子清洗后的基板再进行清洗，清洗工艺与AR镀膜前清洗工艺相同，即得。
[0005]进一步的，所述步骤一的物理气相沉积为沉积薄膜之前，单布Ar气，镀膜室真空度在0.3~0.4Pa，后在玻璃的浮法面上镀六层TiO2/SiO2复合膜，形成AR增透层，其中溅射靶的为钛靶(纯度99.9%)溅射前真空室的本底真空度为2.0
×
10
‑3Pa，溅射过程中，基板温度为280~300℃，氢气作为工作气体，氧气作为反应气体，氢气与氧气的流速比为1:1，溅射过程的真空度为0.15~0.23Pa，而SiO2靶镀膜室真空度0.2Pa，其中增透膜层的厚度分布依次为：10nmTiO2、42nmSiO2、40nmTiO2、10nmSiO2、50nmTiO2、88nmSiO2。
[0006]反射率Reflectivity，是光线照射到物体上反射出来的光线比例，是物体表面反射的光通量与其入射光通量的百分比。
[0007]进一步的，所述溶胶凝胶法为在基板上镀AR增透膜的厚度分布依次为：10nmTiO2、42nmSiO2、40nmTiO2、10nmSiO2、50nmTiO2、88nmSiO2，其过程是采用提拉镀膜法浸入TiO2溶胶内在ITO玻璃上镀上一层TiO2膜，在500℃下热处理2h，自然冷却至室温后，在外层再浸入SiO2溶胶内提拉镀上一层SiO2膜，在500℃下热处理2h后，自然冷却至室温，循环进行以上步骤三次；其中SiO2溶胶为SW
‑
20或SW
‑
25或SW
‑
30中的其中一种，TiO2溶胶为将钛酸四丁酯与2/3体积的无水乙醇混合，搅拌20min，得到A溶液，再配制含有质量分数3~5%冰醋酸的体积分数为35%的酒精溶液，用硝酸调节溶液pH为3.0得到B溶液，在搅拌下将是A液体积1~1.5倍的B液滴加入A液中，70℃回流6h，得到TiO2溶胶。
[0008]进一步的，所述步骤三的硅烷液为质量百分比的全氟环醚99~99.4%、AF
‑
JX82全氟聚醚0~0.4%、3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8
‑
十三氟代辛基三乙氧基硅烷0.2~0.6%的混合物。
[0009]本专利技术的有益效果：本专利技术公开的ITO玻璃的屏蔽耐磨镀膜后，20MHz~lGHz屏蔽效能≥50dB；1GHz~1.5GHz屏蔽效能≥41dB，电磁波阻挡99%以上，光学透过率≥80%。而且ITO导电膜层对微波具有衰减性，可以用ITO导电膜制成的电磁屏蔽玻璃，能作为特殊建筑物的窗玻璃或幕墙玻璃，可广泛用于计算机房、演播室、工业控制系统、军事建筑物、外交部门的建筑物门窗玻璃以及有保密要求或防干扰要求的场合，可完全防止由干外界电磁波的入侵而使电子设备产生误差和保密信息的泄露。透全氟聚醚，既具有含氟聚合物的疏油和低摩擦系数的特性，也具有硅氧烷的疏水和耐久特性与烷氧基硅烷的有机结合，使产品获得了更好的耐摩擦和UV耐久性，烷氧基硅烷的活性端将通过水解和缩合反应与基材表面结合，对基材表面结构排列进行调整，低的表面能使表面具有自清洁能力和良好的划触感，该产品具有优异的耐磨性可使表面清洁能力保持较长的时间。
具体实施方式
[0010]实施例1（1）基板：采用安徽煜祺光学生产的355.6
×
406.4
×
0.7mm垂直度0.08%翘曲度0.1%的无气泡、无崩边裂边划伤的ITO玻璃作为基板；（2）清洗：清洗分两步，碱液超声波清洗和纯水超声波清洗，均采用逆流漂洗的方式，且各个工序的清洗槽不交叉重复，其中，碱液超声波清洗利用清洗剂（KOH）和纯水按2:100配比形成KOH溶液，进行超声波清洗，具体流
程如下：浸泡进料台进料、3级水溶剂超声波清洗和喷淋漂洗，碱液从本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种ITO玻璃的耐磨增透镀膜工艺方法，包括ITO玻璃作为基板的清洗干净，其特征在于：还包括以下步骤：步骤一、镀AR膜：采用物理气相沉积或溶胶凝胶法在基板上镀AR膜；步骤二、清洗：清洗工艺与AR镀膜前清洗工艺相同；步骤三、镀硅烷膜和烘干：在低真空状态下，通过喷嘴将硅烷液雾化均匀喷涂到玻璃表面，并烘干，形成硅烷膜层；步骤四、等离子清洗：是在等离子清洗机真空腔体里，进行清洗；步骤五、清洗：等离子清洗后的基板再进行清洗，清洗工艺与AR镀膜前清洗工艺相同，即得。2.根据权利要求1所述的一种ITO玻璃的耐磨增透镀膜工艺方法，其特征在于，所述步骤一的物理气相沉积为沉积薄膜之前，单布Ar气，镀膜室真空度在0.3~0.4Pa，后在玻璃的浮法面上镀六层TiO2/SiO2复合膜，形成AR增透层，其中溅射靶为纯度99.9%以上的钛靶，溅射前真空室的本底真空度为2.0
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10
‑3Pa，溅射过程中，基板温度为280~300℃，氢气作为工作气体，氧气作为反应气体，氢气与氧气的流速比为1:1，溅射过程的真空度为0.15~0.23Pa，而SiO2靶镀膜室真空度0.2Pa，其中增透膜层的厚度分布依次为：10nmTiO2、42nmSiO2...

【专利技术属性】
技术研发人员：史强强，高攀峰，黄勇，甘功金，李鹏飞，沈焱，
申请(专利权)人：安徽煜祺光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：