一种低温测量系统技术方案

本发明专利技术公开了一种低温测量系统，包括第一主体、设于第一主体中的第一容器、穿设于第一主体中的第二主体、可拔插地设于第二主体中的且装载有样品台的插杆组件，第二主体设于第一容器的正上方，插杆组件用于连接第一容器；第一主体中设有用于收容冷头的第三主体，低温测量系统还包括第一氦气管路、第二氦气管路和第三氦气管路；第一氦气管路与第三腔体连通；第二氦气管路沿进气方向先进入第三主体并绕设于冷头外侧，再伸出第三主体并与第一容器连通；第三氦气管路沿进气方向先进入第三主体并绕设于冷头外侧，再伸出第三主体并经过膨胀管后与第一容器连通。本发明专利技术低温测量系统，制冷成本较低，制冷效果较好，能够满足样品的低温测量条件。测量条件。测量条件。

【技术实现步骤摘要】
一种低温测量系统


[0001]本专利技术涉及低温物性测量领域，特别涉及一种低温测量系统。

技术介绍

[0002]变温强磁场综合物性测量平台是微纳器件和新材料电学、磁学、热学等物性测量不可或缺的关键仪器。
[0003]现有的测量平台为了保证制冷效率，一般是直接通过液氦管路对样品台降温的，这种结构制冷成本相对较高，并且液氦的储存难度较大；也有通过氦气管路对样品台降温的，这种结构制冷成本相对较低，但制冷效果相对较差。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种低温测量系统，制冷成本较低，制冷效果较好，能够满足样品的低温测量条件。
[0005]为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种低温测量系统，包括具有第一腔体的第一主体、设于所述第一主体中的第一容器、穿设于所述第一主体中的且具有第二腔体的第二主体、可拔插地设于所述第二主体中的且装载有样品台的插杆组件，所述第二主体设于所述第一容器的正上方，所述插杆组件用于连接所述第一容器；所述低温测量系统还包括制冷组件，所述制冷组件包括插设于所述第一主体中的冷头；所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低温测量系统，其特征在于：包括具有第一腔体的第一主体、设于所述第一主体中的第一容器、穿设于所述第一主体中的且具有第二腔体的第二主体、可拔插地设于所述第二主体中的且装载有样品台的插杆组件，所述第二主体设于所述第一容器的正上方，所述插杆组件用于连接所述第一容器；所述低温测量系统还包括制冷组件，所述制冷组件包括插设于所述第一主体中的冷头；所述第一主体中设有用于收容所述冷头的且具有第三腔体的第三主体，所述低温测量系统还包括第一氦气管路、第二氦气管路和第三氦气管路；所述第一氦气管路与所述第三腔体连通；所述第二氦气管路沿进气方向先进入所述第三主体并绕设于所述冷头外侧，再伸出所述第三主体并与所述第一容器连通；所述第三氦气管路沿进气方向先进入所述第三主体并绕设于所述冷头外侧，再伸出所述第三主体并经过膨胀管后与所述第一容器连通。2.根据权利要求1所述的低温测量系统，其特征在于：所述第二氦气管路和所述第三氦气管路分别螺旋盘抵于所述第三主体内表面。3.根据权利要求1所述的低温测量系统，其特征在于：所述第三氦气管路伸出所述第三主体后，先绕设于所述第二主体外侧，再经过所述膨胀管后与所述第一容器连通。4.根据权利要求1所述的低温测量系统，其特征在于：所述第三腔体包括从上往下依次连通的储气腔和储液腔；所述第一主体中设有用于收容所述第一容器的且被所述第二主体贯入的第四主体，所述第四主体与位于其外侧的所述储液腔抵接；所述第一主体中还设有用于收容所述第四主体的且被所述第二主体贯入的第五主体，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：张磊，卞尔保，郝镇齐，王永超，
申请(专利权)人：格物致寒苏州科学仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：