【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】质量分析方法和质量分析装置
[0001]本公开涉及质量分析方法及质量分析装置。
技术介绍
[0002]用质量分析装置分析测定对象物时，需要对得到的质谱峰是来自分析对象成分的峰，还是来自分析对象成分以外的因素的峰进行切分。特别是，若分析对象成分中存在同位素或同系物时，质谱的峰数增加。例如，氯化石蜡中存在很多碳数及氯数不同的成分，在通过测量得到的质谱中，峰数有时达到数百。
[0003]一般来说，同位素存在比是已知的，质谱中也可以得到反映同位素存在比的结果。专利文献1中公开了一种基于分析对象成分的同位素存在比对试料进行定性分析的技术。现有技术文献专利文献
[0004]专利文献1：日本专利特开2010
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66036号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题
[0005]但是，在存在由分析对象成分以外的因素引起的峰的情况下，由于该峰也作为分析对象，因此在定性分析中会导致误判定。
[0006]因此，本公开提供了一种在质量分析中简便地避免分析对象成分之外的成分的影响的...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种使用了质量分析装置的质量分析方法，其特征在于，包括：通过所述质量分析装置的控制部，基于分析对象成分的分子式、包含在所述分析对象成分中且存在多个同位素的元素的同位素存在比，计算所述分析对象成分的同位素的质量和各质量的所述分析对象成分的存在比，从而计算理论质谱；通过所述质量分析装置的预处理部对测定对象物进行电离；通过所述质量分析装置的质量检测部检测所述电离后的离子的质量和各质量的离子数量；通过所述控制部基于所述质量检测部的检测结果计算第一质谱；通过所述控制部仅针对存在所述理论质谱的峰的质量，比较所述理论质谱和所述第一质谱来计算一致度；以及通过所述控制部基于所述一致度判定所述测定对象物中有无所述分析对象成分。2.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，所述分析对象成分是有机卤化物，在计算所述理论质谱时，所述控制部针对所述有机卤化物的碳数x和卤素数y的组合中的每一个，基于所述有机卤化物的分子式和卤素的同位素存在比，计算y+1种所述有机卤化物的同位素的质量和各质量的所述有机卤化物的存在比。3.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，还包括：通过所述控制部在没有所述测定对象物的状态下使所述预处理部和所述质量检测部动作；通过所述控制部基于所述质量检测部的检测结果计算在没有所述测定对象物时的第二质谱；以及通过所述控制部在计算所述一致度之前从所述第一质谱中减去所述第二质谱。4.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，还包括：通过所述控制部在计算所述一致度之前，在所述分析对象成分的同系物之间存在质量相同的成分的情况下，从所述第一质谱中分离质量相同的成分的离子强度。5.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，所述控制部基于在所述第一质谱的规定宽度的范围内取平均后的离子强度来计算所述一致度。6.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，所述控制部使用存在所述峰的质量的所述离子数量的相关系数来计算所述一致度。7.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，在所述判定中，所述控制部将所述一致度与阈值进行比较，当所述一致度为所述阈值以上的情况下，判定为存在所述分析对象成分。8.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，在所述判定中，所述控制部将所述一致度与第一阈值以及大于所述第一阈值的第二阈值进行比较，在所述一致度低于所述第一阈值的情况下判定为不存在所述分析对象成分，在所述一致度为所述第二阈值以上的情况下判定为存在所述分析对象成分。9.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，还包括：由所述控制部根据所述预处理部中的电离反应，校正所述第一质谱的质量。
10.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，所述分析对象成分是有机氯化物。11.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，所述分析对象成分是有机溴化物。12.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，所述预处理部的电离方法是大气压化学...
【专利技术属性】
技术研发人员：广濑龙介，秋山秀之，坂井范昭，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：
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