制造玻璃带的方法技术

一种制造玻璃带的方法可以包括使玻璃形成带沿行进路径流动。玻璃形成带可以包括第一主表面及与第一主表面相对的第二主表面。厚度可以限定在第一主表面与第二主表面之间。方法可以包括在玻璃形成带沿行进路径行进的同时在行进路径的目标位置处加热玻璃形成带的第一主表面。加热可以将目标位置处的玻璃形成带的温度升高至距第一主表面约250微米或更小的加热深度。方法可以包括将玻璃形成带冷却成玻璃带。在加热之前，目标位置处的玻璃形成带可以包括约1,000帕斯卡

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】制造玻璃带的方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请案根据专利法请求2020年6月19日申请的美国临时申请案系列第63/041,339号的优先权权益，以其内容为依据且该内容以全文引用的方式并入本文。


[0003]本公开通常涉及制造玻璃带的方法，且更具体地，涉及包括加热玻璃带的表面的制造玻璃带的方法。

技术介绍

[0004]玻璃板可用于光伏打应用或显示应用，例如液晶显示器(liquid crystal display，LCD)、电泳显示器(electrophoretic display，EPD)、有机发光二极管显示器(organic light emitting diode display，OLED)及等离子体显示面板(plasma display panel，PDP)。玻璃板通常由流动至形成装置的玻璃形成材料制造，由此玻璃网可以通过各种网形成工艺形成，例如槽拉、浮法、下拉、熔融下拉、辊压、拉管或上拉。玻璃网可以周期性地分离成单独的玻璃板。针对各种应用，需要控制玻璃板的表面粗糙度。
[0005]已知在形成玻璃板之后处理玻璃板。例如，化学蚀刻、机械磨削及/或机械研磨可以降低玻璃板的表面粗糙度。然而，此形成后处理可以修改玻璃带的表面性质。因此，需要一种制造玻璃带的方法，该方法产生包括低表面粗糙度的玻璃带，而无需进行形成后处理。

技术实现思路

[0006]以下呈现本公开的简化概述，以提供对详细描述中所描述的一些实施方式的基本理解。
[0007]本公开的实施方式可以提供高质量的玻璃带及/或玻璃板。将玻璃形成带的一部分加热至距第一主表面小(例如250微米或更小、50微米或更小、10微米或更小)的深度可以产生具有低表面粗糙度(例如约5纳米或更小)的玻璃带及/或玻璃板。此外，相对于在不加热的情况下形成第二玻璃带，玻璃形成带的加热可以显著降低玻璃带的表面粗糙度(例如第二玻璃带的表面粗糙度的约5％或更小或约0.01至约1％的范围内)。加热可以提供上述低表面粗糙度，而无需对玻璃带及/或玻璃板进行后续处理(例如化学蚀刻、机械磨削、机械研磨)。加热玻璃形成带可以降低及/或消除例如由辊及/或形成装置引入的表面粗糙度。降低表面粗糙度可以使得所得玻璃带及/或玻璃板能够满足对表面粗糙度更严格的设计规范，同时减少不合格玻璃带及/或玻璃板的浪费。
[0008]本公开的实施方式可以提高制造玻璃带的处理效率。当玻璃形成带处于粘性状态(例如约1,000帕斯卡
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秒至约10
11
帕斯卡
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秒)时加热玻璃形成带可以与由玻璃形成材料制造玻璃带的其他方面一起例如在形成装置与将玻璃带分成多个玻璃板之间执行。提供一起加热可以减少制造玻璃带的时间及/或空间需求，此是因为可以减少及/或消除对玻璃带及/或玻璃板的后续处理的需求。另外，可以减少及/或消除与玻璃带及/或玻璃板的后续处
理相关联的劳动力及/或设备成本。
[0009]本公开的实施方式可以包括当玻璃形成带处于升高的温度(例如约500℃至约1300℃)时加热玻璃形成带。当玻璃形成带处于升高的温度时加热玻璃形成带可以自加热产生具有低残余应力或无残余应力的玻璃带及/或玻璃板，例如，此是因为玻璃形成带在加热期间处于粘性状态。另外，当玻璃形成带处于升高的温度时加热玻璃形成带可以减少将玻璃形成带的一部分加热至距第一主表面小(例如250微米或更小、50微米或更小、10微米或更小)的深度以获得足够的温度及/或粘度以降低表面粗糙度所需的能量。
[0010]本公开的实施方式可以将玻璃形成带的加热局部化至距第一主表面小(例如250微米或更小、50微米或更小、10微米或更小)的深度。将加热局部化可以降低该部分的粘度(例如约100帕斯卡
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秒至约1,000帕斯卡
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秒)，这可以例如通过包括玻璃形成带的玻璃形成材料的表面张力促进第一主表面的平滑。另外，将加热局部化可以降低第一主表面的表面粗糙度，而不会显著加热该地点处的玻璃形成带的其余厚度，这可以防止玻璃形成带的厚度改变或形状变形。此外，将加热局部化可以降低降低第一主表面的表面粗糙度所需的能量。通过选择包括小吸收深度(例如约10微米或更小)的加热及/或选择加热的停留时间来将玻璃形成带加热至小的加热深度(例如250微米或更小、约50微米或更小)可以实现所需能量的进一步降低及/或防止带变形。
[0011]在一些实施方式中，一种制造玻璃带的方法可以包括使玻璃形成带沿行进路径流动。玻璃形成带可以包括第一主表面及与第一主表面相对的第二主表面。玻璃形成带的厚度可限定在第一主表面与第二主表面之间。宽度可以跨越行进路径延伸。方法可以包括在玻璃形成带沿行进路径行进的同时在行进路径的目标位置处加热玻璃形成带的第一主表面。加热可以将目标位置处的玻璃形成带的温度升高至距第一主表面约250微米或更小的加热深度。方法可以包括将玻璃形成带冷却成玻璃带。在加热之前，目标位置处的玻璃形成带可以包括约1,000帕斯卡
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秒至约10
11
帕斯卡
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秒的范围内的平均粘度。
[0012]在其他实施方式中，方法可以进一步包括在目标位置上游的行进路径上的地点处使玻璃形成带的第一主表面实质上跨越玻璃形成带的整个宽度与辊接触。
[0013]在其他实施方式中，方法可以进一步包括通过使玻璃形成材料流过形成装置的孔口来形成玻璃形成带。
[0014]在其他实施方式中，目标位置处的平均粘度可以在约1,000帕斯卡
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秒至约10
6.6
帕斯卡
‑
秒的范围内。
[0015]在甚至其他实施方式中，目标位置处的平均粘度可以在约10,000帕斯卡
‑
秒至约20,000帕斯卡
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秒的范围内。
[0016]在其他实施方式中，目标位置处的平均粘度可以在约10
6.6
帕斯卡
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秒至约10
11
帕斯卡
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秒的范围内。
[0017]在其他实施方式中，在加热之前，目标位置处的玻璃形成带的平均温度可以在约500℃至约1300℃的范围内。
[0018]在甚至其他实施方式中，目标位置处的玻璃形成带的平均温度可以在约750℃至约1250℃的范围内。
[0019]在仍其他实施方式中，目标位置处的玻璃形成带的平均温度可以在约900℃至约1100℃的范围内。
[0020]在甚至其他实施方式中，目标位置处的玻璃形成带的平均温度可以在约500℃至约750℃的范围内。
[0021]在其他实施方式中，在玻璃带的后续处理之前的玻璃带的第一主表面的表面粗糙度可为约5纳米(nm)或更小。
[0022]在甚至其他实施方式中，玻璃带的第一主表面的表面粗糙度Ra可以在约0.1纳米至约2纳米的范围内。
[0023]在甚至其他实施方式中，在玻璃带的后续处本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种制造玻璃带的方法，包括：使玻璃形成带沿行进路径流动，所述玻璃形成带包括第一主表面、与所述第一主表面相对的第二主表面、限定在所述第一主表面与所述第二主表面之间的厚度以及延伸穿过所述行进路径的宽度；在所述玻璃形成带沿所述行进路径行进的同时在所述行进路径的目标位置处加热所述玻璃形成带的所述第一主表面，所述加热将所述目标位置处的所述玻璃形成带的温度升高至距所述第一主表面约250微米或更小的加热深度；以及将所述玻璃形成带冷却成所述玻璃带，其中在所述加热之前，所述目标位置处的所述玻璃形成带包括约1,000帕斯卡
‑
秒至约10
11
帕斯卡
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秒的范围内的平均粘度。2.如权利要求1所述的方法，进一步包括：在所述目标位置上游的所述行进路径上的地点处使跨越所述玻璃形成带的整个宽度的所述玻璃形成带的所述第一主表面与辊接触。3.如权利要求1
‑
2中任一项所述的方法，所述方法进一步包括通过使玻璃形成材料流过形成装置的孔口来形成所述玻璃形成带。4.如权利要求1
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3中任一项所述的方法，其中所述目标位置处的所述平均粘度在约1000帕斯卡
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秒至约10
6.6
帕斯卡
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秒的范围内。5.如权利要求4所述的方法，其中所述目标位置处的所述平均粘度在约10,000帕斯卡
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秒至约20,000帕斯卡
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秒的范围内。6.如权利要求1
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3中任一项所述的方法，其中所述目标位置处的所述平均粘度在约10
6.6
帕斯卡
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秒至约10
11
帕斯卡
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秒的范围内。7.如权利要求1
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6中任一项所述的方法，其中在所述加热之前，所述目标位置处的所述玻璃形成带的平均温度在约500℃至约1300℃的范围内。8.如权利要求7所述的方法，其中所述目标位置处的所述玻璃形成带的所述平均温度在约750℃至约1250℃的范围内。9.如权利要求8所述的方法，其中所述目标位置处的所述玻璃形成带的所述平均温度在约900℃至约1100℃的范围内。10.如权利要求7所述的方法，其中所述目标位置处的所述玻璃形成带的所述平均温度在约500℃至约750℃的范围内。11.如权利要求1
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10中任一项所述的方法，其中在所述玻璃带的后续处理之前的所述玻璃带的所述第一主表面的表面粗糙度Ra为约5纳米或更小。12.如权利要求11所述的方法，其中所述玻璃带的所述第一主表面的所述表面粗糙度Ra在约0.1纳米至约2纳米的范围内。13.如权利要求11
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12中任一项所述的方法，其中在所述玻璃带的后续处理之前的所述玻璃带的所述第一主表面的所述表面粗糙度Ra为约5％或小于第二玻璃带的后续处理之前的所述第二玻璃带的表面粗糙度Ra，其中除了所述加热之外，所述第二玻璃带与所述玻璃带相同地被制造。14.如权利要求13所述的方法，其中所述玻璃带的所述第一主表面的所述表面粗糙度Ra在所述第二玻璃带的所述表面粗糙度Ra的约0.01％至约1％的范围内。15.如权利要求1
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14中任一项所述的方法，其中所述在所述目标位置处加热所述第一
主表面以约0.1千瓦/平方公分至约100千瓦/平方公分的范围内的速率将能量传递给所述玻璃形成带。16.如权利要求15所述的方法，其中在所述目标位置处加热所述第一主表面以约1千瓦/平方公分至约20千瓦/平方公分的范围内的速率将能量传递给所述玻璃形成带。17.如权利要求15
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16中任一项所述的方法，其中传递给所述目标位置处的所述玻璃形成带的实质上所有能量在距所述目标位置处的所述第一主表面约10微米或更小的范围内被吸收。18.如权利要求1
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17中任一项所述的方法，其中所述加热深度为约10微米或更小。19.如权利要求1
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18中任一项所述的方法，其中在所述加热所述第一主表面期间，所述玻璃形成带的玻璃形成材料在所述目标位置处的吸收深度为约50微米或更小。20.如权利要求19所述的方法，其中所述吸收深度为约10微米或更小。21.如权利要求1
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20中任一项所述的方法，进一步包括在所述玻璃形成带沿所述行进路径行进的同时在所述行进路径的第二目标位置处加热所述玻璃形成带的所述第二主表面，所述加热将所述第二目标位置处的所述玻璃形...

【专利技术属性】
技术研发人员：杰弗里，
申请(专利权)人：康宁公司，
类型：发明
国别省市：