【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于纯化溶剂的系统及方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2020年6月12日提交的美国临时专利申请第63/038,463号的优先权，该申请的内容以全文引用方式并入本文。
[0003]本公开关于一种用于纯化溶剂(例如，有机溶剂)的系统及方法。特别是，本公开是关于一种可使用的获得具有高纯度、低晶圆上粒子计数及低晶圆上金属计数的有机溶剂的系统及方法。
技术介绍
[0004]半导体工业已在电子构件的集成密度方面取得了快速改良，而这是起源于构件尺寸的持续降低。最终，更多的小型构件可以被集成到特定的区域中。这些改良大多由于新型精确及高分辨率加工技术的发展。
[0005]在高分辨率集成电路(ICs)的制造期间，多种处理液体将与裸晶圆或涂布膜的晶圆接触。例如，细金属互相连接的制造典型地包括在以复合液体涂布基础材料以形成光阻膜之前用预润湿液体涂布基础材料的程序。这些处理液体包括专有成份及多种添加剂，其已知是IC晶圆的污染物来源。
[0006]据信，即使微量的污染物混合进这些化学液体诸如晶...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于纯化有机溶剂的方法，其包括：在第一蒸馏塔中蒸馏所述有机溶剂以获得中间有机溶剂，其中，所述第一蒸馏塔具有位于所述第一蒸馏塔高度的约80％至约100％的位置处的注入口；将所述中间有机溶剂转移至第二蒸馏塔，其中，所述第二蒸馏塔具有一位于所述第二蒸馏塔高度的约0％至约30％的位置处的注入口；以及在所述第二蒸馏塔中蒸馏所述中间有机溶剂，以获得经蒸馏的有机溶剂。2.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述第一蒸馏塔中蒸馏所述有机溶剂是移除具有沸点低于所述有机溶剂沸点的杂质。3.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述第二蒸馏塔中蒸馏所述中间有机溶剂是移除具有沸点高于所述有机溶剂沸点的杂质。4.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：在所述第一蒸馏塔中蒸馏所述有机溶剂之前，将所述有机溶剂预热至低于所述有机溶剂沸点至少约20℃的温度，其中，所述预热是通过在所述第一蒸馏塔上游且与所述第一蒸馏塔流体连通的预热器进行的。5.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：使所述有机溶剂通过在所述第一蒸馏塔上游的第一过滤器单元，其中，所述第一过滤器单元包括第一外罩及在所述第一外罩中的至少一个第一过滤器，且所述至少一个第一过滤器包括过滤介质。6.根据权利要求5所述的方法，其中，在所述至少一个第一过滤器中的过滤介质包括聚烯烃、聚酰胺、氟聚合物或其共聚物。7.根据权利要求6所述的方法，其中，在所述至少一个第一过滤器中的过滤介质包括聚丙烯或聚四氟乙烯。8.根据权利要求5所述的方法，其中，在所述至少一个第一过滤器中的过滤介质具有平均孔洞尺寸约50纳米至约250纳米。9.根据权利要求5所述的方法，其中，所述至少一个第一过滤器是粒子移除过滤器。10.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：使所述经蒸馏的有机溶剂通过所述第二蒸馏塔下游的第二过滤器单元，其中，所述第二过滤器单元包括第二外罩及在所述第二外罩中的至少一个第二过滤器，且所述至少一个第二过滤器包括过滤介质。11.根据权利要求10所述的方法，其中，在所述至少一个第二过滤器中的过滤介质包括聚烯烃、聚酰胺、氟聚合物或其共聚物。12.根据权利要求11所述的方法，其中，在所述至少一个第二过滤器中的过滤介质包括耐纶或聚四氟乙烯。13.根据权利要求10所述的方法，其中，在所述至少一个第二过滤器中的过滤介质具有平均孔洞尺寸约2纳米至10纳米。14.根据权利要求10所述的方法，其中，所述至少一个第二过滤器是粒子移除过滤器。15.根据权利要求10所述的方法，进一步包括：使排出所述第二过滤器单元的有机溶剂再循环。16.根据权利要求15所述方法，其中，所述再循环包括：将排出所述第二过滤器单元的有机溶剂移到蒸馏溶剂槽，并且随后使所述有机溶剂通过所述第二过滤器单元，而所述蒸馏溶剂槽位于所述第二蒸馏塔与所述第二过滤器单元之间且与所述第二蒸馏塔及所述第二过滤器单元流体连通...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈媛，爱德华多，
申请(专利权)人：富士胶片电子材料美国有限公司，
类型：发明
国别省市：
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