基于失效率的过程窗口制造技术

本文中描述一种用于基于失效率来确定图案化过程的过程窗口的方法。所述方法包括：(a)获得被印制于衬底上的多个特征；(b)基于指标将所述特征分组为多个组；和(c)基于与特征组相关联的测量数据来产生所述特征组的基础失效率模型，其中，所述基础失效率模型识别与所述特征组的所述失效率相关的所述过程窗口。所述方法还包括使用所述基础失效率模型产生用于特定特征的特定于特征的失效率模型，其中，所述特定于特征的失效率模型识别特定于特征的过程窗口，使得所述特定特征的估计失效率低于指定阈值。于指定阈值。于指定阈值。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基于失效率的过程窗口
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年7月3日递交的PCT申请PCT/CN2020/100137和于2021年3月16日递交的PCT申请PCT/CN2021/081068的优先权，并且这些PCT申请的全部内容通过引用并入本文中。


[0003]本公开涉及改善器件制造过程的性能的技术。所述技术可以结合光刻设备或量测设备而使用。

技术介绍

[0004]光刻设备是将期望的图案施加至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在该情形下，替代地被称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生与IC的单独的层对应的电路图案，并且这种图案可以被成像至具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。通常，单个衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，在所谓的步进器中，通过一次性将整个图案曝光至每个目标部分上来照射所述目标部分；和所谓的扫描仪，在所谓的扫描仪中，通过在给定方向(“扫本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种具有指令的非暂时性计算机可读介质，所述指令在由计算机执行时使所述计算机执行用于确定图案化过程的过程窗口的方法，所述方法包括：获得被印制于衬底上的多个特征的测量数据；以及基于与一特征组相关联的所述测量数据来产生所述特征组的基础失效率模型，所述特征组中的特征是不同的，其中，所述基础失效率模型被配置成根据所述特征组的失效率识别过程窗口。2.根据权利要求1所述的计算机可读介质，还包括基于指标将所述多个特征分组为包括所述组的多个组。3.根据权利要求2所述的计算机可读介质，其中，所述指标包括：(a)所述特征中的每个特征的过程窗口，其中，所述过程窗口是与相应特征相关联的过程变量的函数；和(b)与所述相应特征相关联的特性参数。4.根据权利要求2所述的计算机可读介质，其中，所述过程变量包括与用于所述图案化过程的设备相关联的焦距值和剂量值，并且其中，所述特性参数包括所述相应特征的临界尺寸(CD)值。5.根据权利要求2所述的计算机可读介质，其中，将所述特征分组包括：对于所述特征中的每个特征，获得所述相应特征的平均CD值以及位于所述相应特征的过程窗口的边缘处的与所述平均CD相关联的多个剂量值和焦距值以作为指标值，以及基于所述特征的所述指标值将所述特征聚类至所述特征组中，其中，特定组内的特征具有位于第一阈值内的指标值。6.根据权利要求1所述的计算机可读介质，其中，获得所述多个特征的所述测量数据包括：获得具有被印制于所述衬底上的所述特征的图像，以及分析所述图像以选择满足指定准则的特征作为所述多个特征。7.根据权利要求6所述的计算机可读介质，其中，所述指定准则包括特征在所述衬底上的出现次数低于第一阈值，或所述特征在所述图像中的一图像中的出现次数低于第二阈值。8.根据权利要求1所述的计算机可读介质，其中，产生用于所述特征组的所述基础失效率模型包括：获得所述特征组的平均CD；将所述特征组的局部CD均一性(LCDU)数据确定为与所述特征组相关联的所述测量数据；基于所述LCDU数据来获得：(i)所述特征组的CD的概率密度函数，所述概率密度函数被定义为所述平均CD、所述图案化过程的剂量值、以及所述图案化过程的剂量值的方差的函数；和(ii)所述图案化过程的基于所述特征组中的特征的失效率测量结果的CD极限；基于所述CD极限和所述CD的所述概率密度函数来确定所述特征组的估计失效率；以及产生所述基础失效率模型，所述基础失效率模型识别与所述剂量值相关的所述过程窗口，使得所述特征组的估计失效率小于预定阈值。9.根据权利要求1所述的计算机可读介质，还包括：使用所述基础失效率模型和所述特定特征的特性数据产生用于特定特征的特定于特
征的失效率模型，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋爱琴，苏达沙南，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：