具有孔径光阑的光学系统技术方案

本发明专利技术涉及一种光学系统，特别是光刻系统(100A)，包括：孔径光阑(202)，其具有带边缘(206)的孔径(204)，用于界定该光学系统(100A)的光路(200)的外周界(200a)；以及热光阑(208)，其布置在孔径光阑(202)的上游，用于部分地遮蔽该孔径光阑(202)，其中该孔径光阑(202)的边缘(206)不被遮蔽。(202)的边缘(206)不被遮蔽。(202)的边缘(206)不被遮蔽。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有孔径光阑的光学系统
[0001]相关申请的参考
[0002]本申请要求2020年6月29目的德国专利申请DE 102020208007.0的优先权，其全部公开内容通过引用并入本申请。


[0003]本专利技术涉及一种光学系统，特别是光刻系统，包括孔径光阑(aperture stop)，该孔径光阑具有带边缘的孔径，用于界定该光学系统的光路的外周界。

技术介绍

[0004]光刻系统可为用于曝光晶片的光刻设备或其他微光刻光学系统，例如检查系统，比如用于测量或检查光刻掩模、晶片等的系统。光刻系统尤其可以是EUV光刻设备或DUV光刻设备。EUV代表“极紫外”，描述了0.1nm至30nm的使用辐射波长。DUV代表“深紫外”，描述了30nm至250nm的使用辐射波长。
[0005]数值孔径是光刻系统、尤其是光刻设备的重要参数。在光刻系统中，借助于所谓的孔径光阑来设置或修改数值孔径。孔径光阑被理解为是(清晰地)界定光路的外周界的光阑。为此，孔径光阑具有带(周向)边缘的孔径。在此，孔径或边缘的几何构型限定了穿过该孔径光阑的孔径的、光路或本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学系统，特别是光刻系统(100A、100B)，包括：孔径光阑(202)，其具有带边缘(206)的孔径(204)，用于界定所述光学系统的光路(200)的外周界(200a)，其特征在于，热光阑(208)，其布置在所述孔径光阑(202)的上游，用于部分地遮蔽所述孔径光阑(202)，其中所述孔径光阑(202)的所述边缘(206)不被遮蔽，其中所述热光阑(208)具有带边缘(212)的孔径(210)，所述边缘(212)与所述光路(200)的所述外周界(200a)间隔开，并且其中在所述光学系统的工作过程中，所述热光阑(20)的所述孔径(210)的所述边缘(212)离所述光路(200)的所述外周界(200a)的距离(A)不大于2mm。2.如权利要求1所述的光学系统，其中，在所述光学系统的工作过程中，所述热光阑(20)的所述孔径(210)的所述边缘(212)离所述光路(200)的所述外周界(200a)的距离(A)至少为50μm，特别是至少为1μm。3.如权利要求1或2所述的光学系统，其中，在所述光学系统的工作过程中，所述热光阑(20)的所述孔径(210)的所述边缘(212)离所述光路(200)的所述外周界(200a)的距离(A)不大于1mm。4.如前述权利要求中任一项所述的光学系统，其中，所述热光阑(208)的所述孔径(210)的几何形状对应于所述孔径光阑(202)的所述孔径(204)的几何形状。5.如前述权利要求中任一项所述的光学系统，其中，所述热光阑(208)相对于所述孔径光阑(202)以角度(α)取向。6.如前述权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：T穆勒，R利特林克，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：