显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:36709522 阅读:32 留言:0更新日期:2023-03-01 09:35
本发明专利技术公开了一种显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置,方法包括:在衬底基板上形成第一金属层;在第一金属层上形成第一光刻胶层,第一光刻胶层包括第一胶区与第二胶区,第二胶区包括间隔分布的第一区域与第二区域,第一区域位于衬底基板的边缘区域,第二区域位于衬底基板的中间区域,边缘区域围绕中间区域设置;对第一光刻胶层的第一胶区进行曝光;对第一光刻胶层的第二区域进行曝光;对曝光后的第一胶区与第二区域进行显影;去除第一胶区与第二区域对应的第一金属层;剥离第一区域的第一光刻胶层,得到第一金属图形。通过对光刻胶不同区域按照不同工艺顺序曝光,可制备第一金属图形,不需开发新的图形掩模版,降低成本。成本。成本。

【技术实现步骤摘要】
显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置


[0001]本专利技术属于显示
,具体涉及一种显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置。

技术介绍

[0002]随着电子设备的发展,越来越多的电子设备具有显示模组,显示模组中常用经过加工处理的玻璃作基板。在应用过程中,需要在一些玻璃基板上加工设计图形,工厂使用专用玻璃进行设备的定期调试和产品工艺前设备精度确认;根据玻璃基板上的图形的需求,设计了专用玻璃基板对应专用玻璃的生产,在图形制备过程中,制作方式是采用曝光机制作,通过涂胶、曝光、显影、刻蚀、剥离5步工艺形成。但是,在制作图形的工艺过程中,现有的掩模版难以满足图形制备的需求,需要新的掩模版来实现图形的制备,但是新的掩模版加工制备成本高,增加额外的掩模版成本。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例的目的是提供一种显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置,用以解决在显示基板的图形制备过程中需要开发新的掩模版,导致成本高的问题。
[0004]第一方面,本专利技术实施例提供了一种显示基板的制备方法,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:在衬底基板上形成第一金属层;在所述第一金属层上形成第一光刻胶层,所述第一光刻胶层包括第一胶区与第二胶区,所述第二胶区包括间隔分布的第一区域与第二区域,所述第一区域位于所述衬底基板的边缘区域,所述第二区域位于所述衬底基板的中间区域,所述边缘区域围绕所述中间区域设置;对所述第一光刻胶层的第一胶区进行曝光;对所述第一光刻胶层的第二区域进行曝光;对曝光后的第一胶区与第二区域进行显影;去除所述第一胶区与所述第二区域对应的第一金属层;剥离所述第一区域的第一光刻胶层,得到第一金属图形。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在剥离所述第一区域的第一光刻胶层的步骤之后,还包括:在所述衬底基板上形成保护层,所述第一金属图形位于所述衬底基板与所述保护层之间。3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述保护层为透光层。4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在所述衬底基板上形成保护层的步骤之后,还包括:在所述保护层上形成第二金属图形。5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,在所述保护层上形成第二金属图形的步骤包括:在所述保护层上形成第二金属层;在所述第二金属层上形成第二光刻胶层,其中,所述第二光刻胶层包括第三区域与第四区域,所述第三区域围绕所述第四区域设置,所述第三区域在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一金属图形;对所述第二光刻胶层的第三区域进行曝光、显影;去除第三区域对应的第二金属层;去除所述第二光刻胶层的第四区域,得到第二金属图形。6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述第二金属图形位于所述衬底基板的...

【专利技术属性】
技术研发人员:龚端兰霜梁永民简月圆张尚明周于余逸春张婷婷
申请(专利权)人:重庆京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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