显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置，方法包括：在衬底基板上形成第一金属层；在第一金属层上形成第一光刻胶层，第一光刻胶层包括第一胶区与第二胶区，第二胶区包括间隔分布的第一区域与第二区域，第一区域位于衬底基板的边缘区域，第二区域位于衬底基板的中间区域，边缘区域围绕中间区域设置；对第一光刻胶层的第一胶区进行曝光；对第一光刻胶层的第二区域进行曝光；对曝光后的第一胶区与第二区域进行显影；去除第一胶区与第二区域对应的第一金属层；剥离第一区域的第一光刻胶层，得到第一金属图形。通过对光刻胶不同区域按照不同工艺顺序曝光，可制备第一金属图形，不需开发新的图形掩模版，降低成本。成本。成本。

【技术实现步骤摘要】
显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置


[0001]本专利技术属于显示
，具体涉及一种显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置。

技术介绍

[0002]随着电子设备的发展，越来越多的电子设备具有显示模组，显示模组中常用经过加工处理的玻璃作基板。在应用过程中，需要在一些玻璃基板上加工设计图形，工厂使用专用玻璃进行设备的定期调试和产品工艺前设备精度确认；根据玻璃基板上的图形的需求，设计了专用玻璃基板对应专用玻璃的生产，在图形制备过程中，制作方式是采用曝光机制作，通过涂胶、曝光、显影、刻蚀、剥离5步工艺形成。但是，在制作图形的工艺过程中，现有的掩模版难以满足图形制备的需求，需要新的掩模版来实现图形的制备，但是新的掩模版加工制备成本高，增加额外的掩模版成本。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例的目的是提供一种显示基板的制备方法、显示基板、显示面板和显示装置，用以解决在显示基板的图形制备过程中需要开发新的掩模版，导致成本高的问题。
[0004]第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示基板的制备方法，包括：
[0005]在衬底基板上形成第一金属层；
[0006]在所述第一金属层上形成第一光刻胶层，所述第一光刻胶层包括第一胶区与第二胶区，所述第二胶区包括间隔分布的第一区域与第二区域，所述第一区域位于所述衬底基板的边缘区域，所述第二区域位于所述衬底基板的中间区域，所述边缘区域围绕所述中间区域设置；
[0007]对所述第一光刻胶层的第一胶区进行曝光；/>[0008]对所述第一光刻胶层的第二区域进行曝光；
[0009]对曝光后的第一胶区与第二区域进行显影；
[0010]去除所述第一胶区与所述第二区域对应的第一金属层；
[0011]剥离所述第一区域的第一光刻胶层，得到第一金属图形。
[0012]可选地，在剥离所述第一区域的第一光刻胶层的步骤之后，还包括：
[0013]在所述衬底基板上形成保护层，所述第一金属图形位于所述衬底基板与所述保护层之间。
[0014]可选地，所述保护层为透光层。
[0015]可选地，在所述衬底基板上形成保护层的步骤之后，还包括：
[0016]在所述保护层上形成第二金属图形。
[0017]可选地，在所述保护层上形成第二金属图形的步骤包括：
[0018]在所述保护层上形成第二金属层；
[0019]在所述第二金属层上形成第二光刻胶层，其中，所述第二光刻胶层包括第三区域
与第四区域，所述第三区域围绕所述第四区域设置，所述第三区域在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一金属图形；
[0020]对所述第二光刻胶层的第三区域进行曝光、显影；
[0021]去除第三区域对应的第二金属层；
[0022]去除所述第二光刻胶层的第四区域，得到第二金属图形。
[0023]可选地，所述第二金属图形位于所述衬底基板的中间区域。
[0024]可选地，所述第一区域的数量为多个，多个所述第一区域沿所述衬底基板的周向间隔分布；和/或
[0025]所述第二区域的数量为多个，多个所述第二区域间隔分布。
[0026]可选地，所述第一金属图形的数量为多个，多个所述第一金属图形沿所述衬底基板的周向间隔分布。
[0027]可选地，所述第一金属图形位于所述衬底基板的角部。
[0028]第二方面，本专利技术实施例提供了一种显示基板，采用如上述实施例中所述的方法制作而成，所述显示基板包括：
[0029]衬底基板；
[0030]第一金属图形，所述第一金属图形设置于所述衬底基板的边缘区域。
[0031]可选地，所述第一金属图形的数量为多个，多个所述第一金属图形沿所述衬底基板的周向间隔分布。
[0032]可选地，所述第一金属图形位于所述衬底基板的角部。
[0033]可选地，所述显示基板还包括：
[0034]保护层，所述保护层覆盖所述衬底基板，所述第一金属图形位于所述衬底基板与所述保护层之间。
[0035]可选地，所述保护层为透光层；和/或
[0036]所述显示基板还包括：第二金属图形，所述第二金属图形设置于所述保护层远离所述衬底基板的一侧且位于所述衬底基板的中间区域，所述边缘区域围绕所述中间区域设置。
[0037]第三方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板，包括上述实施例中所述的显示基板。
[0038]第四方面，本专利技术实施例提供了一种显示装置，包括上述实施例中所述的显示面板。
[0039]在本专利技术实施例的显示基板的制备方法中，在衬底基板上形成第一金属层；在所述第一金属层上形成第一光刻胶层，所述第一光刻胶层包括第一胶区与第二胶区，所述第二胶区包括间隔分布的第一区域与第二区域，所述第一区域位于所述衬底基板的边缘区域，所述第二区域位于所述衬底基板的中间区域，所述边缘区域围绕所述中间区域设置；对所述第一光刻胶层的第一胶区进行曝光；对所述第一光刻胶层的第二区域进行曝光；对曝光后的第一胶区与第二区域进行显影；去除所述第一胶区与所述第二区域的第一金属层；剥离所述第一区域的第一光刻胶层，得到第一金属图形。
[0040]在制备过程中，在衬底基板上先形成第一金属层，在所述第一金属层上形成第一光刻胶层，可以先通过曝光机对所述第一光刻胶层的第一胶区进行曝光，然后可以通过边
缘曝光机对所述第一光刻胶层的第二区域进行曝光，通过对曝光后的第一胶区与第二区域进行显影，去除所述第一胶区与所述第二区域对应的第一金属层，剥离所述第一区域的第一光刻胶层，得到第一金属图形。第一金属图形可以用于在衬底基板上安装器件结构时进行定位，提高对位精度，可以进行设备的定期调试和产品工艺前设备精度确认。通过本专利技术中的制备方法，只需要通过现有的曝光机以及边缘曝光机对光刻胶的不同区域按照不同的工艺顺序进行曝光，就可以实现光刻胶的曝光，在经过显影、刻蚀等工艺就可以实现第一金属图形的制备，不需要开发新的图形制备掩模版，增加现有设备的利用用途，提高掩模版的利用率，降低制备成本。
附图说明
[0041]图1为衬底基板的一个示意图；
[0042]图2为在衬底基板上形成第一金属层的示意图；
[0043]图3为在第一金属层上形成第一光刻胶层的示意图；
[0044]图4为第一光刻胶层的第一胶区曝光后的示意图；
[0045]图5为第一光刻胶层的第二区域曝光后的示意图；
[0046]图6为第一胶区与第二区域显影后的示意图；
[0047]图7为去除第一胶区对应的第一金属层后的示意图；
[0048]图8为去除第一区域的第一光刻胶层后的示意图；
[0049]图9为在衬底基板上形成保护层的示意图；
[0050]图10为在保护层上形成第二光刻胶层的示意图；
[0051]图11为第二光刻胶层的第三区域曝光、显影后的示意图；
[0052]图12为去除第三区域对应的第二本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成第一金属层；在所述第一金属层上形成第一光刻胶层，所述第一光刻胶层包括第一胶区与第二胶区，所述第二胶区包括间隔分布的第一区域与第二区域，所述第一区域位于所述衬底基板的边缘区域，所述第二区域位于所述衬底基板的中间区域，所述边缘区域围绕所述中间区域设置；对所述第一光刻胶层的第一胶区进行曝光；对所述第一光刻胶层的第二区域进行曝光；对曝光后的第一胶区与第二区域进行显影；去除所述第一胶区与所述第二区域对应的第一金属层；剥离所述第一区域的第一光刻胶层，得到第一金属图形。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在剥离所述第一区域的第一光刻胶层的步骤之后，还包括：在所述衬底基板上形成保护层，所述第一金属图形位于所述衬底基板与所述保护层之间。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述保护层为透光层。4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成保护层的步骤之后，还包括：在所述保护层上形成第二金属图形。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在所述保护层上形成第二金属图形的步骤包括：在所述保护层上形成第二金属层；在所述第二金属层上形成第二光刻胶层，其中，所述第二光刻胶层包括第三区域与第四区域，所述第三区域围绕所述第四区域设置，所述第三区域在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一金属图形；对所述第二光刻胶层的第三区域进行曝光、显影；去除第三区域对应的第二金属层；去除所述第二光刻胶层的第四区域，得到第二金属图形。6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述第二金属图形位于所述衬底基板的...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚端，兰霜，梁永民，简月圆，张尚明，周于，余逸春，张婷婷，
申请(专利权)人：重庆京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：