被动匀场层及磁共振成像设备制造技术

本发明专利技术涉及被动匀场层及磁共振成像设备，被动匀场层包括支撑组件、匀场条组件以及固定组件，支撑组件包括弹性件和多个支撑条，多个支撑条沿圆周方向依次间隔固定于主磁体的内壁上，弹性件呈弧形结构设置在多个支撑条的内侧，以使得相邻两个支撑条、弹性件、主磁体之间形成弹性空腔。匀场条组件插接在弹性空腔内。通过设置弹性件和支撑条，相邻两个支撑条、弹性件以及主磁体的内壁之间形成弹性空腔。在安装时，仅需将匀场条组件插入至所述弹性空腔内，即可通过弹性件将匀场条组件压紧于主磁体内壁上，从而使得匀场条组件能够紧固于弹性空腔内，便于减小匀场条组件的振动，改善成像质量。量。量。

【技术实现步骤摘要】
被动匀场层及磁共振成像设备


[0001]本专利技术涉及磁共振成像
，特别是涉及一种被动匀场层及磁共振成像设备。

技术介绍

[0002]磁共振成像(Magnetic Resonance Imaging,MRI)是利用磁共振现象进行成像的一种医学影像技术。其基本原理是当被测对象置于特殊的磁场中后，体内的氢原子可被极化，用无线电射频脉冲激发人体内氢原子核，引起氢原子核共振，并吸收能量，在停止射频脉冲后，氢原子核按特定频率发出射电信号，并将吸收的能量释放出来，被体外的接收器接收处理获得图像。
[0003]磁共振成像设备一般包括主磁体、梯度线圈以及被动匀场层，主磁体内开设有孔径，梯度线圈和被动匀场层均设置在孔径内，主磁体用于产生一个均匀的磁场。梯度线圈用于产生在空间呈线性分布的梯度磁场。被动匀场层用于改善主磁场的均匀性。
[0004]现有技术中，一般在梯度线圈内开设有沿其轴向延伸的匀场孔，匀场条安装在匀场孔中。但由于匀场条一般采用插接的方式安装在匀场孔中，为了方便匀场条的插接，匀场孔的尺寸大于匀场条的尺寸，导致匀场条插入后不能实现紧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种被动匀场层(20)，其特征在于，用于设置在主磁体(10)的孔径内，包括：支撑组件(100)，包括弹性件(110)和多个支撑条(130)，多个所述支撑条(130)沿圆周方向依次间隔固定于所述主磁体(10)的内壁上，所述弹性件(110)设置在多个所述支撑条(130)的内侧，以使得相邻两个所述支撑条(130)、弹性件(110)、主磁体(10)之间形成弹性空腔(160)；和匀场条组件(200)，插接在所述弹性空腔(160)内，所述弹性件(110)用于将所述匀场条组件(200)压紧于所述主磁体(10)的内壁上。2.根据权利要求1所述的被动匀场层(20)，其特征在于，所述弹性件(110)包括多个弹性单元(120)，沿所述主磁体(10)的轴向，每个所述支撑条(130)上依次排列的多个所述弹性单元(120)，所述弹性单元(120)的至少一端伸出至所述支撑条(130)外。3.根据权利要求2所述的被动匀场层(20)，其特征在于，所述弹性单元(120)的两端分别伸出至所述支撑条(130)外，相邻两个支撑条(130)上的弹性单元(120)的端部相互靠近。4.根据权利要求3所述的被动匀场层(20)，其特征在于，沿着所述匀场条组件(200)的插入方向，所述弹性单元(120)伸出至所述支撑条(130)外的端部设置有导向角(121)；所述匀场条组件(200)具有首先插入至所述弹性空腔(160)内的插入端(221)，所述插入端(221)的厚度从靠近支撑条(130)的两侧向远离支撑条(130)的中部逐渐递增。5.根据权利要求2所述的被动匀场层(20)，其特征在于，同一个所述支撑条(130)上的多个所述弹性单元(120)沿所述主磁体(10)的轴向彼此相连。6.根据权利要求2所述的被动匀场层(20)，其特征在于，位于同一圆周上的多个弹性单元(120...

【专利技术属性】
技术研发人员：张楠，
申请(专利权)人：深圳市联影高端医疗装备创新研究院，
类型：发明
国别省市：