用于使颗粒成像的系统及光强度测量系统技术方案

揭露一种用于使颗粒成像的系统及一种光强度测量系统。用于使颗粒成像的系统包括成像装置。成像装置具有透镜和检测器。激光源被配置成发射激光束。检测器被配置成累积穿过透镜的累积光的强度。累积光被颗粒散射。颗粒在给定的时段内通过激光束。定的时段内通过激光束。定的时段内通过激光束。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于使颗粒成像的系统及光强度测量系统


[0001]于此揭露的示例大体涉及用于检测流体中的颗粒的设备和方法。

技术介绍

[0002]在半导体制造期间，净化水经常用于许多应用中。例如，净化水经常用于清洁基板和制造设施中的其他半导体零件。净化水可能含有颗粒污染物。用于测量净化水的样品以确定污染水平的已知技术需要将样品移到现场外进行测试，从而增加了测试及将净化水维持在处理要求内的成本。
[0003]商业上可用的技术包括用于测试净化水中不需要的颗粒和其他污染物的浓度的液体颗粒计数器(LPC)。质谱法是测试净化水中是否有不需要的颗粒的另一种方式。在质谱法中，由雾化器吸取试管中含有的样品，雾化器将净化水粉碎成液滴。将带电的离子投射通过质谱仪，且由检测器测量离子。可测量净化水的电导率以确定离子浓度，其中离子浓度对应于净化水中的纯度水平。因为这些已知技术涉及现场外测试，因此操作者面临更多的时间和成本来测试净化水，以确保其在处理要求内。尽管在线和线上光谱仪也是已知的，但是这些光谱仪仅能够检测非常高浓度的颗粒污染，因此对于净化水中的低浓度的污染没有用。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于使颗粒成像的系统，包含：成像装置，包含：透镜；和检测器；和激光源，被配置成发射激光束，其中所述检测器被配置成累积穿过所述透镜的累积光的强度，所述累积光由所述颗粒散射，所述颗粒在给定的时段内通过所述激光束。2.如权利要求1所述的用于使颗粒成像的系统，进一步包含：中空导管，其中所述激光束被配置成穿过所述中空导管。3.如权利要求2所述的用于使颗粒成像的系统，进一步包含：池，被配置成储存流体，其中所述中空导管耦接到所述池，其中所述流体的至少一部分以给定速度通过所述中空导管。4.如权利要求3所述的用于使颗粒成像的系统，其中所述中空导管包含第一侧面，所述第一侧面正交于第二侧面，所述激光束进一步被配置成平行于所述第一侧面而通过，且所述第二侧面垂直于所述激光束。5.如权利要求1所述的用于使颗粒成像的系统，其中通过所述透镜的光的强度经由所述强度的时间延迟积分而累积在所述成像装置中。6.如权利要求1所述的用于使颗粒成像的系统，进一步包含：池，被配置成储存流体；中空导管，耦接到所述池，其中所述流体的至少一部分以给定的速度通过中空导管，所述激光束在正交于所述流体的流动的位置处进入所述中空导管。7.如权利要求1所述的用于使颗粒成像的系统，进一步包含：池，被配置成储存流体；中空导管，耦接到所述池，其中所述流体的至少一部分以给定速度通过中空导管，所述激光束在与所述流体的流动平行的位置处进入所述中空导管。8.一种光强度测量系统，包含：成像装置，包...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅迪，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：