一种氯雷他定原料药用带有清洁排污结构的恒温水浴锅制造技术

技术编号:36702988 阅读:33 留言:0更新日期:2023-03-01 09:21
本实用新型专利技术公开了一种氯雷他定原料药用带有清洁排污结构的恒温水浴锅,涉及水浴锅技术领域。包括加热箱和设置在加热箱内部的定位单元,定位单元包括旋转架和设置在旋转架两侧的支撑部,旋转架通过支撑部和刮料板相连接,刮料板活动安装在水浴部的内腔中,本实用新型专利技术解决了在水浴锅长期使用时内部容易粘附水垢,不方便对污物进行去除和清洁的技术问题,通过旋转轴带动锥形齿轮A进行旋转,锥形齿轮A带动锥形齿轮B进行旋转,进而调节螺杆推动伸缩杆伸出,使刮料板伸长,贴合水浴部内腔,驱动电机带动其进行旋转,对水浴部内腔粘附的水垢等污物进行刮除。物进行刮除。物进行刮除。

【技术实现步骤摘要】
一种氯雷他定原料药用带有清洁排污结构的恒温水浴锅


[0001]本技术属于水浴锅
,更具体的说,涉及一种氯雷他定原料药用带有清洁排污结构的恒温水浴锅。

技术介绍

[0002]氯雷他定是第二代的抗组织胺药物,常用于治疗过敏症状。用于过敏性鼻炎、急性或慢性荨麻疹、过敏性结膜炎、花粉症及其他过敏性皮肤病。在对氯雷他定原料进行检测和测试时,往往需要用到水浴锅进行辅助,水浴锅主要用于实验室中蒸馏,干燥,浓缩,及温渍化学药品或生物制品,也可用于恒温加热和其它温度试验,是生物、遗传、病毒、水产、环保、医药、卫生、化验室、分析室、教育科研的必备工具。
[0003]在水浴锅长期使用时,内部容易粘附水垢,不方便对污物进行去除和清洁,进而影响水浴部的正常使用,在对水浴锅内部的水进行加热时,升温速度缓慢,同时在对试管进行水浴加热时,不方便对试管进行固定,使用较为不便。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于克服现有技术中在水浴锅长期使用时内部容易粘附水垢,不方便对污物进行去除和清洁,进而影响水浴部的正常使用的情况,提供了一种氯雷他定原料药用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氯雷他定原料药用带有清洁排污结构的恒温水浴锅,包括加热箱(1)和设置在加热箱(1)内部的定位单元(2),其特征在于:所述定位单元(2)包括旋转架(21)和设置在旋转架(21)两侧的支撑部(22),旋转架(21)通过支撑部(22)和刮料板(23)相连接,刮料板(23)活动安装在水浴部(11)的内腔中。2.根据权利要求1所述的一种氯雷他定原料药用带有清洁排污结构的恒温水浴锅,其特征在于:所述旋转架(21)的上端设置有密封部(26),旋转架(21)的下端设置有活动安装在加热箱(1)内部的限位盘(27),旋转架(21)的下端与驱动电机(28)输出端相连接。3.根据权利要求2所述的一种氯雷他定原料药用带有清洁排污结构的恒温水浴锅,其特征在于:所述刮料板(23)的两侧呈圆弧状,且刮料板(23)的外侧设置有固定安装的清洗刷(24)。4.根据权利要求3所述的一种氯雷他定原料药用带有清洁排污结构的恒温水浴锅,其特征在于:所述旋转架(21)的内部设置有旋转轴(211),旋转轴(211)的中部固定安装有锥形齿轮A(212),锥形齿轮A(212)的一侧安装在旋转架(21)的内腔中,旋转轴(211)的下端设置有固定安装在旋转架(21)内部下端的旋转电机(215)。5.根据权利要求4所述的一种氯雷他定原料药用带有清洁排污结构的恒温水浴锅,其特征在于:所述限位盘(27)的下端设置有移动珠(271),移动珠(271)活动安装在加热箱(1)内部的安装槽内。6.根据权利要求5所述的一种氯雷他定原料药用带有清洁排污结构的恒温...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭励梁杭夏清
申请(专利权)人:南京联智医药科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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