用于光学装置的多深度膜制造方法及图纸

本公开内容的实施方式涉及形成用于制造光学装置的多深度膜。一个实施方式包含在基板的表面上设置装置材料的基底层。装置材料的一个或多个心轴设置在基底层上。设置一个或多个心轴的步骤包含在基底层上方定位掩模。在掩模位于基底层上方的情况下沉积装置材料以形成光学装置，该光学装置具有具基底层深度的基底层及具有第一心轴深度与第二心轴深度的一个或多个心轴。或多个心轴。或多个心轴。

【技术实现步骤摘要】
用于光学装置的多深度膜
[0001]本申请是申请日为2020年4月8日、申请号为202080026802.3、名称为“用于光学装置的多深度膜”的专利技术专利申请的分案申请。


[0002]本公开内容的实施方式一般涉及光学装置。更具体而言，本文描述的实施方式提供用于制造光学装置的多深度膜的形成。

技术介绍

[0003]光学装置可用于通过在基板上形成的光学装置的结构的空间变化的结构参数(例如，形状、尺寸、定向)来操纵光的传播。光学装置提供空间变化的光学响应，其根据需要塑形光学波前。光学装置的这些结构通过引起局部相位不连续(即，在小于光的波长的距离上的相位的突然改变)来改变光传播。这些结构可由基板上不同类型的材料、形状或配置构成，并且可基于不同的物理原理来操作。
[0004]制造光学装置需要由设置在基板上的装置材料层形成结构。然而，待制造的光学装置的期望性质可能需要具有各种深度的结构。因此，在本领域中需要用于形成用于制造光学装置的多深度膜的方法。

技术实现思路

[0005]在一个实施方式中，提供一种方法。该方法包含在基板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种处理系统，包括：工厂接口；第一致动器，设置在所述工厂接口内；第二致动器，设置在所述工厂接口内；对准器站，设置在所述工厂接口内；和翻转装置，与所述工厂接口耦接。2.如权利要求1所述的处理系统，其中所述工厂接口包括四个装载端口站。3.如权利要求2所述的处理系统，其中所述翻转装置在所述四个装载端口站中的第一装载端口站处耦接至所述工厂接口，或者所述对准器站设置在所述第一致动器与所述第二致动器之间。4.如权利要求1所述的处理系统，其中所述对准器站包括真空吸盘。5.如权利要求2所述的处理系统，其中所述真空吸盘包括用于吸附基板的内部区域及用于单独吸附掩模的外部区域。6.如权利要求1所述的处理系统，其中所述对准器站包括对准器。7.一种组装载具组件的方法，包括以下步骤：将载具插入对准站中，所述载具上具有掩模；对准...

【专利技术属性】
技术研发人员：卡尔，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：