【技术实现步骤摘要】
立方氮化硼烧结体和涂覆立方氮化硼烧结体
[0001]本专利技术涉及一种立方氮化硼烧结体和涂覆立方氮化硼烧结体。
技术介绍
[0002]立方氮化硼烧结体包含立方氮化硼(以下也称为“cBN”)和结合相。一般来说,Al被用于结合相的材料的一部分。使用Al作为结合相的材料是因为,通过Al的氧化可以去除吸附在原料粉表面的氧,从而促进烧结反应。
[0003]在传统的立方氮化硼烧结体中,使用包括含有Ti的化合物(以下也称为“Ti化合物”)和含有Al的化合物(以下也称为“Al化合物”)的材料作为结合相的材料。因此,在传统的立方氮化硼烧结体的烧结过程中,通过反应产生Al2O3、AlN和TiB2。
[0004]例如,在专利文献1中,记载了一种立方氮化硼烧结体切削工具,其特征在于,所述立方氮化硼烧结体切削工具以包含立方氮化硼颗粒和结合相的烧结体为工具基体,在所述立方氮化硼烧结体切削工具中,所述烧结体含有大于等于40容量百分比(容量%)小于60容量百分比的立方氮化硼颗粒和下限值为2质量百分比(质量%)的Al,Al质量百分比的上限值设 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种立方氮化硼烧结体,包含立方氮化硼和结合相,所述立方氮化硼的含量为40体积百分比(体积%)以上70体积百分比以下;所述结合相的含量为30体积百分比以上60体积百分比以下;所述立方氮化硼的平均粒径为0.1μm以上3.0μm以下;所述结合相包含TiN和/或TiCN、和TiB2,基本上不包含AlN和/或Al2O3;所述结合相中的TiB2的(101)面的X射线衍射中最大的峰位置(2θ)为44.2
°
以上;当所述立方氮化硼的(111)面的X射线衍射强度为I1、所述结合相中的TiB2的(1...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。