基于电流控制的实验室吸收谱装置以及吸收谱获取方法制造方法及图纸

本发明专利技术的基于电流控制的实验室吸收谱装置以及吸收谱获取方法，通过引入控制器，根据所述探测器采集的在不同能量点下的死时间控制所述X光管的电流处于正常范围内，可以进一步缩短实验室吸收谱的测量时间，有效解决荧光线对吸收谱数据归一化的影响。线对吸收谱数据归一化的影响。线对吸收谱数据归一化的影响。

【技术实现步骤摘要】
基于电流控制的实验室吸收谱装置以及吸收谱获取方法


[0001]本专利技术涉及X射线吸收光谱领域，特别是涉及一种基于电流控制的实验室吸收谱装置以及吸收谱获取方法。

技术介绍

[0002]X射线吸收精细结构(XAFS)可以解析材料的局部电子和原子结构。这种特定元素的XAFS技术包括X射线吸收近缘结构(XANES)和扩展X射线吸收精细结构(EXAFS)，前者对化合物的氧化状态和分子几何结构非常敏感，后者通常用于提取多壳配位数和键长信息。这些技术在催化、储能、锕系化学、环境中的重金属标本等领域有着广泛应用。
[0003]X射线吸收谱作为常规表征工具在大多数大学和研究机构中有很高的需求。由于需要高亮度和能量扫描，X射线吸收谱实验通常在同步辐射光束线上进行。但是稀缺的束线机时不能满足科学家和工业界对XAFS数据日益增长的需求。实验室X射线装置由于其成本效益，以及一旦建成，与任何第三代或第四代辐射设施的光束时间相比，具有无限的普适性而越来越受欢迎。
[0004]实验室X光管包含有阳极和阴极两个电极，分别用于接受电子轰击的靶材和发射电子的熔点较本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于电流控制的实验室吸收谱装置，其特征在于，所述装置包括：控制器、与所述控制器连接的X光管、弯晶分析器、狭缝、样品、探测器以及与所述探测器连接的信号处理系统；其中，所述X光管、弯晶分析器以及探测器分别置于一罗兰圆；所述狭缝以及样品依次设置在所述弯晶分析器与探测器之间；由所述X光管发射的X射线依次经过所述弯晶分析器、狭缝以及样品，由所述探测器接收；所述探测器，用于分别采集在所述探测器前未放置所述样品以及在所述探测器前已放置所述样品的两种情况下在不同能量点下的死时间以及计数强度；所述控制器，用于根据所述探测器采集的在不同能量点下的死时间控制所述X光管的电流；所述信号处理系统，连接所述控制器，用于根据所述在所述探测器前未放置所述样品以及在所述探测器前已放置所述样品的两种情况下在不同能量点下的计数强度以及其所对应的电流来获得在不同能量点下的的吸收系数。2.根据权利要求1中所述的基于电流控制的实验室吸收谱装置，其特征在于，所述控制器包括：初始值设置模块，用于设置对应在所述探测器前未放置所述样品情况下的第一初始电流值以及在所述探测器前已放置所述样品的情况下的第二初始电流值；电流判断模块，用于根据所述探测器采集在所述探测器前未放置所述样品以及在所述探测器前已放置所述样品的两种情况下在不同能量点下的死时间，判断对应的第一初始电流值以及第二初始电流值是否符合标准；若符合标准，将所述第一初始电流值和/或第二初始电流值作为第一最终电流值和/或第二最终电流值；否则，调节所述第一初始电流值和/或第二初始电流值，将调节后的电流值作为第一最终电流值和/或第二最终电流值；最终电流值设置模块，用于将对应所述探测器采集在所述探测器前未放置所述样品以及在所述探测器前已放置所述样品的两种情况下的最终电流值依次设置为第一最终电流值以及第二最终电流值，以供所述探测器在第一最终电流值以及第二最终电流值下分别采集在不同能量点下的的第一计数强度以及第二计数强度。3.根据权利要求2中所述的基于电流控制的实验室吸收谱装置，其特征在于，所述电流判断模块包括：标准判断单元，用于判断所述探测器采集在所述探测器前未放置所述样品以及在所述探测器前已放置所述样品的两种情况下在不同能量点下的死时间是否在标准范围内；若在标准范围内，则判断对应的第一初始电流值和/或第二初始电流值符合标准；否则，判断对应的第一初始电流值和/或第二初始电流值不符合标准；调节单元，连接所述标准判断单元，用于当判断对应的第一初始电流值和/或第二初始电流值不符合标准时且对应的死时间低于所述标准范围的最低值，则增加第一初始电流和/或第二初始电流值，以作为第一最终电流值和/或第二最终电流值；当判断对应的第一初始电流值和/或第二初始电流值不符合标准时且对应的死时间高于所述标准范围的最高值，则降低第一初始电流和/或第二初始电流值，以作为第一最终电流值和/或第二最终电流值。4.根据权利要求2或3中所述的基于电流控制的实验室吸收谱装置，其特征在于，所述
信号处理系统包括：获取模块，用于获取所述第一最终电流值、第二最终电流值以及第一计数强度以及第二计数强度；计算模块，连接所述获取模块，用于基于吸收系数表达式，根据所述第一最终电流值、第二最终电流值以及第一计数强度以及第二计数强度获得在不同能量点下的的吸收系数。5.根据权利要求4中所述的基于电流控制的实验室吸收谱装置，其特征在于，所述吸收系数表达式包括：其中，所述吸收系数A，Current0
‘
为第一最终电流值，Current1
‘
为第二最终电流值，I0'为第一计数强度以及I1'为第二计数强度。6.根据权利要求1中所述的基于电流控制的实验室吸收谱装置，其特征在于，不同能量点由调节所述X光管、弯晶分析器以及探...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁祖谦，刘星，张凯宇，刘鹏，翁祖增，
申请(专利权)人：上海科技大学，
类型：发明
国别省市：