一种体散射匀光片及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种体散射匀光片，采用基片玻璃曝光制备，所述基片玻璃按照如下重量分数组分组成：SiO

【技术实现步骤摘要】
一种体散射匀光片及其制备方法


[0001]本专利技术涉及光学
，特别是涉及一种体散射匀光片及其制备方法。

技术介绍

[0002]散射匀光片，又称为工程散射片，光线通过多次散射、折射的原理，把高斯光转化输出成能量分布均匀化的光斑，可直接插入光路使用，用于许多要求激光束在其工作轮廓上的强度均匀分布的场景，例如激光投影照明、激光加工、非接触式3D检测等，用于制作散射片的材料有表面经过不同颗粒度细砂研磨的毛玻璃、乳白玻璃。
[0003]毛玻璃散射片，采用石英玻璃或者光学玻璃制成均匀平板光学基片，然后利用机械研磨、表面喷砂或者氢氟酸溶蚀的方式，对其背光表面进行加工，使得表面变成磨砂状的光学元件，可以大角度范围扩散入射光，使得光强分布变得均匀；光强分布的均匀性与表面粗糙度密切相关，表面粗糙度越大，光强分布均匀性越好，但是同时存在一定的弊端，短波长光能量损失严重，光学透过率低。
[0004]乳白玻璃，又称漫散射玻璃，是通过在常规高透过率光学玻璃中加入氟化物，使得玻璃内部整体发生乳浊，该种玻璃具有良好的漫透射特性，扩散匀光效果比常规的单面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种体散射匀光片，其特征在于：所述体散射匀光片采用基片玻璃曝光制备，所述基片玻璃按照如下重量分数的组分组成：SiO
2 8～14％、B2O
3 16～21％、ZnO55～62％、Al2O
3 2～11％、ZrF
4 2～7％、Ag2CO
3 0.3～2％。2.根据权利要求1所述的一种体散射匀光片，其特征在于：所述基片玻璃按照上述重量分数进行制备的过程如下，(1)首先，将上述各个组分按照重量百分比配置成混合料，置入球磨机中研磨混合均匀；(2)其次，将第(1)步获得的混合料转入坩埚中进行熔融、澄清和均化，熔融温度介于1350～1420℃；(3)然后，在1200～1300℃下，将熔融状态的玻璃液倒入铝青铜模具内成形，并迅速转入退火炉中进行退火；(4)最后，将退火后的玻璃进行筛选，挑选无气泡、无条纹部分进行切割、研磨、抛光，形成用于制备体散射匀光片的基片玻璃。3.根据权利要求2所述的一种体散射匀光片，其特征在于：上述第(2)步中熔融过程采用石英陶瓷坩埚和铂坩埚组合进行二次熔料的方式进行混合料的熔炼。4.根据权利要求3所述的一种体散射匀光片，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦明海，陈雷华，华露，解圳皓，
申请(专利权)人：苏州东辉光学有限公司，
类型：发明
国别省市：